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第15章半导体二极管和三极管1导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体。绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。15.1半导体的导电特性2半导体的导电机理不同于其它物质,所以它具有不同于其它物质的特点。例如:当受外界热和光的作用时,它的导电能力明显变化。往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使它的导电能力明显改变。1.掺杂性2.热敏性和光敏性3在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相临的原子之间形成共价键,共用一对价电子。硅和锗的晶体结构:通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。5硅和锗的共价键结构共价键共用电子对+4+4+4+4+4表示除去价电子后的原子6共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结构。共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。+4+4+4+47+4+4+4+4自由电子空穴束缚电子92.本征半导体的导电机理+4+4+4+4在其它力的作用下,空穴吸引附近的电子来填补,这样的结果相当于空穴的迁移,而空穴的迁移相当于正电荷的移动,因此可以认为空穴是载流子。本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自由电子和空穴。10温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。本征半导体中电流由两部分组成:

1.自由电子移动产生的电流。2.空穴移动产生的电流。(在本征半导体中自由电子和空穴成对出现,同时又不断的复合)11一、N型半导体在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷,晶体中的某些半导体原子被杂质取代,磷原子的最外层有五个价电子,其中四个与相邻的半导体原子形成共价键,必定多出一个电子,这个电子几乎不受束缚,很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子。13+4+4+5+4多余电子磷原子N型半导体中的载流子是什么?1.由磷原子提供的电子,浓度与磷原子相同。2.本征半导体中成对产生的电子和空穴。掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。14二、P型半导体在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼(或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的半导体原子形成共价键时,产生一个空穴。这个空穴可能吸引束缚电子来填补,使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。+4+4+3+4空穴硼原子P型半导体中空穴是多子,电子是少子。15总结2.N型半导体中电子是多子,其中大部分是掺杂提供的电子,N型半导体中空穴是少子,少子的迁移也能形成电流,由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。近似认为多子与杂质浓度相等。3.P型半导体中空穴是多子,电子是少子。1.本征半导体中受激产生的电子很少。1715.2.1PN结的形成在同一片半导体基片上,分别制造P型半导体和N型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成了PN结。15.2PN结18P型半导体------------------------N型半导体++++++++++++++++++++++++扩散运动内电场E漂移运动扩散的结果是使空间电荷区逐渐加宽。内电场越强,漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。空间电荷区,也称耗尽层。19------------------------++++++++++++++++++++++++空间电荷区N型区P型区电位VV0211.空间电荷区中没有载流子。2.空间电荷区中内电场阻碍P区中的空穴.N区

中的电子(都是多子)向对方运动(扩散运动)。3.P区中的电子和N区中的空穴(都是少),数量有限,因此由它们形成的电流很小。小结22(1)加正向电压(正偏)——电源正极接P区,负极接N区

外电场的方向与内电场方向相反。

外电场削弱内电场→耗尽层变窄→扩散运动>漂移运动→多子扩散形成正向电流IF正向电流

15.2.2PN结的单向导电性23PN结加正向电压时,具有较大的正向扩散电流,呈现低电阻,PN结导通;

PN结加反向电压时,具有很小的反向漂移电流,呈现高电阻,PN结截止。

由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。2515.3半导体二极管15.3.1基本结构PN结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。引线外壳线触丝线基片点接触型PN结面接触型PN二极管的电路符号:阳极+阴极-2615.3.2伏安特性UI死区电压硅管0.5V,锗管0.1V。导通压降:硅管0.6~0.7V,锗管0.2~0.3V。反向击穿电压UBR274.反向电流IR指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。反向电流受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流要比硅管大几十到几百倍。295.微变电阻rDiDuDIDUDQiDuDrD是二极管特性曲线上工作点Q附近电压的变化与电流的变化之比:显然,rD是对Q附近的微小变化区域内的电阻。306.二极管的极间电容(结电容)二极管的两极之间有电容,此电容由两部分组成:势垒电容CB和扩散电容CD。势垒电容:势垒区是积累空间电荷的区域,当电压变化时,就会引起积累在势垒区的空间电荷的变化,这样所表现出的电容是势垒电容。当外加电压发生变化时,耗尽层的宽度要相应地随之改变,即PN结中存储的电荷量要随之变化,就像电容充放电一样。31当外加正向电压不同时,PN结两侧堆积的少子的数量及浓度梯度也不同,这就相当电容的充放电过程。电容效应在交流信号作用下才会明显表现出来扩散电容:为了形成正向电流(扩散电流),注入P区的少子(电子)在P区有浓度差,越靠近PN结浓度越大,即在P区有电子的积累。同理,在N区有空穴的积累。正向电流大,积累的电荷多。这样所产生的电容就是扩散电容.32CB在正向和反向偏置时均不能忽略。而反向偏置时,由于载流子数目很少,扩散电容可忽略。PN结高频小信号时的等效电路:势垒电容和扩散电容的综合效应rd33二极管:死区电压=0.5V,正向压降0.7V(硅二极管)理想二极管:死区电压=0,正向压降=0RLuiuouiuott二极管的应用举例1:二极管半波整流二极管的应用是主要利用它的单向导电性,主要应用于整流、限幅、保护等等。34二极管的应用举例2:tttuiuRuoRRLuiuRuo3515.4稳压二极管UIIZIZmaxUZIZ稳压误差曲线越陡,电压越稳定。+-UZ动态电阻:rz越小,稳压性能越好。36(4)稳定电流IZ、最大、最小稳定电流Izmax、Izmin。(5)最大允许功耗稳压二极管的参数:(1)稳定电压UZ(2)电压温度系数U(%/℃)稳压值受温度变化影响的的系数。(3)动态电阻37在电路中稳压管只有与适当的电阻连接才能起到稳压作用。UIIZIZmaxUZIZUZ38稳压二极管的应用举例uoiZDZRiLiuiRL稳压管的技术参数:解:令输入电压达到上限时,流过稳压管的电流为Izmax——方程1要求当输入电压由正常值发生20%波动时,负载电压基本不变。求:电阻R和输入电压ui的正常值。39令输入电压降到下限时,流过稳压管的电流为Izmin。——方程2uoiZDZRiLiuiRL联立方程1、2,可解得:40光电二极管反向电流随光照强度的增加而上升。IU照度增加41发光二极管有正向电流流过时,发出一定波长范围的光,目前的发光管可以发出从红外到可见波段的光,它的电特性与一般二极管类似。4215.5.1基本结构BECNNP基极发射极集电极NPN型PNP集电极基极发射极BCEPNP型15.5半导体三极管43BECNNP基极发射极集电极基区:较薄,掺杂浓度低集电区:面积较大发射区:掺杂浓度较高44BECNNP基极发射极集电极发射结集电结45BECIBIEICNPN型三极管BECIBIEICPNP型三极管符号46ICmAAVVUCEUBERBIBECEB一.一个实验15.5.2电流分配和放大原理47结论:1.IE=IC+IB3.IB=0,IC=ICEO4.要使晶体管放大,发射结必须正偏,集电结必须反偏。48二.电流放大原理BECNNPEBRBECIE基区空穴向发射区的扩散可忽略。IBE进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IBE

,多数扩散到集电结。发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。49BECNNPEBRBECIE集电结反偏,有少子形成的反向电流ICBO。ICBOIC=ICE+ICBOICEIBEICE从基区扩散来的电子作为集电结的少子,漂移进入集电结而被收集,形成ICE。50IB=IBE-ICBOIBEIBBECNNPEBRBECIEICBOICEIC=ICE+ICBO

ICEIBE51ICE与IBE之比称为电流放大倍数52一.输入特性UCE1VIB(A)UBE(V)204060800.40.8工作压降:硅管UBE0.6~0.7V,锗管UBE0.2~0.3V。UCE=0VUCE=0.5V死区电压,硅管0.5V,锗管0.1V。15.5.3特性曲线53二、输出特性IC(mA)1234UCE(V)36912IB=020A40A60A80A100A此区域满足IC=IB称为线性区(放大区)。当UCE大于一定的数值时,IC只与IB有关,IC=IB。54IC(mA)1234UCE(V)36912IB=020A40A60A80A100A此区域中UCEUBE,集电结正偏,IB>IC,UCE0.3V称为饱和区。55IC(mA)1234UCE(V)36912IB=020A40A60A80A100A此区域中:IB=0,IC=ICEO,UBE<死区电压,称为截止区。56输出特性三个区域的特点:放大区:发射结正偏,集电结反偏。即:IC=IB,且IC

=

IB(2)饱和区:发射结正偏,集电结正偏。即:UCEUBE

IB>IC,UCE0.3V

(3)截止区:

UBE<死区电压,IB=0,IC=ICEO

0

57三、主要参数前面的电路中,三极管的发射极是输入输出的公共点,称为共射接法,相应地还有共基、共集接法。共射直流电流放大倍数:工作于动态的三极管,真正的信号是叠加在直流上的交流信号。基极电流的变化量为IB,相应的集电极电流变化为IC,则交流电流放大倍数为:1.电流放大倍数和

58例:UCE=6V时:IB=40A,IC=1.5mA;IB=60A,IC=2.3mA。在以后的计算中

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