标准解读
GB/T 26332.1-2018《光学和光子学 光学薄膜 第1部分:定义》与GB/T 26332.1-2010版本相比,在多个方面进行了修订和完善。主要变化体现在以下几个方面:
一、标准名称的调整,从“光学和光学仪器”变更为“光学和光子学”,这一变动反映了技术领域扩展的趋势,更准确地涵盖了当前该领域的研究范围。
二、术语定义上有所更新。新版本中对一些关键概念进行了重新定义或补充说明,以更好地适应行业发展需求和技术进步。例如,对于某些特定类型的光学薄膜材料及其性能指标有了更加明确详细的描述。
三、增加了新的内容。随着科学技术的发展,出现了一些新技术、新材料以及新应用领域,因此2018版标准新增了若干相关条目,旨在为这些新兴方向提供标准化指导和支持。
四、结构布局优化。为了使标准更具逻辑性和易读性,2018年版本对原有章节进行了适当调整,并且通过增加示例等方式增强了其实用价值。
五、参考文献更新。鉴于科学研究成果日新月异,新版标准也相应地更新了所引用的国内外标准及其他参考资料列表,确保信息的时效性和权威性。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2018-03-15 颁布
- 2018-10-01 实施
文档简介
ICS17180
N30.
中华人民共和国国家标准
GB/T263321—2018/ISO9211-12010
.代替:
GB/T26332.1—2010
光学和光子学光学薄膜
第1部分定义
:
Opticsandphotonics—Opticalcoatings—
Part1Definitions
:
(ISO9211-1:2010,IDT)
2018-03-15发布2018-10-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/T263321—2018/ISO9211-12010
.:
目次
前言
…………………………Ⅲ
范围
1………………………1
基本定义
2…………………1
按功能定义薄膜
3…………………………4
常见的薄膜缺陷定义
4……………………4
其他术语和定义
5…………………………6
附录资料性附录常见的薄膜缺陷的显微照片
A()……………………7
参考文献
……………………16
Ⅰ
GB/T263321—2018/ISO9211-12010
.:
前言
光学和光子学光学薄膜分为以下个部分
GB/T26332《》4:
第部分定义
———1:;
第部分光学特性
———2:;
第部分环境适应性
———3:;
第部分规定的试验方法
———4:。
本部分为的第部分
GB/T263321。
本部分按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本部分代替光学和光学仪器光学薄膜第部分定义
GB/T26332.1—2010《1:》。
本部分与相比主要技术变化如下
GB/T26332.1—2010,:
更改了标准的名称
———;
删除了微划痕大溅点大微粒和孔径锥角个术语
———“”“”“”“”4;
删除了术语通光孔径的别名有用区域
———“”“”;
附录中的手绘图片均改为显微照片
———A;
对部分文字表述进行了调整
———;
将术语细划痕改为发状划痕
———“”“”;
将术语薄膜空隙改为薄膜空缺
———“”“”;
将术语相变改为相移
———“”“”;
将术语溅点改为喷溅点
———“”“”;
将术语裂纹改为断裂
———“”“”;
将术语龟裂改为裂纹
———“”“”;
将术语污点改为色斑
———“”“”;
将术语剥离改为剥落
———“”“”。
本部分使用翻译法等同采用光学和光子学光学薄膜第部分定义
ISO9211-1:2010《1:》。
本部分由中国机械工业联合会提出并归口
。
本部分起草单位沈阳仪表科学研究院有限公司浙江大学大连化学物理研究所同济大学沈阳
:、、、、
汇博光学公司杭州科汀光学技术有限公司
、。
本部分主要起草人高鹏阴晓俊费书国孙龙章岳光王占山顾培夫程鑫彬邓淞文王峰
:、、、、、、、、、、
赵帅锋王瑞生王银河徐秋玲殷波
、、、、。
本部分所替代标准的历次版本发布情况为
:
———GB/T26332.1—2010。
Ⅲ
GB/T263321—2018/ISO9211-12010
.:
光学和光子学光学薄膜
第1部分定义
:
1范围
规定了在光学元器件及基片表面镀制的光学薄膜的应用功能分类技术指标的标准
GB/T26332、
表述形式常规特性及试验测量方法但不拟用于规定镀制方法
、,。
不适用于眼科光学眼镜的光学薄膜
GB/T26332()。
的本部分界定了光学薄膜的相关术语包括基本定义按功能定义薄膜常见的薄膜
GB/T26332,、、
缺陷定义其他术语和定义
、。
2基本定义
21镀膜表面
.
211
..
元件和基片的表面镀膜surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates
使用一种或多种材料在元件表面镀膜用以改变元件原表面的光学物理或化学性质
,,、。
注基片被视为是几何完美和光学均质的在实际操作中将基片及其表面作为一个整体进行检验测量
:。,。
212
..
入射介质incidentmedium
光射入薄膜前经过的介质
。
213
..
出射介质emergentmedium
光射出薄膜后进入的介质
。
注基片除了作为薄膜的机械支撑基底也是薄膜的入射和或出射介质
:,()。
22镀膜表面的光学特性
.
221概述
..
镀膜表面的光学特性可以用分光光度值来描述这些特性与电磁波传播的能量辐射或发光相关
,(),
并为波长入射角偏振态的函数另外散射也是影响镀膜表面光学特性的因素
、、。,。
注1在表述与光谱相关的函数时通常将波长λ写入圆括号内作为符号的一部分来表示
:,。
注2波长λ可用波数σ或光子能量hν来代替h普朗克常数ν频率建议波长的单位为纳米或微
:
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