标准解读

《GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》相比于其前版《GB/T 14146-1993 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法》,主要在以下几个方面进行了修订和完善:

  1. 技术内容更新:2009版标准根据近年来硅外延层技术和测试方法的发展,对测量原理、试验条件、仪器设备要求等方面进行了修订,以更准确地反映当前技术水平和测试需求。

  2. 测量精度提升:新标准可能引入了更精确的校准方法和数据处理技术,旨在提高载流子浓度测定的准确性和重复性,减少测量误差。

  3. 术语和定义明确化:针对行业内术语的发展变化,2009版标准对关键术语和定义进行了修订或新增,以确保标准语言的清晰度和专业性。

  4. 试验方法优化:详细规定了实验步骤和操作流程,可能包括了对汞探针的使用、电容-电压特性曲线的获取及分析方法的改进,使得测试过程更加标准化和可操作性增强。

  5. 安全与环保要求:鉴于汞探针使用中的特殊性,新版标准可能加强了对实验安全和环境保护的要求,提供了更详细的安全操作指南和废弃物处理规定。

  6. 适用范围调整:可能根据行业应用的扩展,调整了标准的适用范围,涵盖了更广泛的硅基材料和外延层类型。

  7. 参考文献更新:引用了最新的科研成果和技术文献,为标准提供了更坚实的理论基础和实践支持。

  8. 一致性与国际接轨:2009版标准在制定过程中可能考虑了与国际相关标准的协调一致,提高了中国标准的国际认可度和兼容性。

这些变动反映了标准随技术进步和市场需求而进行的适时调整,旨在为硅外延层载流子浓度的测定提供更为科学、精确和适用的方法指导。


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  • 被代替
  • 已被新标准代替,建议下载现行标准GB/T 14146-2021
  • 2009-10-30 颁布
  • 2010-06-01 实施
©正版授权
GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定汞探针电容-电压法_第1页
GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定汞探针电容-电压法_第2页
GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定汞探针电容-电压法_第3页
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文档简介

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中华人民共和国国家标准

犌犅/犜14146—2009

代替GB/T14146—1993

硅外延层载流子浓度测定

汞探针电容电压法

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20091030发布20100601实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

犌犅/犜14146—2009

前言

本标准代替GB/T14146—1993《硅外延载流子浓度测定汞探针电容电压法》。

本标准与GB/T14146—1993相比,主要有如下变动:

———测量范围由原1013cm-3~1018cm-3改为4×1013cm-3~8×1016cm-3,并增加了对外延层厚

度的测试要求和抛光片的测试适用性;

———增加了引用标准;

———增加了干扰因素;

———试剂中氢氟酸(ρ1.15g/mL)改为氢氟酸(分析纯),删除硝酸(ρ1.4g/mL),增加双氧水(分析

纯),去离子水电阻率由大于2MΩ·cm改为大于10MΩ·cm;

———对“测量仪器及环境”,“样品处理”,“仪器校准”,“测量步骤”的内容进行了全面修改;

———删除“测量结果的计算”;

———增加了重复性和再现性;

———增加了附录“硅片接触良好测试”的判定指标。

本标准的附录A为规范性附录。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。

本标准起草单位:南京国盛电子有限公司、宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量

监督检验中心。

本标准主要起草人:马林宝、唐有青、刘培东、李静、金龙、吕立平。

本标准所代替标准的历次版本发布情况为:

———GB/T14146—1993。

犌犅/犜14146—2009

硅外延层载流子浓度测定

汞探针电容电压法

1范围

本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容电压测量方法。

本标准适用于同质的硅外延层载流子浓度测量。测量范围为:4×1013cm-3~8×1016cm-3。

本标准测试的硅外延层的厚度必须大于测试偏压下耗尽层的深度。

本标准也可适用于硅抛光片的载流子浓度测量。

2规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有

的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究

是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。

GB/T1550非本征半导体材料导电类型测试方法

GB/T1552硅、锗单晶电阻率测定直排四探针法

GB/T14847重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

3方法原理

汞探针与硅外延片表面接触,形成一个肖特基势垒。在汞探针与硅外延片之间加一反向偏压,结的

势垒宽度向外延层中扩展。结的势垒电容(犆)及其电压(犞)的变化率(d犆/d犞)与势垒扩展宽度(狓)及

其相应的载流子浓度[犖(狓)]有如式(1)和式(2)关系:

犆31

犖(狓)=2×…………(1)

εε0犲犃d犆

(d犞)

狓=ε·ε0·犃/犆…………(2)

式中:

狓———势垒扩展宽度,单位为厘米(cm);

犖(狓)———载流子浓度,单位为每立方厘米(cm-3);

犆———势垒电容,单位为法(F);

犲———电子电荷,1.602×10-19,单位为库仑(C);

ε———相对介电常数,其值为11.75;

-14

ε0———真空介电常数,其值为8.859×10,单位为法每厘米(F/cm);

犃———汞硅接触面积,单位为平方厘米(cm2)。

只要测得犆,d犆/d犞和犃,便可由式(1)和式(2)计算得到势垒扩展宽度狓

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