标准解读
《GB/T 19199-2003 半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法》是一项由中国发布的国家标准,旨在规定测定半绝缘砷化镓(GaAs)单晶材料中碳元素含量的红外光谱吸收检测技术的具体操作规程和要求。以下是该标准的主要内容概述:
标准适用范围
本标准适用于测量半导体材料——半绝缘砷化镓单晶中的碳浓度,通过红外吸收光谱分析技术来实现定量测定。半绝缘砷化镓因其独特的电学性质,在微电子和光电子器件制造领域具有重要应用。
测试原理
测试基于碳原子在特定波长下的红外吸收特性。当红外光穿过含有碳的砷化镓样品时,碳原子会吸收特定频率的红外辐射,产生特征吸收峰。通过分析这些吸收峰的强度,可以推算出样品中碳的浓度。
样品制备
标准中详细说明了样品的选取、切割、抛光及清洗等预处理步骤,确保样品表面平整且无杂质污染,以减少测试误差。
测试设备与条件
- 设备:需要使用配备有适当分辨率和灵敏度的红外光谱仪,以及满足测试要求的附件,如样品室和光源。
- 测试环境:规定了实验室环境条件,包括温度、湿度控制,以减小外界因素对测试结果的影响。
测试步骤
标准详细描述了从样品安装、光谱采集到数据处理的全过程,包括扫描范围、分辨率选择、基线校正、吸收峰识别及定量分析方法。
数据处理与分析
指导如何通过对吸收峰的积分面积进行计算,结合已知的吸收系数,将吸收强度转换为碳浓度的具体数学模型和计算方法。
精密度与准确度
提供了重复性和再现性试验的要求及评价方法,以确保不同实验室间测试结果的一致性和可靠性。
质量控制
强调了测试过程中的质量控制措施,如定期校准仪器、使用标准参考物质进行比对验证等,确保测试结果的准确性。
报告
规定了测试报告应包含的信息内容,如样品信息、测试条件、测试结果及其不确定度评估等,以便于结果的交流与追溯。
该标准通过上述内容确保了半绝缘砷化镓单晶中碳浓度测试的标准化和规范化,为相关产品的研发、生产和质量控制提供了科学依据。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
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文档简介
ICS29.045H82中华人民共和国国家标准GB/T19199—2003半绝缘砷化家单晶中碳浓度的红外吸收测试方法Testmethodforcarbonconcentrationofsemi-insulatingmonocrystalgalliumarsenidebymeasurementinfraredabsorptionmethod2003-06-16发布2004-01-01实施中华人民共和国发布国家质量监督检验检疫总局
中华人民共和国国家标准华绝缘砷化镖单晶中碳浓度的红外吸收测试方法GB/T19199-2003中中国标准出版社出版发行北京西城区复兴门外三里河北街16号邮政编码:100045电话:63787337、637874472003年9月第一版2004年11月电子版制作书号:155066·1-19867如有排版错误:由本社负责解决版版权专有侵权必究举报电话:010)68533533
GB/T19199一2003前本标准由中国有色金属工业协会提出。本标准由中国有色金属工业标准计量质量研究所归口本标准由中国电子科技集团公司第四十六研究所负责起草本标准主要起草人:汝琼娜、段曙光、李光平。
GB/T19199—2003砷化镖材料是除硅以外的另一重要的功能材料,在微电子领域中有广泛的应用和发展前景。半绝缘砷化镖材料的半绝缘特性主要由以碳受主为主的剩余杂质和深施主EL2的有效补偿获得。因此精确测量半绝缘砷化镖中碳浓度十分重要。半绝缘砷化镖中碳浓度红外测试方法虽已制定电子行业标准(SJ3249.2—1989),但依该标准进行测量时,不仅对试样厚度有严格要求,且要进行双面抛光。由于半导体工艺过程中所使用的半绝缘砷化镖晶片厚度为0.5mm左右.所以该标准所规定的测量方法已经不能满足需要。本标准的制定实施.扩充了原有的电子行业标准内容.增加了薄片测量部分,解决了薄片试样从制样到微区测量的分析技术和规范,具有较强的实用性。
GB/T19199-2003半绝缘砷化家单晶中碳浓度的红外吸收测试方法范围本标准规定了非掺杂半绝缘砷化镖品片中碳浓度的红外吸收测试方法.本标准适用于电阻率大于1.0×10”Q·cm的非掺杂半绝缘砷化镖品片中碳浓度的测定。可测定的最低碳浓度为4.0×10"cmn-。方法原理碳为半绝缘砷化镖中主要浅受主杂质,其局域模振动谱带(室温谱带的频率位置579.8cm.78K下谱带的频率位置582.5cm)吸收系数和半高宽乘积与替位碳浓度具有对应关系。由测得的红外吸收光谱碳峰的吸收系数,根据经验公式计算碳浓度3仪器31红外分光光度计或傅里叶变换红外光谱仪,仪器的最低分瓣率应优于0.5cm²3.2光孔直径为13mm的样品架;红外显微镜.该显微镜带有可沿X-Y方向精确移动的机械载物台测量光孔可调。3.378K样品显微测量装置:78K样品测量装置。3.4干分尺·精度:0.01mm。式样4.1厚度为2mm~6mm的试样,研磨后双面抛光,使两表面呈光学镜面4.2厚度为0.4mm~2mm的试样.用解理法将试样平行解理成一窄条,窄条宽度为测量试样所需厚度·厚度大约为4mm(见图1)。解理面呈镜面,应满足测量要求。E和S——两平行解理面;原始试样厚度:广一试样测量厚度(a)为0.4mm~2mm半绝缘砷化家片(b)为切下窄条试样图1窄条试样部面图4.3参考标样4.3.1参考标样用水平法生长的非掺杂无碳(碳浓度小于3×10"m一")砷化镖单晶中切取4.3.2参考标样和试样应
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