半导体清洗工艺课件

半导体清洗工艺超声波清洗

超声波清洗工艺超声波清洗技术以其清洗洁净、清洗快速，并节省大量人力、物力而得到广泛应用。现从超声波的清洗原理、超声波清洗工艺、清洗剂的配制等几个方面提供意见，以供参考。

一、超声波清洗原理

超声波清洗机理极为复杂，到目前为止，还有许多问题有待研究人员论证，目前，相关人员对以下提法形成了共识，利用超声场所产生强大的作用力，以促使物质发生一系列物理、化学变化而达到清洗目的。具体来说：当超声波的高频(20-50KHZ)机械振动传给清洗液介质以后，液体介质在这种高频波振动下将会产生近真空的“空腔泡”，“空腔泡”对清洗对象的强烈的作用称为“空化作用”。

二、清洗剂的配制

在讨论清洗剂的配制时，首先要想到清洗剂对污物的清洗原理及清洗过程。洗涤历史虽然已久，但因洗涤过程及体系的高度复杂，至今理论界对之仍只具备理论上研究而对洗涤过程难以达到数据控制。这是因为溶液体系是多相分散体系。分散介质又是含有各式各样组分的复杂溶液：体系中涉及的表面和界面，及污垢的性质都极为复杂。具体到光学镜片镀膜前的清洗，简言之：由于清洗液的存在，使水的表面张力得到极大程度的降低，并使固液面发生极大程度的润湿、渗透、乳化等一系列的化学作用，从而使污物脱离固体表面而使镜片表面干净、无尘。

超声波清洗工艺光学镜片加工中不同的工序应有不同的清洗工艺，从整体流程看，可分为四道工序：洗涤、漂洗、脱水、干燥。洗涤主要利用有机溶剂如三氯乙烯对上盘胶、蜡、防霉剂等的高度溶解而达预洗目的，然后利用洗涤剂对镜片表面的湿润、渗透、乳化而综合成的去污作用。漂洗，通过清水对镜片表面的冲洗及超声作用，使洗涤后松散于镜片表面的洗涤剂脱离镜片表面。

脱水：经漂洗后的镜片表面含有大量水分，进入脱水剂中进行脱水，脱水剂多为有机溶剂，和水能充分混溶。

干燥：干燥剂应和脱水剂沸点相近，互溶性好。

华林科纳简介

CSEBriefIntroduction苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资成立于2008年3月，投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发、技术推广和生产销售。

SuzhouCSESemiconductorEquipmentTechnologyCo.,Ltd.,isajoint-stockenterpriseinvestedbyCASSuzhouInstituteofNano-techandNano-bionicsandBeijingHLCo.,whichwassetupinMar.2008anditsregisteredcapitalis45millionRMB.TheCompany’smajorproductsaresemiconductorequipments,solarphotovoltaicequipments,LCDcleaningfacilities,vacuumequipmentsandetc.清洗设备资料上料机械手下料背部上下位移边路控制水平传动槽体全自动硅料清洗设备

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设备构成

面向设备，左端上料，右端下料，触摸屏于左前端。设备由本体、进料工位、超声槽（个）、酸洗槽（1个）、三阶溢流槽（1套）、氮气切水槽（1个）、真空烘干槽（3个）、出料工位、电气控制部分等组成。联系我们苏州华林科纳半导体设备技术有限公司地址：苏州工业园区独墅湖高等教育区若水路398号联系人：王丽娟电话箱：网址：SuzhouCSESemiconductorEquipmentTechnology