材料分析方法总复习课件

总复习1.倒易矢（倒格矢）和它所代表的平行晶面的关系

2.晶带定理和零层倒易面

3.会画出立方晶系和正方晶系的以简单的晶向指数为晶带轴的零层倒易面

主要公式：晶带定理：Hu+Kv+Lw=0倒格基矢和正格基矢的关系：正交晶系:a*=1/a,b*=1/b,c*=1/c；*=*=*=90

方向和各对应的正格矢的方向相同，立方和正方包含在正交晶系，是其特殊情况第一章第二章1.X射线的本质是什么，其主要的发展历史？2.连续X射线是如何产生的？什么是短波限？3.特征X射线是如何产生的？得到单一波长的X射线的方法？4.特征X射线和元素的关系由什么定律来联系？5.电子被激发和电子跃迁的能级示意图？6.什么是K系激发和K系跃迁，7.靶和滤波片的关系，靶和样品的关系主要公式:莫塞来定律X射线短波限λ0

V的单位用kV倒易球反射球2θO1/λ2/λ1/dHKL极限球衍射产生的充分必要条件：衍射必要条件(衍射矢量方程或其它等效形式)加F2≠0。原子散射因子：衍射方向和衍射强度四种基本类型点阵的系统消光规律布拉菲点阵出现的反射消失的反射简单点阵全部没有底心h+k偶数h+k奇数体心(h+k+l)偶数(h+k+l)奇数面心h,k,l全奇或全偶h,k,l有奇有偶1.X射线衍射仪

基本组成：X射线发生器、X射线测角仪、辐射探测器、辐射探测电路、控制操作和运行软件等。成像原理：厄瓦尔德图解衍射花样：强度(I)对位置(2)的分布(I－2曲线)衍射特点：a）X射线有一定发散度,且光源不动,样品台和计数管以1:2的角速度绕中心轴转动b)SOF在同一聚焦圆上，c）参与散射的晶面平行于平板样品的表面d)聚焦圆半径随布拉格角θ的变化而变化e)θ的角度从0到90度变化时,d的大小从大变小,所能测得的最小的间距为λ/2第四章计算题：利用布拉格方程计算晶面间距，晶格常数，根据消光规律做指数标定三级放大成像MT

=MOMIMP2.透射电镜的放大倍数1.电子束与固体作用时激发的信号？第五章第六章立方晶系多晶电子衍射关系式：

对X射线衍射3.连比规律(立方晶系)（a）明场像(b)暗场像(c)中心暗场像成像操作光路图直射束成像衍射束成像衍射束成像明场像与暗场像的衬度相反5.成像的基本模式6.ＴＥＭ主要的透镜和位置及其作用样品上面聚光镜样品下面物镜物镜下面中间镜投影镜中间镜下面7.ＴＥＭ主要的光栏和位置及其作用聚光镜光栏第二聚光镜下面物镜光栏物镜背焦面处中间镜光栏（选区光栏）物镜像平面处（1）不引起材料组织的变化（2）足够薄，否则将引起薄膜内不同层次图象的重迭，干扰分析（3）薄膜应具有一定的强度，具有较大面积的透明区域（4）制备过程应易于控制，有一定的重复性，可靠性8.透射电镜薄膜试样的要求和制备方法1.放大倍数Ac→荧光屏上扫描幅度，AS→样品上扫描幅度数倍—80万倍SEM的主要性能：第八章2.分辨率

二次电子SE5～10nm背散射电子BE50～200nm特征X射线100～1000nm俄歇电子AE5～10nm扫描电镜的衬度原理

二次电子成像衬度

背散射电子成像衬度一、成分衬度背散射系数η随原子序数Z增大而增大二次电子不明显二、形貌衬度二次电子成像的主要衬度来源背散射电子由于不好控制，而且作用体积比较大所以形貌分析效果不及二次电子电子探针仪能谱仪波谱仪按光子能量展谱，Si(Li)探测器按光子波长展谱，分光晶体电子探针的工作方式：分析某种元素沿一条线的分布，固定检测这种元素的特征X射线点分析线分析面分析全谱分析，分析微小区域的元素组成分析某种元素沿一个面的分布，固定检测这种元素的特征X射线Si(Li)能谱仪的特点

优点：(1)定性分析速度快

可在几分钟内分析和确定样品中含有的几乎所有元素。

铍窗口：11Na~92U，新型材料窗口：4Be~92U

(2)灵敏度高X射线收集立体角大，空间分辨率高。

(3)谱线重复性好

适合于比较粗糙表面的分析工作。缺点：(1)能量分辨率低，峰背比低。能谱仪的能量分辨率(130eV)比波谱仪的能量分辨率(5eV)低。(2)工作条件要求严格。Si(Li)探头必须始终保持在液氦冷却的低温状态。(3)定量分析精度不如波谱仪。DTA、TG和DSC热分析的概念原理和分析方法。简述几个简单矿物的失重过程的原因和具体的反应。发射分子光谱原子光谱