接近接触式紫外光刻机立项草案_第1页
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文档简介

ICS31-030

GB/TXXXXX—接近/接触式紫外光刻Contact/proximityUV点击此处添加与国际标准一致性程度的标XXXX-XX-XX发 XXXX-XX-XX实 前 范围 规范性文件 型号编 要求 试验方 检验规 包装 本标准按照GB/T1.1—2009 、名容、 规范性文GB/T191—2008GB/T2423.1—2008电工电子产品环境试验第2A:低温GB/T2423.2—2008电工电子产品环境试验2B:GB/T2423.10—2008电工电子产品环境试验第2Fc:振动(正弦)GB4793.1—2007测量、控制和试验室用电气设备的安全要求第1GB5080.7—1986案GB/T18268.1—2010测量、控制和用的电设备电磁兼容性要求第1部分:通用要接近/接触式紫外光刻机contact/proximityUV利用紫外光源通过接近或接触方式将掩模版图形在涂有光致抗蚀剂的基片上,借助显影而实接近proximity接触contact真空vacuumed有效照明面积exposure照明光照射在掩模面上满足要求的最大区域对准精度基片与掩模对准完成后,基片上两个标志与掩模板上对应两个标志分别在X、Y正面对准top-side底面对准bottom-side双面对准dual-side对准工件台aligning照明不均匀性nonuniformityof照明光强illumination 功能属性代号(J:,N:纳米压印功能)性能属性代号(1)类别属性代号(2)1性能属性代码表代AB4寸手动2类别属性代码表代类别属-SLDF电源:AC220V±22V,50Hz±1Hz;空气洁净度:100003照明不均匀性≤2%≤1μm4掩模架尺寸要求76.2101.6127177.8照明系统时间设置范平动(X、Y)调节、转动调节和垂直升降(Z)功能,Z向调节幅度满足不同厚度样片的需求。≥2MΩ10.0mA。GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.21GB/T18268.1—20106.215气候环境适应性试验项试验条持续时恢复时状检验项温度:-6机械环境适应性试验项试验条检测项振动试振幅值≥1000h≥24h电源:AC220V±22V,50Hz±1Hz;空气洁净度:10000 (1: +=Ιi]max-[Ιi]min100% +i i (2:iTiTi

100%tt T (3:[t][tRimax imin100%(3)X、YX、YX、YX、Y用显微镜观察对基片进行显影后的图形线条,以能分清的最小线条宽度作为光刻分辩力测量照明系统时间设置范X、YZ GB4793.1—20076.3.1GB4793.1—20076.8.3GB/T18268.1—20106.2BGB/T18268.1—20106.2BGB/T18268.1—20106.2AGB/T18268.1—20106.2BGB/T18268.1—20106.2BGB/T18268.1—20106.2AGB/T18268.1—20106.2BGB/T2423.1—20085.2Ab”GB/T2423.2—20085.2Bb”G

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