薄膜物理课件1蒸发源的类型_第1页
薄膜物理课件1蒸发源的类型_第2页
薄膜物理课件1蒸发源的类型_第3页
薄膜物理课件1蒸发源的类型_第4页
薄膜物理课件1蒸发源的类型_第5页
已阅读5页，还剩3页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

薄膜物理课件1：蒸发源的类型蒸发源是制备薄膜的重要部件，掌握不同类型的蒸发源对薄膜制备至关重要。蒸发源的定义和功能蒸发源是一种将物质转化为气态的装置，可以蒸发纯金属、金属合金、氧化物等材料，并在淀积于制备薄膜表面，用来形成先进功能材料和器件。电子束蒸发源原理介绍通过加热材料，并用高能电子束轰击材料表面，使其蒸发在薄膜表面上。尺寸和形状的选择选用适当的材料体积和电子束功率，以获得所需薄膜性能。常用制作金属导体材料和半导体薄膜。实际应用常应用于制备具有高电导率、良好成膜性和均匀性的金属、合金、半导体材料。电阻加热蒸发源原理介绍在蒸发源表面加热，使其材料蒸发，并在薄膜表面上结晶成膜。优点和缺点相比于电子束蒸发源，价格更便宜，占用更少的空间，但是不易精确控制沉积速率和均匀性较差。实际应用常用于制备氧化物、氮化物、约瑟夫森接触、元件薄膜制备等领域。溅射蒸发源1原理介绍通过离子轰击材料并溅射表面原子沉积于衬底表面形成薄膜。2分类和特点包括射频溅射、直流溅射、高压溅射等。可提高薄膜致密度、附着力和均匀性等。3实际应用与其他制备技术相比，具有成膜速度快、较低的制备温度和高质量薄膜形态等优点，适用于制备高质量金属、半导体和氧化物薄膜。恒温蒸发源原理介绍通过控制恒定温度，使材料持续蒸发在薄膜表面。优点和缺点具有晶体结构好、薄膜致密性较强等优点，但制备过程难度较大。实际应用常用于制备合金、氧化物、氮化物、多层、压电、超导等薄膜。比较不同类型的蒸发源原理电子束：通过电子束轰击；电阻热：表面加热蒸发；恒温：控制温度；溅射：离子轰击材料并溅射表面原子沉着。优缺点电子束：薄膜均匀性好，成本高；电阻热：易操作，成本较低，但均匀性差；恒温：均匀性好，操作难度大；溅射：速度快、可控制性强，但贵。实际应用电子束：金属、半导体、氧化物；电阻热：氧化物、约瑟夫森接触、元件；恒温：合金、多层、超导；溅射：金属、半导体、氧化物等。结论不同的蒸发源适用于不同类型的材料

人人文库> 全部分类> 教育资料 > 课件下载

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论