2023年中国溅射靶材行业研究报告 -核心技术飞跃靶材国产化速度加快

行行查简介 名词解释（1/2） 名词解释（2/2）eeeeNNSNNS分类标准产品类别按形状分类按化学成份分类按应用领域分类靶体材质 金属靶材陶瓷靶材合金靶材铝靶材钛靶材铜靶材钼靶材TO靶靶体材质 金属靶材陶瓷靶材合金靶材铝靶材钛靶材铜靶材钼靶材TO靶体ZO靶体氧化锌靶体氧化镁靶体铁钴靶体铝硅靶体钨钛靶体钛硅靶体 应用领域金属材料类型性能特点基板沉积形成薄膜●e沉积形成薄膜ArAr+靶原子Ar+靶原子靶坯背板 S N S极板→→靶原子E沉积形成薄膜→→靶原子E沉积形成薄膜基板靶胚背管磁杆性能指标对靶材质量影响 中国溅射靶材产业逐渐成熟，技术水平不断提高，产品品质得到了广泛认可中国溅射靶材产业逐渐成熟，技术水平不断提高，产品品质得到了广泛认可，逐渐成为全球溅射靶材产业的重要力量中国溅射靶材产业进入快速发展阶段，涌现出一批优秀的企业，如江丰电子、阿石创、隆达电子等第一块国产半导体工业用溅射靶材在江丰电子的生产线上诞生，填补了国内溅射靶材工艺的空白中国开始研究开发本土溅射靶材，并在有色金属冶炼、电子信息、光学、磁性材料等领域得到应用中国工程院院士材料学专家何季麟带领团队成功研制出高性能ITO溅射靶材，实现了高端ITO靶材从0到1的突破。同年重庆大学刘庆教授团队研制超高纯金属靶材项目也获得了国家技术发明二等奖，同样实现0的突破，让中国芯片拥有高端靶材 0年代初0年代初纪初20052020中国开始引进溅射镀膜技术，主要用于建筑玻璃和手表玻璃上 溅射靶材金属与合金分类磁记录媒体的磁记录层：物理信号转化为电信号，通过铁氧的法拉第效应，将磁记录信息转为电信号，再转号中低档玻璃镀膜靶材发热膜和热反射膜靶材 显示器薄膜靶材集成电路薄膜靶材磁记录和光记录媒体靶材及其他应用中低档玻璃镀膜靶材发热膜和热反射膜靶材 显示器薄膜靶材集成电路薄膜靶材磁记录和光记录媒体靶材及其他应用 碳化硅碳化硅靶材陶瓷靶材氮化硅靶材氧化镁靶材检测指标检测方法e+-■■N ■e+-■■N ■■S一磁控组件 +-保证溅射成膜的均匀性和溅射速度多数靶材(铜、钦、铝及其他)在溅射前须与背板绑定从而确保其溅利用精密机台使靶材的尺寸和形 金属型浇注晶粒小于砂型浇注，散热速度快浇注温度控制，浇注温度低，散热慢薄壁件晶粒小于浇注温度控制，浇注温度低，散热慢厚大件的表面晶粒比心部小，散热速度快ArcArArccccArcccArNSN冷却水冷却水SNSArcArArccccArcccArNSN冷却水冷却水SNS 衬底ArArArAr等离子区等离子区等离子区Ar靶材靶材原子氩原子靶材Ar氩离子对比指标蒸发镀膜溅射镀膜离子镀膜通过在真空中加热蒸发某种物质使其产生金属蒸气沉积（凝聚）在固用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子0.1-1大小小中大0.01-0.50.1-50中频感应烧结退火绑定加工中频感应烧结退火绑定加工机加工 检验、交货绑定加工ITO靶材机加工检验、交货检验、交货材料纯化离子交换置换沉淀溶剂萃取电解精炼 材料纯化离子交换置换沉淀溶剂萃取电解精炼 火法提纯物理提纯法蒸发、凝固、结移化学提纯法湿法提纯化学提纯法离子交换离子交换氯化精馏氯化精馏歧化分解歧化分解熔盐电解熔盐电解碘化热分解碘化热分解溶析精炼溶析精炼金属有机物热分解金属有机物热分解区域熔融法区域熔融法单晶法单晶法真空蒸馏法真空蒸馏法电迁移法电迁移法偏析提纯法偏析提纯法具体分类在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以在高真空室内，利用电子枪发射出的电子束对待熔炉料进行轰原材料塑性变形再结晶过程（TMP）塑性加工塑性加工热处理晶粒尺寸检查晶相取向检查清洗-干燥-包装检测尺寸检查、成分检查、外观检查机加焊接超高纯铝铸锭切断净化室作业清洗干燥包装焊接强度检查焊接结合率检查包装检查、文件检查合金成分检查不纯物检查 机加 -半导体芯片上的微型晶体管（溅射前）微型晶体管之间形成的金属导线（溅射后）涂布光阻刻蚀涂布光阻刻蚀 4N55N晶粒尺寸平均尺寸＜30μm纯度结晶取向纯度60%以上(1013)尺寸精度焊接性能尺寸精度界面强度高，变形抗力较好 芯片设计 晶圆制造 芯片封装 芯片测试电路设计设计版图制作光罩电路设计设计版图制作光罩晶圆裸片晶圆裸片金属溅镀光阻取出光阻取出晶片切割晶片切割贴片焊线塑封工艺电缆成形成品测试芯片成品成品测试芯片成品铝靶、铜靶钼靶、铬靶铝靶、铜靶钼靶、铬靶 导电层薄膜导电层薄膜阻挡层薄膜阻挡层薄膜透明导电层薄膜透明导电层薄膜 PDP面板仪表显示屏等屏显玻璃基板镀膜材料触控屏面板触控屏手机、PDP面板仪表显示屏等屏显玻璃基板镀膜材料触控屏面板触控屏手机、平板电脑 靶材类型在LCD中的使用情况在OLED中的使用情况与其他金属组成的合金材料常用作玻璃基与其他金属组成的合金材料常用作玻璃基板电极布线膜材料或遮电极布线膜的基底层材料、金属薄膜的电电极布线膜的基底层材料、金属薄膜的电极或阻挡层材料，也可-金属原材料金属提纯合金原材料铝铜钽钛其他原料硅钨铌终端应用金属原材料金属提纯合金原材料铝铜钽钛其他原料硅钨铌终端应用 靶材制造下游应用厂商溅射镀膜靶材制造下游应用厂商溅射镀膜 科技开发职能信息咨询职能仓储运输职能贸易代理职能生产参与职能金融服务职能....回收钽靶回收钽靶在产品研发及设计前期，与终端客溅射靶材企业高纯钽回收钽靶回收钽靶在产品研发及设计前期，与终端客溅射靶材企业高纯钽纯钽纯钛供应商钽靶、钛靶国际下游客户即根据订单制定生产计划，实行高纯钛回收钛靶回收钛靶 00 050 00 媒体等 制造用超高纯金属材料及溅射靶材的研发生产的企破专业从事电子信息靶材、难熔金属材料及深加工制政策名称颁布单位主要内容《国家集成电路产业发展推进纲要》(2019年版)》《新材料产业“十三五”发展规划》《新材料产业“十三五”重点产品目录》政策名称颁布单位主要内容规划》《信息产业发展指南》《有色金属工业发展规划(2016-2020年)》《新材料产业发展指南》《中国制造2025》 囱ENEOS控股公司）诞燃通用石油合并成立 颗粒度低颗粒度低AgAlSeAsS6N高纯铜0.050.002~0.0.001~0.0.1~0.30.004~0.20.019N高纯铜<0.005<0.001<0.001<0.005<0.001<0.005<0.005<0.005<0.001<0.0056N低硅级铟7N高流动性级铟7N超高流动性级铟6N高纯碲7N高纯碲 企业”.荷兰。..铝及铝合金靶材；钛靶材及钛专利名称↑↑