西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件

微电子制造技术第章光刻:对准和曝光微电子制造技术1概述对准就是把所需图形在硅片表面上定位或对准。而曝光是通过曝光灯或其它辐射源将图形转移到光刻胶涂层上。如果说光刻胶是光刻工艺的“材料”核心,那么对准和曝光则是该工艺的“设备”核心。图形的准确对准是保证器件和电路正常工作的决定性因素之一。因为最终的图形是用多个掩膜版按照特定的顺序在晶园表面一层一层叠加建立起来的。图形定位的要求就好像是一幢建筑物每一层之间所要求的正确对准。如果每一次的定位不准,将会导致成品率下降或者整个电路失效。微电子制造技术电信学院微电子学系2概述2掩膜版上设计的每一层图形都有一个特殊功能,如接触孔、MOS的源漏区或金属线等光刻过程中掩膜版把这些图形彼此套准来制成硅片上的器件或电路。版图套准过程有对准规范,就是前面提出的套准容差。怎样精确地把亚微米尺寸套准,对光学光刻提出了特殊的对准挑战微电子制造技术电信学院微电子学系3掩膜版上设计的每一层图形都有一个特3学习目标1.解释光刻中对准和曝光的目的;2.描述光刻中光的特性及光源的重要性;3.了解光学系统对光刻工艺的重要性4.解释分辨率,说明它对光刻的重要性:5.了解光刻中获得精确对准的方法。微电子制造技术电信学院微电子学系4学习目标4UV光源快门对准曝光快门在聚焦和对准过程闭合,而在曝光过程投影掩膜版(在投影掩膜版视场内可能包含个或多个芯片)投影透镜(缩小的投影掩膜版的视场到片表面)单视场曝光,包括:聚焦步进和重承片台在X,Y,Z,方向控制硅片的位置gure14.l掩模版图型转移到光刻胶上微电子制造技术电信学院微电子学系5UV光源5西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件6西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件7西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件8西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件9西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件10西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件11西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件12西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件13西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件14西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件15西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件16西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件17西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件18西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件19西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件20西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件21西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件22西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件23西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件24西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件25西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件26西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件27西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件28西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件29西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件30西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件31西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件32西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件33西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件34西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件35西安交通大学微电子制造技术第十四光刻课件36西安交通大学微电子制造技术第十四光