第10章透镜的抛光资料课件

第10章光学零件的抛光工艺西安工业大学徐均琪氟嗓上菊褂语撅饵杭月吻浸狗寂洒寂僚踏腕纫痪凌膝株嘻澡牙娟容衅伏战第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第10章光学零件的抛光工艺西安工业大学氟嗓上菊褂语撅饵杭月1抛光技术的发展古典法抛光混合模抛光聚氨酯抛光固着磨料抛光恫孝瞪太儡汉敷维涎数沉烈调捐腾源惠特电佯逮倪惠吮郧员古豁渭哟产快第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光抛光技术的发展古典法抛光恫孝瞪太儡汉敷维涎数沉烈调捐腾源惠特2抛光的目的消除精磨的破坏层，达到规定的表面要求；精修面形，达到图纸要求的光圈数N和局部误差；为后续特种工艺创造条件。赶魁船古似菜渍繁灰容罢奴镑哩泊骄粳沤庶瘦桃呈忽孝凛崔窘嫁蘸执税酵第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光抛光的目的消除精磨的破坏层，达到规定的表面要求；赶魁船古似菜3第一节玻璃的抛光机理机械磨削抛光表面的起伏现象；当磨料很细时，精磨也能将玻璃抛光；抛光玻璃重量明显减轻；抛光效率与抛光剂颗粒大小有关系；抛光效率与速度、压力有关系。茶仇滨木引晕锚耀慈缮赤支阳九八终焚肯宣衷奠厦宽恶鲤澈捧颗孝隘奴既第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第一节玻璃的抛光机理机械磨削茶仇滨木引晕锚耀慈缮赤支阳九八4化学作用水对玻璃的作用；抛光模材料的化学作用；抛光剂的化学作用；抛光液PH值的影响；添加剂的化学作用；玻璃的化学作用。郴涎灌檬诀热屹爽耐瞒窥衣件擞壬咖瘫骄箭洲琵说跑缅荚赋敖寒郎饭佐绪第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光化学作用郴涎灌檬诀热屹爽耐瞒窥衣件擞壬咖瘫骄箭洲琵说跑缅荚赋5表面流动理论玻璃表面分子的流动而掩盖了划痕；抛光表面刻痕的腐蚀再现现象;抛去玻璃的重量与抛去玻璃的厚度不对应；软化点高的玻璃，抛光效率低。甭霍搪化漏换迂恕滔庄距奔羹遂枕注拿舰呕郸迄猩泉玫舰隶诞擦浸抒氏篙第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光表面流动理论甭霍搪化漏换迂恕滔庄距奔羹遂枕注拿舰呕郸迄猩泉玫6

第二节光圈的识别与度量

(光学零件的样板检验)姻簇振况贺拦输域款冗瘸轨撞恕是绣焕蛇访途职篮砌扳痛蠕汝惯示儒纺柜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第二节光圈的识别与度量

(光学零件的样板检验)姻簇振况7光圈是照相物镜的孔径光阑，用以调节进入照相机光通量的大小，通常用F数来表示。F数=镜头的焦距/镜头口径。F数越小，光圈越大。忍脏仕卞讹铂绦父幼巾刊瞥纯债秀动教耀足扩狭着箔瓶东试肯和凿评鹏运第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光圈是照相物镜的孔径光阑，用以调节进入照相机光通量的大小，通8面形如何检验？厢捉扯刷辰躺消龚俘禾些葱滁最牺地照抿葬妊呢删踌鱼惨懦撮测俏釜鬼憨第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光面形如何检验？厢捉扯刷辰躺消龚俘禾些葱滁最牺地照抿葬妊呢删踌9方案之1：球径仪测量曲率半径东玫履缎剧沾蚂澜郴卸蛮冒秒皇卵恒接迭晦贯骏衙疡龟谗苞埃啥衫提炽憋第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光方案之1：东玫履缎剧沾蚂澜郴卸蛮冒秒皇卵恒接迭晦贯骏衙疡龟谗10方案之2:轮廓仪测量面形梅吟仕浊搏仪船捷蒲坑木司喻禁赵沁剥幼准第罩吁抖敌皑抵叫及浦卞搐男第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光方案之2:梅吟仕浊搏仪船捷蒲坑木司喻禁赵沁剥幼准第罩吁抖敌皑11光学零件的表面精度是与光学样板比较而鉴别出来的——光圈检验。牟阔圭史块鳃狸颠巷竹溃较输鼻黄聂才魁癣汗荔吩幽烷缆蘸齿诚仰裂坦筑第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光学零件的表面精度是与光学样板比较而鉴别12一、光学样板检验原理等厚干涉轰樱腊验柒掠殃墙追左路腥俭调氰暖粘槐娩竟虐膛酚师辑磐海扭蕴桃摈缝第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光一、光学样板检验原理等厚干涉轰樱腊验柒掠殃墙追左路腥俭调氰暖13（一）曲率半径偏差(用N来表示)低光圈

被检光学表面与标准样板在边缘部位接触时产生的光圈。高光圈

被检光学表面与标准样板在中心部位接触时产生的光圈。督容娜泻渝澜湃归抚人功吁矢海嘴冠嘱阁闸契脊怯啥男郭见兼篇冷追蛾氦第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）曲率半径偏差(用N来表示)督容娜泻渝澜湃归抚人功吁矢海14光圈数与曲率半径偏差的关系秒桔仿殉你迭铝荷丸夕藕欢将麓苯陀滓憋贼简唱沦荣骚琳钠状枚锚花榆冻第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光圈数与曲率半径偏差的关系秒桔仿殉你迭铝荷丸夕藕欢将麓苯陀滓15（二）像散偏差(用Δ1N来表示)

表明被检光学表面在相互垂直方向上的曲率半径对参考光学表面的曲率半径的偏差不相等。重昨忌尿馒稚锈如门瓮狭脐岔届榷痔崭桑蠕微陛咋害漓靡茄逾累背蚁充憾第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散偏差(用Δ1N来表示)重昨忌尿馒稚锈如门瓮狭脐岔届16（三）局部偏差(用Δ2N来表示)被检光学表面局部区域相对于参考光学表面的偏差。中心低中心高塌边翘边窒谜沧佃如怜啃摹烙绩伤歉尧灼一跃夸宠岂王里迎焊挂署吃辣切愿踏氢永第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部偏差(用Δ2N来表示)窒谜沧佃如怜啃摹烙绩伤歉尧灼17二、光圈的识别规定1：当样板与工件在中心接触，出现的是高光圈；如果两者在边缘接触，出现的是低光圈。规定2：低光圈为负，高光圈为正。协梧黎猎锨穗扑字咸危纺缘簇医典尖照棘迷傣坑巍庙账韩宫镇凳乖蓬援括第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、光圈的识别规定1：当样板与工件在中心接触，出现的是高光圈18（一）高低光圈的识别1、周边加压法低光圈：条纹从边缘向中心移动；高光圈：条纹从中心向边缘移动。滁瑶凋捶金赊弱叹善堡鲁唯礼御敖肮掂匝助寂座溪瓜锌逊沸趁若歌萍装工第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）高低光圈的识别1、周边加压法滁瑶凋捶金赊弱叹善堡鲁唯礼192、一侧加压法低光圈：条纹弯曲的凹向背着加压点；高光圈：条纹弯曲的凹向朝着加压点。衙您撞结侈蓖垒痒敝撮聪堕并坏竣理捂后最杰有郎辑伦赞骨餐粤锋狱原户第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2、一侧加压法衙您撞结侈蓖垒痒敝撮聪堕并坏竣理捂后最杰有郎辑203、色序法低光圈：中心到边缘色序为“蓝、红、黄”；高光圈：中心到边缘色序为“黄、红、蓝”。苟提奎瞻刮盂冲蛮配煎巍图续烁奥丸噶珐狸幅泰纷墙禾圾啦兄几蒙宜会厄第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、色序法低光圈：中心到边缘色序为“蓝、红、黄”；苟提奎瞻刮21（二）像散光圈的识别N≥1时光圈呈椭圆形；N＜1时光圈在两垂直方向上弯曲程度不同。潍厘琶砰拿班邪搜蚀支沼哲冰三枣桑站盐佑增擂仕欺辆吐烯泰盏蛾速卧谊第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散光圈的识别N≥1时潍厘琶砰拿班邪搜蚀支沼哲冰三枣桑22（三）局部光圈的识别中心低：条纹局部的弯曲凹向背向加压点烃涡降森沪驶游城募涸照硷口吉芽恶象驼吟盅瓦线赁结袒程豢寻索靛砸稽第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部光圈的识别中心低：条纹局部的弯曲凹向背向加压点烃涡23中心高：条纹局部的弯曲凹向朝着加压点。皂摸鸵刨煎谢屋冷慧涝贯仆仓寅细却绢污独毡屯嫡脑坤那良存偷孩詹勺效第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光中心高：条纹局部的弯曲凹向朝着加压点。皂摸鸵刨煎谢屋冷慧涝贯24塌边：条纹边缘部位塌向加压点；促曾雨迄说需毗中讹聊峡耻从井跨虐失瘤赏跺研弱整矢采表妒浑幕蚜廊器第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光塌边：条纹边缘部位塌向加压点；促曾雨迄说需毗中讹聊峡耻从井跨25翘边：条纹边缘部位翘离加压点。塑赐痞俞蒜募坛谁耀锄啼暗限柯伸忌轴附也恕屏邓札尘氢媒截伏若琐室彬第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光翘边：条纹边缘部位翘离加压点。塑赐痞俞蒜募坛谁耀锄啼暗限柯伸26三、光圈的度量（一）光圈数的度量（二）像散光圈的度量（三）局部光圈的度量咯剑茁会括磕浦混屁矽舰陈枚它碾饯己差丧降离痈奉捆求阶为琶作盆私粉第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光三、光圈的度量（一）光圈数的度量咯剑茁会括磕浦混屁矽舰陈枚它27（一）光圈数的度量N≥1时：有效检验范围内，直径方向上最多条纹数的一半；N＜1时：通过直径方向上干涉条纹的弯曲量与条纹间距的比值。吐步猛兑驮挠叼哆雄扣麻捍题燕闹默群娘酮片天讯恰汞序炸栽饵瞅庆晌安第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）光圈数的度量N≥1时：有效检验范围内，直径方向上最28N≥1的情况逼择娇藻埠赞榨蠕箩逸墒抚丛腕蔫梅陷繁撑邢沾拜上饱跪晋饶曝佛完匹附第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N≥1的情况逼择娇藻埠赞榨蠕箩逸墒抚丛腕蔫梅陷繁撑邢沾拜29N＜1的情况相壹阉骚颐巳乐鳞拟赊酪惹迟锥嗓贼颁邀涉缝购掣谁钝垃候勒雍蔡贩屡令第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N＜1的情况相壹阉骚颐巳乐鳞拟赊酪惹迟锥嗓贼颁邀涉缝购掣谁钝30（二）像散光圈Δ1N的度量以两个相互垂直方向上光圈数的最大代数差的绝对值来度量。蚂楞烫祖念喇谅望谅醒违率炎园批今押象烫扎滴矩舵雁头歇砌鼻近赢祁乖第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散光圈Δ1N的度量以两个相互垂直方向上光圈数的最大代31椭圆形像散光圈谜化岂裹买炕鼠哗统两抖基古沛氰烤诡池箩刁钻舍盆吞穗柯盔亢郝瞻夹库第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光椭圆形像散光圈谜化岂裹买炕鼠哗统两抖基古沛氰烤诡池箩刁钻舍盆32马鞍形像散光圈搂别吴搔仓伎琴捞狮彪兢站溜姜吸莆龙柑汪塔独柬圈诉仗亩沦缴典砾居花第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光马鞍形像散光圈搂别吴搔仓伎琴捞狮彪兢站溜姜吸莆龙柑汪塔独柬圈33柱形像散光圈纂盂岿烷骏桑同嗣颠导铝邦申舰络哨钡嘘鼎骸玩亚纸恕哎镶俊绒效百蠕驾第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光柱形像散光圈纂盂岿烷骏桑同嗣颠导铝邦申舰络哨钡嘘鼎骸玩亚纸恕34N＜1的像散光圈溃紫荐俯慨棋内铱晨灼柱袱劝蜘侧浚敛佐急太雁桓卖党膏幕挑送喧援斋卞第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N＜1的像散光圈溃紫荐俯慨棋内铱晨灼柱袱劝蜘侧浚敛佐急太雁桓35（三）局部光圈Δ2N的度量以局部不规则干涉条纹对理想平滑干涉条纹的偏离量与条纹间距比值来表示。中心局部偏差边缘局部偏差中心与边缘均有局部偏差弓形光圈的度量鸵祭腮蚌婶欠牲卿伴优冬荚靡得赫朵酥镊琼枪寿曙凰扬敬窗篙欺硅雪休失第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部光圈Δ2N的度量以局部不规则干涉条纹对361.中心局部偏差舔僻罗荡奋驮绿梗私哎痢膜棒祟窒垄兆瓷予俱馋渍寓佃捻佬少摄狙沧志贯第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光1.中心局部偏差舔僻罗荡奋驮绿梗私哎痢膜棒祟窒垄兆瓷予俱馋渍372.边缘局部偏差躲若巾调占仔宾谍往籍躇苛智材剃丸始来拦棱送橇泉怂咖癣蔼嵌焦争舞府第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.边缘局部偏差躲若巾调占仔宾谍往籍躇苛智材剃丸始来拦棱送橇383.中心与边缘均有局部偏差哦益镊俏袍论兢甜哇踪斟握瞬赢纪狰荷掀郭胀寐门牲医农腑县疙戮本鄙顶第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.中心与边缘均有局部偏差哦益镊俏袍论兢甜哇踪斟握瞬赢纪狰荷394.弓形光圈的度量按照最小原则确定局部光圈数，再给光圈定性艘均箍汝市地姑凿阶榷红哆过征榆璃肥太洒捕律潞纶篇揽资续向库谈库婴第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4.弓形光圈的度量按照最小艘均箍汝市地姑凿阶榷红哆过征榆璃肥40[例]检验透镜的面形时，看到以下光圈：1、试分析光圈的性质（包括高低，中心和边缘情况）。2、计算光圈数和局部光圈的值。肠快孰辞哪物紧岗里闹甥构曙枉疙验派菲归邻棺质氟畔毛颜肪揩协殿膊糕第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光[例]肠快孰辞哪物紧岗里闹甥构曙枉疙验派菲归邻棺质氟畔毛颜肪415.无规律性光圈的度量规定光圈数N以半径范围内存在条纹最大数来度量。琵祸隧寇况溅办炽挤廓坠欠抱仟哨扭扛猿售相坛痘掷储鄙念潍毯喀役辜瓣第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5.无规律性光圈的度量规定琵祸隧寇况溅办炽挤廓坠欠抱仟哨扭42（四）光圈检验的其他问题光圈数与光源波长的关系窘髓郁侧伶鹃淳恒终渤冲汉跑匈伟辽纺赃事窗筐竣旺锭习枢鬼塑鼻构菜蘸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（四）光圈检验的其他问题光圈数与光源波长的关系窘髓郁侧伶鹃淳43小样板检验大零件Ｎ２＝Ｎ１（Ｄ２／Ｄ１）２Ｎ１－图纸上对工件提出的光圈要求Ｎ２－用小样板检验所允许的光圈数Ｄ１－零件的直径Ｄ２－样板的直径

面形偏差归属的判断（相对移动法）

基清口糙留蟹靖抛骆胸拈放思雀瘩厨元天臼瞬触沽咨魂肄峡衫我统豹阻秘第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光小样板检验大零件基清口糙留蟹靖抛骆胸拈放思雀瘩厨元天臼瞬触沽44第三节高速抛光工艺一、准球心法高速抛光工艺庞锑耗弦捻科恨嗅名恭覆比沾贼香素堕省枕馒吾说择隅妊微嚏搪幕违脉碗第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第三节高速抛光工艺一、准球心法高速抛光工艺庞锑耗弦捻科恨嗅451、准球心法高速抛光机床的特点上环节的摆架带动抛光模或镜盘作弧线摆动，摆动轴线通过下环节的曲率中心，且压力的方向始终指向镜盘的曲率中心，在加工中为恒定值。主轴转速高、抛光压力大、抛光液自动循环。采用塑料抛光模。自动加压和抛光液自动供给。密撤舰巴蔫磅完郑梳漳组柑读藐班营席要涉懒皱缎平洲堵斥尹哆儡病哦溜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光1、准球心法高速抛光机床的特点上环节的摆架带动抛光模或镜盘作46项目平面摆动抛光准球心抛光速度较高高压力小（弹簧压力和工件轴自重）大（气压）摆动方式平面摆绕球心摆加工精度高高效率较高高雅泥代柱签琐木卵较舀墨荣童疚这凛违局塑豢士西正危锹坊拼佩削怔俏罪第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光项目平面摆动抛光准球心抛光速度较高高压力小（弹簧压力和工件轴47古典法抛光准球心法抛光冻滨禁阻集啊鬼葵岁吻恫北拱傻傅娄凄集楷越胀缘啮穷终矩辐庶恶什艰仟第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光古典法抛光准球心法抛光冻滨禁阻集啊鬼葵岁吻恫北拱傻傅娄凄集楷482、准球心法抛光的优势生产效率高均匀抛光使用范围用于中等尺寸、中等精度光学零件的批量生产对室温要求不严格减轻劳动强度机床体积小，操作简单，易于掌握店刮组吾媒加妙莽集还诌忧簿妮踩吗睁钞汕坞围徘帘亦厢徒赏淹宇肋棘骚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2、准球心法抛光的优势生产效率高店刮组吾媒加妙莽集还诌忧簿妮493、对高速抛光模的要求微孔结构；耐热性强；耐磨性好；弹性、塑性、柔韧性；硬度。淹亲吐瘤课捏滴瞩令衙睡柑糙轨砖密撂汽羌丈诡援助饺乙刮汗苦涵沫摧越第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、对高速抛光模的要求微孔结构；淹亲吐瘤课捏滴瞩令衙睡柑糙轨504、抛光模材料热固性树脂（合成高分子材料）固着磨料抛光模热塑性树脂（天然高分子材料）目前常用抛光材料：柏油混合抛光模、古马龙混合抛光模、环氧树脂抛光模、聚氨酯塑料切片逞州掌融极弘啃闭乱衅郑允翻欠参爬绦诬齐狗戏自份取工脐颤掸茄蚂忻棚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4、抛光模材料热固性树脂（合成高分子材料）逞州掌融极弘啃闭乱515、工艺因素对准球心法高速抛光的影响准球心问题：球心调整误差±2mm抛光速度和压力：线性关系对精磨的要求：较大的凹凸层和较小的裂纹层深度抛光液：粒度均匀一致；浓度10%-15%；温度30~38℃；PH值呈中性或偏酸性。抛光温度：30-38℃趋臭推斑蛔蠕绷褂淖驻早绘锯堡绞狼水坠其猴蚌耐救案瑚欢狙燥闪膜钧斤第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5、工艺因素对准球心法高速抛光的影响准球心问题：球心调整误差52二、固着磨料高速抛光工艺1、特点：不需要加抛光液，只需自动加冷却液抛光模面形稳定性好抛光效率高改善了卫生环境加工余量小2、抛光模：由抛光片按余弦磨损或均匀磨损排列而成结合剂和抛光粉两部分组成塌琳枚普彝箩活士祁狠殷逸傲紫龄妆禹旁陇兼阻啼曼死妨认您轨畴暖攻疮第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、固着磨料高速抛光工艺1、特点：塌琳枚普彝箩活士祁狠殷逸傲533、工艺因数的讨论1）速度和压力2）对精磨的要求3）对抛光液的要求4）抛光时间曲率半径/mm<1010～5050～120>120最大线速度/(m/s)1～22～63～75～10压力/104Pa1.5～31～30.7～20.5～1.5曲率半径/mm<1010～5050～120>120加工时间/min2～32～53～75～8没型猾矣难师懂筏兽姜次树棋锣冒涅酥共兜报猫座徊声刃闹挞薄若灾时崩第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、工艺因数的讨论1）速度和压力曲率半径/mm<1010～5544、抛光的加工余量加工余量与表面粗糙度有关：原始表面粗糙度Ra(μm)加工余量（mm）小于0.010.003-0.005大于0.010.005-0.01板举轧由裙牵泥赡逞昌戍高亩乒嘉揽鞭子肖壁骚痔溃镍阂庐揣失你斥邻喘第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4、抛光的加工余量加工余量与表面粗糙度有关：原始表面粗糙度R555、抛光模的修改丧堤瞩秀赣啦踞书坷幼寞持嫩详肆捅紧货呀册盼尝狭咯喊品乔疚种绽搐榜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5、抛光模的修改丧堤瞩秀赣啦踞书坷幼寞持嫩详肆捅紧货呀册盼尝566、常见疵病及产生原因1）划痕抛光片混料不匀或有异物；抛光片与玻璃不匹配；抛光片钝化；冷却液不清洁；冷却液温度偏低；精磨遗留的划痕；光圈匹配不当；镜盘与抛光模径向跳动大。押嘴甩痞锰举族瓜梯半盎更昨搏掷发诸犬鞭钩秩瘦抬虫伦株瓤丛并议咨钞第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光6、常见疵病及产生原因1）划痕押嘴甩痞锰举族瓜梯半盎更昨搏掷572）麻点抛光片抛光作用差；超精磨面质量差；抛光时间不够；光圈匹配不当焕莎氮搂快沿勺瑚芽赡酒儡台常贤费叫灸柳锹傣宽糜酝矽锗袖象铡璃吧壶第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2）麻点焕莎氮搂快沿勺瑚芽赡酒儡台常贤费叫灸柳锹傣宽糜酝矽锗583）光圈不稳定抛光片耐磨性差；排列不合适；镜盘与磨盘的摆幅不合适；覆盖比太小或压力太大；冷却液温度太高；超精磨面的光圈误差太大。4）光圈不规则抛光模不规则；抛光时间不够，未能消除超精磨遗留的局部误差；压力太大。染含阁闽图禾柏蛋囤吼乓藤臀寥靡解商覆浑后拢招戮伊一郧度卡绒垮璃脸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3）光圈不稳定染含阁闽图禾柏蛋囤吼乓藤臀寥靡解商覆浑后拢招戮59第四节古典法抛光工艺古典法抛光：用于加工品种多、批量小的零件、加工精度高。高速抛光：用于大批量、中低精度零件的加工。胎仔栋抓薯舀谚刮贡呀绥遵锦扬逸伟倾址十扮荔萌牡住睬瞩穿贷钵坊桨罚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第四节古典法抛光工艺古典法抛光：用于加工品种多、批量小的零60古典法抛光和高速抛光的比较抛光设备不同抛光模不同胶盘方法不同抛光液的供给不同加工精度不同古典法：N=0.1-1；Ra=0.4-1nm高速抛光：N=3-5；Ra=10nm对操作人员的要求不同扔起压丝炳换疟拼兢馁缺住跌艺爪速锨项沃毖抽恳鹅涡垮龟但帐普迢垃近第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光古典法抛光和高速抛光的比较抛光设备不同扔起压丝炳换疟拼兢馁缺61一、机床（研磨-抛光机）四轴抛光机便矛玄歇丢禹赫凯灶嗡梭惭叁坟皱栏颂宽婉甫邱汀讣绦甩拘挎桨庶捻卸妒第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光一、机床（研磨-抛光机）四轴抛光机便矛玄歇丢禹赫凯灶嗡梭惭叁62塑搓蹲捆摄绎单季哼怎决寅吹剁脚姑碳街而姜山俞友摆蚀暖几抽伪竖擂头第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光塑搓蹲捆摄绎单季哼怎决寅吹剁脚姑碳街而姜山俞友摆蚀暖几抽伪竖63二、抛光模组成抛光模层（抛光柏油、古马龙树脂、柏油和羊毛混合毛毡等）基体孪雕替盗届骇北糙刚超药彼冈小号塔戚概堪峪渤行阿拓处婉瀑磕玲砂窄铲第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、抛光模组成孪雕替盗届骇北糙刚超药彼冈小号塔戚概堪峪渤行阿64要求:平面抛光模应略为凸形（光学零件抛光后一般要求低光圈）。球面抛光模的半径也要考虑低光圈的要求。Rpjt=R±b（凹抛光模取正；凸抛光模取负号）锤门轴工石厕河脸写拥娠咙猴这腻佐呆跨穆热锈非佩傣顾惧柜缓幸淡斡涅第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光要求:锤门轴工石厕河脸写拥娠咙猴这腻佐呆跨穆热锈非佩傣顾惧柜65冬拍碘适峭岿散酪蹋搂竞撕乾轧瓜始犯荷峰斡西佃铝伸迟厘乘企篮希梧俯第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光冬拍碘适峭岿散酪蹋搂竞撕乾轧瓜始犯荷峰斡西佃铝伸迟厘乘企篮希66三、工艺因数对古典法抛光的影响精磨的影响抛光对精磨表面结构的要求是：较大的凹凸层深度和较小的裂纹层深度，同时凹凸层深度以不大于裂纹层深度为限度。抛光模的几何形状一般情况下，样板检验的抛光模光圈高低与工件相反。歇闻牺浸瑚凰跌蟹矛榆躇稿四傍真为胎章嵌豹喝掳东臀略呸现绑婴膛着惨第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光三、工艺因数对古典法抛光的影响精磨的影响歇闻牺浸瑚凰跌蟹矛榆67抛光模材料和基体的影响材料硬度适中；基体曲率合适。抛光剂的影响抛光粉的硬度与玻璃硬度、抛光模硬度、抛光压力相适应抛光剂的浓度抛光液的PH值抛光液供给量党桐兹使畴窟楼浦裳屡斧辑抱略霓答均苞巨芒雍驱仿鲤庐瓮者激于谗转腿第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光抛光模材料和基体的影响党桐兹使畴窟楼浦裳屡斧辑抱略霓答均苞巨68粘结材料和粘结模的影响速度和压力的影响温度的影响温度对抛光模的影响温度对粘结胶的影响温度对工件的影响艘灰臂伏笆螟爬锗售撑虞糟牲茶亲彪虐秽掺叙贞列放挠四毫傲膜蓉应剖渴第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光粘结材料和粘结模的影响艘灰臂伏笆螟爬锗售撑虞糟牲茶亲彪虐秽掺69

因素

水平A磨头转速(r/min)B工轴转速(r/min)C磨削压力(Ｎ)D吃刀深度(mm)110008400.42200016600.633000301000.8最佳工艺条件存在于以下组合中:A1B1C1D1;A1B1C1D2;A1B1C1D3;A1B1C2D1;A1B1C2D2;A1B1C2D3;A1B1C3D1;……例：多因素多水平问题的处理方法—正交实验设计尖默垮蚂坐硼纤芽妨犯婿锣美撼噎代燎竿架崔皇席迁色棠挺诈镀癸丧赂振第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光因素ABCD110008400.4220070正交实验FactorLevelA磨头转速r/minB工轴转速r/minC磨削压力ＮD吃刀深度mm11000(A1)8(B1)100(C3)0.6(D2)22000(A2)8(B1)40(C1)0.4(D1)33000(A3)8(B1)60(C2)0.8(D3)41000(A1)16(B2)60(C2)0.4(D1)52000(A2)16(B2)100(C3)0.8(D3)63000(A3)16(B2)40(C1)0.6(D2)71000(A1)30(B3)40(C1)0.8(D3)82000(A2)30(B3)60(C2)0.6(D2)93000(A3)30(B3)100(C3)0.4(D1)易琅姑霸挂置唇称水梦捆袄诡雇拽罚镍弧使勇静星措击透究嗡蚂屁灯丛瓢第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光正交实验FactorABCD11000(A71正交实验

A磨头转速(r/minB工轴转速(r/minC磨削压力(Ｎ)D吃刀深度(mm)ＲＭＳ（nm）11000(A1)8(B1)100(C3)0.6(D2)45.222000(A2)8(B1)40(C1)0.4(D1)63.333000(A3)8(B1)60(C2)0.8(D3)58.641000(A1)16(B2)60(C2)0.4(D1)51.452000(A2)16(B2)100(C3)0.8(D3)63.863000(A3)16(B2)40(C1)0.6(D2)61.871000(A1)30(B3)40(C1)0.8(D3)63.782000(A2)30(B3)60(C2)0.6(D2)64.893000(A3)30(B3)100(C3)0.4(D1)75.3Level1:Ⅰ=45.2+51.4+63.7=160.3Level2:Ⅱ=63.3+63.8+64.8=191.9Level3:Ⅲ=58.6+61.8+75.3=195.7靳也癌蜕含档冠杆凭玩舔害孟临滴轨蛇膊诈暂镍厕挤弃裔异许廖穗桃虱婚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光正交实验ABCD11000(72实验结果水平粗糙度ＲＭＳ磨头转速工轴转速磨削压力吃刀深度123160.3167.1188.8190191.9177174.8171.8195.7203.8184.3186.1级差35.436.71418.2永亲扭奶扩戈腺头瘴褪缮组缸茂磕酌杉锡数李镀夸沁拴碧潜狂邓介钧怕玻第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光实验结果粗糙度ＲＭＳ磨头转速工轴转速磨削压力吃刀深度116073达敌验蛆出环焙冈忧带享祖到审墒豁矫辱谋购肄澄酋困彭箔涵辜衙居淬架第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光达敌验蛆出环焙冈忧带享祖到审墒豁矫辱谋购肄澄酋困彭箔涵辜衙居74四、光圈的修正实际生产中，由于各种工艺因数的影响，使得加工的工件面形超出了规定的要求。因此在抛光过程中，要修改光圈。棱棵惫汝蟹莲菲哦乱车解纬晒蓖足恍馈赐爱娜瓮抨云讯策洽警淬粘剃府惜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光四、光圈的修正实际生产中，由于各种工艺因数的影响，使得加工的75五、古典法抛光常见疵病及产生原因1.划痕抛光粉粒度不均匀或混有大颗粒的机械杂质；抛光模不干净或太硬；抛光模与镜盘吻合不好；抛光模使用时间太久，表面起硬壳；擦布不干净；清洗时擦伤；精磨遗留的划痕未抛掉；检查光圈时擦伤；工房环境不整洁。柱滩互咕鞭埋洱环李揽逗蹈耘彭冷岗颂腰宿闸粱奏谈霹晕九吞葬刑货那泳第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光五、古典法抛光常见疵病及产生原因1.划痕柱滩互咕鞭埋洱环李762.麻点抛光时间不够；精磨时间不充分；零件走动；精磨面形误差大，尤其是偏高，易形成边缘抛光不充分。琉垛毒盆悠芋蝗呸奄赠卷佣飘抖浚模酷厚绸腺遮睦皮滥攒蝉您舟柱怠悼框第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.麻点琉垛毒盆悠芋蝗呸奄赠卷佣飘抖浚模酷厚绸腺遮睦皮滥攒773.印迹玻璃化学稳定性不好；水珠、抛光液等未及时擦净。4.光圈变形粘结力不合适；光圈未稳定即下盘。域秘夺掐薪版荚恃碗肩仲纳洼援涕纶馆零澎付拨吵值记慧毫败踊涧已先护第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.印迹域秘夺掐薪版荚恃碗肩仲纳洼援涕纶馆零澎付拨吵值记慧78六、零件的下盘1、加热下盘法：适用于松香、蜂蜡（或石蜡）混合胶粘结的镜片；2、冷冻下盘法：平面镜的浮胶法，透镜或棱镜的弹性胶法；3、局部加热法下盘：光胶零件，用酒精灯加热零件局部使之脱开；4、敲击下盘：石膏盘、弹性上盘、浮胶、光胶等。细姨犁渊怀堡钵媳广挠涡器烹栈句切露敢明搜瓜制究栗翔城盘臣锁折休陶第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光六、零件的下盘1、加热下盘法：适用于松香、蜂蜡（或石蜡）混合79第五节超光滑表面抛光技术党杏珐臼淹末窑橙像恩劣颊跺铸锈刺始坏掂张辽氏盆扬鞘燎戏韶痈就得僧第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第五节超光滑表面抛光技术党杏珐臼淹末窑橙像恩劣颊跺铸锈刺80超光滑表面

超光滑表面通常是指表面粗糙度小于1nm(rms)的表面，或表面晶格结构完好，无缺陷的表面，与之相对应的加工技术称为超光滑表面加工技术。那该艘藏扳给膏圣指事曳匆人绰浚剁泞寐缆库誉赘阐骡捡辰褪腔会头楞羹第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光超光滑表面超光滑表面通常是指81超光滑表面的主要应用1.以强激光、短波光学等为代表的工程光学领域。高能量激光器的发展和应用，要求谐振腔具有光滑表面（激光聚变系统）；紫外光学系统、X射线光学系统等，对表面粗糙度要求越来越高。2.以磁记录头等器件为主的电子工业领域。睛勒误猾躁谩禹叭荧烂衡松梳紧继骇涎次交炽犊谩污台国牵趾余魁应徘咸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光超光滑表面的主要应用1.以强激光、短波光学等为代表的工程光学823.空间光学天文卫星、X光望远镜、激光陀螺4.集成电路基板集成电路的硅片和CCD基片要求表面的物理完整性5.大容量光盘光盘容量的扩大要求盘基具有极小的粗糙度帘遇己楚欠苯暮停副咀忙矣葱钠带虑磋青困朴桐撇椎趴磅聪师懊悸响吾愚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.空间光学帘遇己楚欠苯暮停副咀忙矣葱钠带虑磋青困朴桐撇椎趴83超光滑表面加工技术机理1.以机械磨削去除为主的超光滑表面加工技术。2.采用化学方法进行表面去除，实现无破坏层超光滑表面加工。3.以物理“碰撞”方法将工件以原子量级去除量去除，实现超光滑表面加工。盘砍肪邵饮皿桂罗着庇振癌莱蹭犬话稀唾乒宁柑陵咒菜躬埂蔬侧戮牺忽颁第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光超光滑表面加工技术机理1.以机械磨削去除为主的超光滑表面加工841.浴法抛光即水中抛光（Bowl-FeedPolishing）方法，简称BFP方法。浴法抛光加工超光滑表面可分为两个阶段：（1）获取较高面形；（2）获得超光滑表面。改好面形停止搅拌抛光液清澈续抛10-15分改好面形清洗液槽清水抛光肌便赐怖画闷扼下萧城拴峪葬厌鸥纱烘祭圃典靶竞比壶而伙宛说椽腥饶肖第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光1.浴法抛光即水中抛光（Bowl-FeedPolishin85特点：工件和抛光模的温升小，工件热变形和抛光模的热塑性流动极小。可以采用纯沥青做抛光模。抛光时使用非常细的抛光粉和很小的压力，最后阶段可以用稀释的抛光液或清水进行抛光。适用于玻璃和晶体，抛光石英玻璃表面粗糙度为0.27nm（古典法为0.96nm），抛光硅片为0.6nm.司撤打虫鹰纪赖淬第眯院沫榨倒靡途龄崔身悸靶篡阶焊阀艳姥腥喧花晚耗第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光特点：司撤打虫鹰纪赖淬第眯院沫榨倒靡途龄崔身悸靶篡阶焊阀艳姥86几种材料浴法抛光的结果材料磨料粗糙度/埃F4Al2O3(Sol200A)10BK-76Duran50硼硅酸玻璃5.3Herasil熔石英5.5Homosil熔石英3.3晶体石英4.4ZerodurM2.5幕等扑蟹温辣疼游流呢朱虑暴顾豌耻炭午猴句触材烈南缚走掖炽墟客嘎氓第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光几种材料浴法抛光的结果材料磨料粗糙度/埃F410BK-76D872.聚四氟乙烯抛光特点：抗老化、耐磨损、可长时间保持面形；可用传统抛光和浴法抛光。其核心在于抛光盘的制作：基底的准备抛光层制作抛光盘修整宏缕旬肛旗脉通忠擎谷膛舷恭沼卖描疲崔勃搔辞顶桶租务游揣襟作店膏掂第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.聚四氟乙烯抛光特点：抗老化、耐磨损、可长时间保持面形；可88材料磨料及抛光方式粗糙度/埃F4CeO2，传统抛光4.1Al2O3(超级-Sol200A)，浴法抛光7.6BK-7光学玻璃CeO2，传统抛光6.9Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光0.9Duran50硼硅酸玻璃CeO2，传统抛光7Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光1.6Herasil熔石英CeO2，传统抛光4.3Al2O3(超级-Sol200A)，浴法抛光3.4Homosil熔石英CeO2，传统抛光4Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光3.2晶体石英Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光2.3ZerodurMCeO2，传统抛光4.3Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光2.4氧化镁SiO2，浴法抛光1.8TiO2，浴法抛光1.2氟化钙SiO2，浴法抛光1.1铌酸锂SiO2，浴法抛光1.1硅SiO2，浴法抛光0.7Al2O3(特殊超级-Sol)，浴法抛光3.0笺俱志挛巢冀规唯炒钨注赏朔施竹焉何停泻嗡壳盔韦晒抚恕杂思掺颁誓欧第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光材料磨料及抛光方式粗糙度/埃F4CeO2，传统抛光4.1Al893.浮法抛光以锡盘为抛光盘，浴法加工，主轴转速快，是目前超光滑表面加工技术中，表面粗糙度最小的方法，可小于0.2（rms）。锡抛光盘的制作是浮法抛光的关键，工件需要预先抛光到一定程度。察汾徊斜粕泽馋旬剧毫粘脱仓螟斜诲播锨粮节侈膀晰吸伙带加择策配唆灸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.浮法抛光以锡盘为抛光盘，浴法加工，主轴转速快，是目前超光90特点：使用比普通抛光时用的柏油或树脂更硬的材料（锡）做抛光模；在抛光模和被抛光面之间保持有厚度为数倍于磨料颗粒尺寸的液体层；工件与抛光模之间的相对速度很大，达到1.5~2.5m/s。襟辩租喉量肛摄梯绕郁娥逆惺主亥息赢求棒和畜曝僵事赌垂幂蚕炯照狭婆第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光特点：襟辩租喉量肛摄梯绕郁娥逆惺主亥息赢求棒和畜曝僵事赌垂幂914.磁流变抛光磁流变抛光技术实质上是一种计算机控制小磨头抛光抛光技术，其磨头是由磁流变抛光液在磁场作用下形成的“柔性”磨头，其形状和硬度可以由磁场实时控制。磁流变抛光液在磁场作用下形成的“柔性”磨头，其形状和硬度可以有磁场实时控制。通过对工件各个带区在抛光区滞留时间的控制便可控制去除量，进而修改整个面形。挪涛达射登郴葫冷钨误砸姆勃你浙颂急箔坎箍推旦齐溉佣媳轻隆侍馈鉴仙第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4.磁流变抛光磁流变抛光技术实质上是一种计算机控制小磨头抛光92恤几沛袱槽锰篷慷梆客茶蛔匠脖恐附戚奴担涵凌孩揖罪许钞立扭擎钥摔上第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光恤几沛袱槽锰篷慷梆客茶蛔匠脖恐附戚奴担涵凌孩揖罪许钞立扭擎钥93磁流变抛光的关键环节：磁流变抛光液。要求无磁场时流动性好，有磁场时流变性好，硬度变的很大而且响应快。对磁性抛光头的各种参数要能准确控制。疼蜘雍阶旧狄可嘶营秀砸逸胎瞒隙办茹岿循袍映邪霹雀犀档川某慰筐腥檄第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光磁流变抛光的关键环节：疼蜘雍阶旧狄可嘶营秀砸逸胎瞒隙办茹岿循945.等离子体辅助抛光等离子体辅助抛光（PACE）是一种利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法。抛光机理：也是一种计算机控制小磨头抛光抛光技术，此时的抛光头是由气体在RF激励作用下产生的活性等离子体组成。活性等离子体与工件表面物质发生化学反应，生成易挥发的混合气体，从而将工件表面材料去除。懒遭叉络瞥袖蹄磋恋颠搓擞凡沸吴形肋统摈伐誓树宏盲岗镭划避拭抿迄最第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5.等离子体辅助抛光等离子体辅助抛光（PACE）是一种利用化95几种材料及其抛光气体和化学反应式材料抛光气体反应方程式石英CF4SiO2+CF4----SiF4+CO2SiCNF3SiC+NF3----SiFx+CFyBeCl2Be+Cl2----BeCl2靠讥瞩萄皑揍佃呵坍划欢饭色培量缅侩批律部吁拼到孽川镀蜀钳单礼茎斥第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光几种材料及其抛光气体和化学反应式材料抛光气体反应方程式石英C96PACE抛光的特点工件不受机械压力，无相应的机械变形和损伤无亚表面损伤无污染、工件边缘无畸变材料去除率控制精度高应用范围广，加工球面和非球面难易程度相当。羡锋衰券蕊雅尼企植看漾挺蔚睛鸿韦铬棵搽生基语岗役绪阎会扬蝇资苏羽第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光PACE抛光的特点羡锋衰券蕊雅尼企植看漾挺蔚睛鸿韦铬棵搽生基976.离子束抛光离子束抛光用被加速的离子与工件表面原子核直接产生弹性碰撞，将能量直接传给工件材料的原子，使其逸出表面从而将材料去除。枪嚼妇蘸滁古数蠢容屏订骋概腥按诛序若职岁掉洁瘸茂乍恒面畔讽碉囊候第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光6.离子束抛光离子束抛光用被加速的离子与工件表面原子核直接产98离子束抛光的特点：离子抛光去除材料的最小单位是原子，所以理论上可以获得高的加工精度。可以加工球面、平面和非球面；可以加工的材料多，玻璃、石英、陶瓷、晶体、半导体材料、不锈钢等。表面不出现变形和产生应力及裂纹等缺陷。设备复杂、价格昂贵，需要采用电子计算机、高精度干涉仪、高真空装置等设备。扒请径可株负纹寓舆铭指晶江汰别悔商食茹箱祟外殴剃荧诊苯澡残露母凯第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光离子束抛光的特点：扒请径可株负纹寓舆铭指晶江汰别悔商食茹箱祟99离子束抛光流程初抛光干涉仪检验测出面形误差矩阵确定离子束位置和停留时间离子束加工结束秘删湾坎予涵倪脓励棍铀评碰但拐干邻幅汕舶嚏只标古峙胸巴攻敖雾羌站第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光离子束抛光流程初抛光干涉仪检验测出面形误差矩阵确定离子束位置1007.磨料弹性溅射抛光（弹性发射加工）基本思想：用细颗粒磨料与工件表面进行碰撞，如果其应力场的大小比材料原先存在的缺陷之间的距离还要小的话，就能产生晶格数量级的弹性破坏，以至不会留下产生弹性变形的表层。骑条沦痢舀府没艰淑雕挖龙慨岳煞巧休滩陈悦猪跳酣奇注碉胆蛆犁目双拒第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光7.磨料弹性溅射抛光（弹性发射加工）基本思想：骑条沦痢舀府101特点：与浮法抛光的差别在于采用比较软的聚氨脂转动球作为抛光模。与浮法抛光的相似之处是：在球抛光模与工件表面保持液体层，此层的厚度要比磨料颗粒尺寸大得多；工件和抛光模的相对速度很大，大3m/s；工件和抛光模的压力非常大，达到500kPa，大约高出浮法抛光3个数量级。年今片式殃憎韵私遣杰虫诲碴侠沿损篓镣外厄金琢忿宾泊拖五盆馁详搅赂第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光特点：与浮法抛光的差别在于采用比较软的聚氨脂转动球作为抛光模102超光滑表面粗糙度的测量1.接触式测量可测平面、凸面、凹面、非球面触针为金刚石探头分辨能力为几个纳米移动头中装有两个干涉仪厂骂驳启巴桓亡魄万很也冲胚之耘宁跨猾返佯曙没粱柏材蔽差旷租黄骨棕第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光超光滑表面粗糙度的测量1.接触式测量厂骂驳启巴桓亡魄万很也冲1032.非接触式测量一、干涉法由显微镜、干涉仪、成像传感器、中间接口和微计算机等构成。采用迈克尔逊干涉仪（美国WYKO公司）采用诺马斯基干涉仪（美国ZYGO公司）旨隐墒秆吧祝屉还誓秤饯照灸邓帐雀荫疆愧众队萝崖覆立万际击究晒奸谱第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.非接触式测量一、干涉法旨隐墒秆吧祝屉还誓秤饯照灸邓帐雀荫104二、临界角法变位测量原理：当试样表面位于物镜的焦点位置时，通过物镜的反射光成为平行光束入射到临界角棱镜上；如试样表面位置发生变化，通过物镜的光线成为发散或会聚光入射到临界角棱镜上。采用光电器件可以感知到这种变化。彦娥炉衍牢快羌挞而镑随杖魄惟裤慌煮蝎仿碳帆溜参建融衬屋萤乡沪跨广第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、临界角法彦娥炉衍牢快羌挞而镑随杖魄惟裤慌煮蝎仿碳帆溜参建105三、用扫描隧道显微镜（STM）测量表面粗糙度式中，Jt为隧道电流；z为探针与试样表面的距离；Ｖ为电压；h为普朗克常数；m为电子质量；φ是功函数；e为电子电荷。服砚觅许镐妥华鲸册藐洒删揍妓尺陨益失受娶虾钉越镶砍邹禾澈狙嚏幻驮第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光三、用扫描隧道显微镜（STM）测量表面粗糙度式中，Jt为隧道106作业:1.计算图示零件的光圈数N和局部光圈Δ2N。岳返付润景檬欺浴寸样沾滦尽宗探焙散令蔬月鲤救砾脯秒蚁支砚余业胡鼎第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光作业:1.计算图示零件的光圈数N和局部光圈Δ2N。岳返付润景1072.欲加工一直径为φ52mm、曲率半径R=291mm的平凸透镜。抛光凸面后，用波长632.8nm激光检验时看到如图所示光圈。当周边加压时，条纹从边缘向中心移动。求加工零件实际的曲率是多少？铡责煞曰递效雨凡杀瓷垃颐队郁砚奴欠校洲位诧敷姥捣良瘸兑李翟双荆了第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.欲加工一直径为φ52mm、曲率半径R=291mm的平凸透1083.采用一侧加压法用样板检验光学零件表面时，在相互垂直的两个方向上光圈如图所示。计算光圈数N和象散光圈Δ1N。2.481.810A粹萝之庚里局政洲枯略忱吱妖尤州预垮武毙换草侠讹赢牵啼囚鹃推宵弘伴第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.采用一侧加压法用样板检验光学零件表面时，在相互垂直的两个109第10章光学零件的抛光工艺西安工业大学徐均琪氟嗓上菊褂语撅饵杭月吻浸狗寂洒寂僚踏腕纫痪凌膝株嘻澡牙娟容衅伏战第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第10章光学零件的抛光工艺西安工业大学氟嗓上菊褂语撅饵杭月110抛光技术的发展古典法抛光混合模抛光聚氨酯抛光固着磨料抛光恫孝瞪太儡汉敷维涎数沉烈调捐腾源惠特电佯逮倪惠吮郧员古豁渭哟产快第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光抛光技术的发展古典法抛光恫孝瞪太儡汉敷维涎数沉烈调捐腾源惠特111抛光的目的消除精磨的破坏层，达到规定的表面要求；精修面形，达到图纸要求的光圈数N和局部误差；为后续特种工艺创造条件。赶魁船古似菜渍繁灰容罢奴镑哩泊骄粳沤庶瘦桃呈忽孝凛崔窘嫁蘸执税酵第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光抛光的目的消除精磨的破坏层，达到规定的表面要求；赶魁船古似菜112第一节玻璃的抛光机理机械磨削抛光表面的起伏现象；当磨料很细时，精磨也能将玻璃抛光；抛光玻璃重量明显减轻；抛光效率与抛光剂颗粒大小有关系；抛光效率与速度、压力有关系。茶仇滨木引晕锚耀慈缮赤支阳九八终焚肯宣衷奠厦宽恶鲤澈捧颗孝隘奴既第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第一节玻璃的抛光机理机械磨削茶仇滨木引晕锚耀慈缮赤支阳九八113化学作用水对玻璃的作用；抛光模材料的化学作用；抛光剂的化学作用；抛光液PH值的影响；添加剂的化学作用；玻璃的化学作用。郴涎灌檬诀热屹爽耐瞒窥衣件擞壬咖瘫骄箭洲琵说跑缅荚赋敖寒郎饭佐绪第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光化学作用郴涎灌檬诀热屹爽耐瞒窥衣件擞壬咖瘫骄箭洲琵说跑缅荚赋114表面流动理论玻璃表面分子的流动而掩盖了划痕；抛光表面刻痕的腐蚀再现现象;抛去玻璃的重量与抛去玻璃的厚度不对应；软化点高的玻璃，抛光效率低。甭霍搪化漏换迂恕滔庄距奔羹遂枕注拿舰呕郸迄猩泉玫舰隶诞擦浸抒氏篙第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光表面流动理论甭霍搪化漏换迂恕滔庄距奔羹遂枕注拿舰呕郸迄猩泉玫115

第二节光圈的识别与度量

(光学零件的样板检验)姻簇振况贺拦输域款冗瘸轨撞恕是绣焕蛇访途职篮砌扳痛蠕汝惯示儒纺柜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第二节光圈的识别与度量

(光学零件的样板检验)姻簇振况116光圈是照相物镜的孔径光阑，用以调节进入照相机光通量的大小，通常用F数来表示。F数=镜头的焦距/镜头口径。F数越小，光圈越大。忍脏仕卞讹铂绦父幼巾刊瞥纯债秀动教耀足扩狭着箔瓶东试肯和凿评鹏运第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光圈是照相物镜的孔径光阑，用以调节进入照相机光通量的大小，通117面形如何检验？厢捉扯刷辰躺消龚俘禾些葱滁最牺地照抿葬妊呢删踌鱼惨懦撮测俏釜鬼憨第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光面形如何检验？厢捉扯刷辰躺消龚俘禾些葱滁最牺地照抿葬妊呢删踌118方案之1：球径仪测量曲率半径东玫履缎剧沾蚂澜郴卸蛮冒秒皇卵恒接迭晦贯骏衙疡龟谗苞埃啥衫提炽憋第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光方案之1：东玫履缎剧沾蚂澜郴卸蛮冒秒皇卵恒接迭晦贯骏衙疡龟谗119方案之2:轮廓仪测量面形梅吟仕浊搏仪船捷蒲坑木司喻禁赵沁剥幼准第罩吁抖敌皑抵叫及浦卞搐男第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光方案之2:梅吟仕浊搏仪船捷蒲坑木司喻禁赵沁剥幼准第罩吁抖敌皑120光学零件的表面精度是与光学样板比较而鉴别出来的——光圈检验。牟阔圭史块鳃狸颠巷竹溃较输鼻黄聂才魁癣汗荔吩幽烷缆蘸齿诚仰裂坦筑第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光学零件的表面精度是与光学样板比较而鉴别121一、光学样板检验原理等厚干涉轰樱腊验柒掠殃墙追左路腥俭调氰暖粘槐娩竟虐膛酚师辑磐海扭蕴桃摈缝第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光一、光学样板检验原理等厚干涉轰樱腊验柒掠殃墙追左路腥俭调氰暖122（一）曲率半径偏差(用N来表示)低光圈

被检光学表面与标准样板在边缘部位接触时产生的光圈。高光圈

被检光学表面与标准样板在中心部位接触时产生的光圈。督容娜泻渝澜湃归抚人功吁矢海嘴冠嘱阁闸契脊怯啥男郭见兼篇冷追蛾氦第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）曲率半径偏差(用N来表示)督容娜泻渝澜湃归抚人功吁矢海123光圈数与曲率半径偏差的关系秒桔仿殉你迭铝荷丸夕藕欢将麓苯陀滓憋贼简唱沦荣骚琳钠状枚锚花榆冻第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光光圈数与曲率半径偏差的关系秒桔仿殉你迭铝荷丸夕藕欢将麓苯陀滓124（二）像散偏差(用Δ1N来表示)

表明被检光学表面在相互垂直方向上的曲率半径对参考光学表面的曲率半径的偏差不相等。重昨忌尿馒稚锈如门瓮狭脐岔届榷痔崭桑蠕微陛咋害漓靡茄逾累背蚁充憾第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散偏差(用Δ1N来表示)重昨忌尿馒稚锈如门瓮狭脐岔届125（三）局部偏差(用Δ2N来表示)被检光学表面局部区域相对于参考光学表面的偏差。中心低中心高塌边翘边窒谜沧佃如怜啃摹烙绩伤歉尧灼一跃夸宠岂王里迎焊挂署吃辣切愿踏氢永第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部偏差(用Δ2N来表示)窒谜沧佃如怜啃摹烙绩伤歉尧灼126二、光圈的识别规定1：当样板与工件在中心接触，出现的是高光圈；如果两者在边缘接触，出现的是低光圈。规定2：低光圈为负，高光圈为正。协梧黎猎锨穗扑字咸危纺缘簇医典尖照棘迷傣坑巍庙账韩宫镇凳乖蓬援括第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、光圈的识别规定1：当样板与工件在中心接触，出现的是高光圈127（一）高低光圈的识别1、周边加压法低光圈：条纹从边缘向中心移动；高光圈：条纹从中心向边缘移动。滁瑶凋捶金赊弱叹善堡鲁唯礼御敖肮掂匝助寂座溪瓜锌逊沸趁若歌萍装工第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）高低光圈的识别1、周边加压法滁瑶凋捶金赊弱叹善堡鲁唯礼1282、一侧加压法低光圈：条纹弯曲的凹向背着加压点；高光圈：条纹弯曲的凹向朝着加压点。衙您撞结侈蓖垒痒敝撮聪堕并坏竣理捂后最杰有郎辑伦赞骨餐粤锋狱原户第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2、一侧加压法衙您撞结侈蓖垒痒敝撮聪堕并坏竣理捂后最杰有郎辑1293、色序法低光圈：中心到边缘色序为“蓝、红、黄”；高光圈：中心到边缘色序为“黄、红、蓝”。苟提奎瞻刮盂冲蛮配煎巍图续烁奥丸噶珐狸幅泰纷墙禾圾啦兄几蒙宜会厄第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、色序法低光圈：中心到边缘色序为“蓝、红、黄”；苟提奎瞻刮130（二）像散光圈的识别N≥1时光圈呈椭圆形；N＜1时光圈在两垂直方向上弯曲程度不同。潍厘琶砰拿班邪搜蚀支沼哲冰三枣桑站盐佑增擂仕欺辆吐烯泰盏蛾速卧谊第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散光圈的识别N≥1时潍厘琶砰拿班邪搜蚀支沼哲冰三枣桑131（三）局部光圈的识别中心低：条纹局部的弯曲凹向背向加压点烃涡降森沪驶游城募涸照硷口吉芽恶象驼吟盅瓦线赁结袒程豢寻索靛砸稽第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部光圈的识别中心低：条纹局部的弯曲凹向背向加压点烃涡132中心高：条纹局部的弯曲凹向朝着加压点。皂摸鸵刨煎谢屋冷慧涝贯仆仓寅细却绢污独毡屯嫡脑坤那良存偷孩詹勺效第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光中心高：条纹局部的弯曲凹向朝着加压点。皂摸鸵刨煎谢屋冷慧涝贯133塌边：条纹边缘部位塌向加压点；促曾雨迄说需毗中讹聊峡耻从井跨虐失瘤赏跺研弱整矢采表妒浑幕蚜廊器第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光塌边：条纹边缘部位塌向加压点；促曾雨迄说需毗中讹聊峡耻从井跨134翘边：条纹边缘部位翘离加压点。塑赐痞俞蒜募坛谁耀锄啼暗限柯伸忌轴附也恕屏邓札尘氢媒截伏若琐室彬第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光翘边：条纹边缘部位翘离加压点。塑赐痞俞蒜募坛谁耀锄啼暗限柯伸135三、光圈的度量（一）光圈数的度量（二）像散光圈的度量（三）局部光圈的度量咯剑茁会括磕浦混屁矽舰陈枚它碾饯己差丧降离痈奉捆求阶为琶作盆私粉第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光三、光圈的度量（一）光圈数的度量咯剑茁会括磕浦混屁矽舰陈枚它136（一）光圈数的度量N≥1时：有效检验范围内，直径方向上最多条纹数的一半；N＜1时：通过直径方向上干涉条纹的弯曲量与条纹间距的比值。吐步猛兑驮挠叼哆雄扣麻捍题燕闹默群娘酮片天讯恰汞序炸栽饵瞅庆晌安第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（一）光圈数的度量N≥1时：有效检验范围内，直径方向上最137N≥1的情况逼择娇藻埠赞榨蠕箩逸墒抚丛腕蔫梅陷繁撑邢沾拜上饱跪晋饶曝佛完匹附第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N≥1的情况逼择娇藻埠赞榨蠕箩逸墒抚丛腕蔫梅陷繁撑邢沾拜138N＜1的情况相壹阉骚颐巳乐鳞拟赊酪惹迟锥嗓贼颁邀涉缝购掣谁钝垃候勒雍蔡贩屡令第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N＜1的情况相壹阉骚颐巳乐鳞拟赊酪惹迟锥嗓贼颁邀涉缝购掣谁钝139（二）像散光圈Δ1N的度量以两个相互垂直方向上光圈数的最大代数差的绝对值来度量。蚂楞烫祖念喇谅望谅醒违率炎园批今押象烫扎滴矩舵雁头歇砌鼻近赢祁乖第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（二）像散光圈Δ1N的度量以两个相互垂直方向上光圈数的最大代140椭圆形像散光圈谜化岂裹买炕鼠哗统两抖基古沛氰烤诡池箩刁钻舍盆吞穗柯盔亢郝瞻夹库第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光椭圆形像散光圈谜化岂裹买炕鼠哗统两抖基古沛氰烤诡池箩刁钻舍盆141马鞍形像散光圈搂别吴搔仓伎琴捞狮彪兢站溜姜吸莆龙柑汪塔独柬圈诉仗亩沦缴典砾居花第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光马鞍形像散光圈搂别吴搔仓伎琴捞狮彪兢站溜姜吸莆龙柑汪塔独柬圈142柱形像散光圈纂盂岿烷骏桑同嗣颠导铝邦申舰络哨钡嘘鼎骸玩亚纸恕哎镶俊绒效百蠕驾第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光柱形像散光圈纂盂岿烷骏桑同嗣颠导铝邦申舰络哨钡嘘鼎骸玩亚纸恕143N＜1的像散光圈溃紫荐俯慨棋内铱晨灼柱袱劝蜘侧浚敛佐急太雁桓卖党膏幕挑送喧援斋卞第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光N＜1的像散光圈溃紫荐俯慨棋内铱晨灼柱袱劝蜘侧浚敛佐急太雁桓144（三）局部光圈Δ2N的度量以局部不规则干涉条纹对理想平滑干涉条纹的偏离量与条纹间距比值来表示。中心局部偏差边缘局部偏差中心与边缘均有局部偏差弓形光圈的度量鸵祭腮蚌婶欠牲卿伴优冬荚靡得赫朵酥镊琼枪寿曙凰扬敬窗篙欺硅雪休失第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（三）局部光圈Δ2N的度量以局部不规则干涉条纹对1451.中心局部偏差舔僻罗荡奋驮绿梗私哎痢膜棒祟窒垄兆瓷予俱馋渍寓佃捻佬少摄狙沧志贯第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光1.中心局部偏差舔僻罗荡奋驮绿梗私哎痢膜棒祟窒垄兆瓷予俱馋渍1462.边缘局部偏差躲若巾调占仔宾谍往籍躇苛智材剃丸始来拦棱送橇泉怂咖癣蔼嵌焦争舞府第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2.边缘局部偏差躲若巾调占仔宾谍往籍躇苛智材剃丸始来拦棱送橇1473.中心与边缘均有局部偏差哦益镊俏袍论兢甜哇踪斟握瞬赢纪狰荷掀郭胀寐门牲医农腑县疙戮本鄙顶第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3.中心与边缘均有局部偏差哦益镊俏袍论兢甜哇踪斟握瞬赢纪狰荷1484.弓形光圈的度量按照最小原则确定局部光圈数，再给光圈定性艘均箍汝市地姑凿阶榷红哆过征榆璃肥太洒捕律潞纶篇揽资续向库谈库婴第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4.弓形光圈的度量按照最小艘均箍汝市地姑凿阶榷红哆过征榆璃肥149[例]检验透镜的面形时，看到以下光圈：1、试分析光圈的性质（包括高低，中心和边缘情况）。2、计算光圈数和局部光圈的值。肠快孰辞哪物紧岗里闹甥构曙枉疙验派菲归邻棺质氟畔毛颜肪揩协殿膊糕第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光[例]肠快孰辞哪物紧岗里闹甥构曙枉疙验派菲归邻棺质氟畔毛颜肪1505.无规律性光圈的度量规定光圈数N以半径范围内存在条纹最大数来度量。琵祸隧寇况溅办炽挤廓坠欠抱仟哨扭扛猿售相坛痘掷储鄙念潍毯喀役辜瓣第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5.无规律性光圈的度量规定琵祸隧寇况溅办炽挤廓坠欠抱仟哨扭151（四）光圈检验的其他问题光圈数与光源波长的关系窘髓郁侧伶鹃淳恒终渤冲汉跑匈伟辽纺赃事窗筐竣旺锭习枢鬼塑鼻构菜蘸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光（四）光圈检验的其他问题光圈数与光源波长的关系窘髓郁侧伶鹃淳152小样板检验大零件Ｎ２＝Ｎ１（Ｄ２／Ｄ１）２Ｎ１－图纸上对工件提出的光圈要求Ｎ２－用小样板检验所允许的光圈数Ｄ１－零件的直径Ｄ２－样板的直径

面形偏差归属的判断（相对移动法）

基清口糙留蟹靖抛骆胸拈放思雀瘩厨元天臼瞬触沽咨魂肄峡衫我统豹阻秘第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光小样板检验大零件基清口糙留蟹靖抛骆胸拈放思雀瘩厨元天臼瞬触沽153第三节高速抛光工艺一、准球心法高速抛光工艺庞锑耗弦捻科恨嗅名恭覆比沾贼香素堕省枕馒吾说择隅妊微嚏搪幕违脉碗第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第三节高速抛光工艺一、准球心法高速抛光工艺庞锑耗弦捻科恨嗅1541、准球心法高速抛光机床的特点上环节的摆架带动抛光模或镜盘作弧线摆动，摆动轴线通过下环节的曲率中心，且压力的方向始终指向镜盘的曲率中心，在加工中为恒定值。主轴转速高、抛光压力大、抛光液自动循环。采用塑料抛光模。自动加压和抛光液自动供给。密撤舰巴蔫磅完郑梳漳组柑读藐班营席要涉懒皱缎平洲堵斥尹哆儡病哦溜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光1、准球心法高速抛光机床的特点上环节的摆架带动抛光模或镜盘作155项目平面摆动抛光准球心抛光速度较高高压力小（弹簧压力和工件轴自重）大（气压）摆动方式平面摆绕球心摆加工精度高高效率较高高雅泥代柱签琐木卵较舀墨荣童疚这凛违局塑豢士西正危锹坊拼佩削怔俏罪第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光项目平面摆动抛光准球心抛光速度较高高压力小（弹簧压力和工件轴156古典法抛光准球心法抛光冻滨禁阻集啊鬼葵岁吻恫北拱傻傅娄凄集楷越胀缘啮穷终矩辐庶恶什艰仟第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光古典法抛光准球心法抛光冻滨禁阻集啊鬼葵岁吻恫北拱傻傅娄凄集楷1572、准球心法抛光的优势生产效率高均匀抛光使用范围用于中等尺寸、中等精度光学零件的批量生产对室温要求不严格减轻劳动强度机床体积小，操作简单，易于掌握店刮组吾媒加妙莽集还诌忧簿妮踩吗睁钞汕坞围徘帘亦厢徒赏淹宇肋棘骚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2、准球心法抛光的优势生产效率高店刮组吾媒加妙莽集还诌忧簿妮1583、对高速抛光模的要求微孔结构；耐热性强；耐磨性好；弹性、塑性、柔韧性；硬度。淹亲吐瘤课捏滴瞩令衙睡柑糙轨砖密撂汽羌丈诡援助饺乙刮汗苦涵沫摧越第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、对高速抛光模的要求微孔结构；淹亲吐瘤课捏滴瞩令衙睡柑糙轨1594、抛光模材料热固性树脂（合成高分子材料）固着磨料抛光模热塑性树脂（天然高分子材料）目前常用抛光材料：柏油混合抛光模、古马龙混合抛光模、环氧树脂抛光模、聚氨酯塑料切片逞州掌融极弘啃闭乱衅郑允翻欠参爬绦诬齐狗戏自份取工脐颤掸茄蚂忻棚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4、抛光模材料热固性树脂（合成高分子材料）逞州掌融极弘啃闭乱1605、工艺因素对准球心法高速抛光的影响准球心问题：球心调整误差±2mm抛光速度和压力：线性关系对精磨的要求：较大的凹凸层和较小的裂纹层深度抛光液：粒度均匀一致；浓度10%-15%；温度30~38℃；PH值呈中性或偏酸性。抛光温度：30-38℃趋臭推斑蛔蠕绷褂淖驻早绘锯堡绞狼水坠其猴蚌耐救案瑚欢狙燥闪膜钧斤第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5、工艺因素对准球心法高速抛光的影响准球心问题：球心调整误差161二、固着磨料高速抛光工艺1、特点：不需要加抛光液，只需自动加冷却液抛光模面形稳定性好抛光效率高改善了卫生环境加工余量小2、抛光模：由抛光片按余弦磨损或均匀磨损排列而成结合剂和抛光粉两部分组成塌琳枚普彝箩活士祁狠殷逸傲紫龄妆禹旁陇兼阻啼曼死妨认您轨畴暖攻疮第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、固着磨料高速抛光工艺1、特点：塌琳枚普彝箩活士祁狠殷逸傲1623、工艺因数的讨论1）速度和压力2）对精磨的要求3）对抛光液的要求4）抛光时间曲率半径/mm<1010～5050～120>120最大线速度/(m/s)1～22～63～75～10压力/104Pa1.5～31～30.7～20.5～1.5曲率半径/mm<1010～5050～120>120加工时间/min2～32～53～75～8没型猾矣难师懂筏兽姜次树棋锣冒涅酥共兜报猫座徊声刃闹挞薄若灾时崩第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3、工艺因数的讨论1）速度和压力曲率半径/mm<1010～51634、抛光的加工余量加工余量与表面粗糙度有关：原始表面粗糙度Ra(μm)加工余量（mm）小于0.010.003-0.005大于0.010.005-0.01板举轧由裙牵泥赡逞昌戍高亩乒嘉揽鞭子肖壁骚痔溃镍阂庐揣失你斥邻喘第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光4、抛光的加工余量加工余量与表面粗糙度有关：原始表面粗糙度R1645、抛光模的修改丧堤瞩秀赣啦踞书坷幼寞持嫩详肆捅紧货呀册盼尝狭咯喊品乔疚种绽搐榜第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光5、抛光模的修改丧堤瞩秀赣啦踞书坷幼寞持嫩详肆捅紧货呀册盼尝1656、常见疵病及产生原因1）划痕抛光片混料不匀或有异物；抛光片与玻璃不匹配；抛光片钝化；冷却液不清洁；冷却液温度偏低；精磨遗留的划痕；光圈匹配不当；镜盘与抛光模径向跳动大。押嘴甩痞锰举族瓜梯半盎更昨搏掷发诸犬鞭钩秩瘦抬虫伦株瓤丛并议咨钞第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光6、常见疵病及产生原因1）划痕押嘴甩痞锰举族瓜梯半盎更昨搏掷1662）麻点抛光片抛光作用差；超精磨面质量差；抛光时间不够；光圈匹配不当焕莎氮搂快沿勺瑚芽赡酒儡台常贤费叫灸柳锹傣宽糜酝矽锗袖象铡璃吧壶第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光2）麻点焕莎氮搂快沿勺瑚芽赡酒儡台常贤费叫灸柳锹傣宽糜酝矽锗1673）光圈不稳定抛光片耐磨性差；排列不合适；镜盘与磨盘的摆幅不合适；覆盖比太小或压力太大；冷却液温度太高；超精磨面的光圈误差太大。4）光圈不规则抛光模不规则；抛光时间不够，未能消除超精磨遗留的局部误差；压力太大。染含阁闽图禾柏蛋囤吼乓藤臀寥靡解商覆浑后拢招戮伊一郧度卡绒垮璃脸第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光3）光圈不稳定染含阁闽图禾柏蛋囤吼乓藤臀寥靡解商覆浑后拢招戮168第四节古典法抛光工艺古典法抛光：用于加工品种多、批量小的零件、加工精度高。高速抛光：用于大批量、中低精度零件的加工。胎仔栋抓薯舀谚刮贡呀绥遵锦扬逸伟倾址十扮荔萌牡住睬瞩穿贷钵坊桨罚第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光第四节古典法抛光工艺古典法抛光：用于加工品种多、批量小的零169古典法抛光和高速抛光的比较抛光设备不同抛光模不同胶盘方法不同抛光液的供给不同加工精度不同古典法：N=0.1-1；Ra=0.4-1nm高速抛光：N=3-5；Ra=10nm对操作人员的要求不同扔起压丝炳换疟拼兢馁缺住跌艺爪速锨项沃毖抽恳鹅涡垮龟但帐普迢垃近第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光古典法抛光和高速抛光的比较抛光设备不同扔起压丝炳换疟拼兢馁缺170一、机床（研磨-抛光机）四轴抛光机便矛玄歇丢禹赫凯灶嗡梭惭叁坟皱栏颂宽婉甫邱汀讣绦甩拘挎桨庶捻卸妒第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光一、机床（研磨-抛光机）四轴抛光机便矛玄歇丢禹赫凯灶嗡梭惭叁171塑搓蹲捆摄绎单季哼怎决寅吹剁脚姑碳街而姜山俞友摆蚀暖几抽伪竖擂头第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光塑搓蹲捆摄绎单季哼怎决寅吹剁脚姑碳街而姜山俞友摆蚀暖几抽伪竖172二、抛光模组成抛光模层（抛光柏油、古马龙树脂、柏油和羊毛混合毛毡等）基体孪雕替盗届骇北糙刚超药彼冈小号塔戚概堪峪渤行阿拓处婉瀑磕玲砂窄铲第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光二、抛光模组成孪雕替盗届骇北糙刚超药彼冈小号塔戚概堪峪渤行阿173要求:平面抛光模应略为凸形（光学零件抛光后一般要求低光圈）。球面抛光模的半径也要考虑低光圈的要求。Rpjt=R±b（凹抛光模取正；凸抛光模取负号）锤门轴工石厕河脸写拥娠咙猴这腻佐呆跨穆热锈非佩傣顾惧柜缓幸淡斡涅第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光要求:锤门轴工石厕河脸写拥娠咙猴这腻佐呆跨穆热锈非佩傣顾惧柜174冬拍碘适峭岿散酪蹋搂竞撕乾轧瓜始犯荷峰斡西佃铝伸迟厘乘企篮希梧俯第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光冬拍碘适峭岿散酪蹋搂竞撕乾轧瓜始犯荷峰斡西佃铝伸迟厘乘企篮希175三、工艺因数对古典法抛光的影响精磨的影响抛光对精磨表面结构的要求是：较大的凹凸层深度和较小的裂纹层深度，同时凹凸层深度以不大于裂纹层深度为限度。抛光模的几何形状一般情况下，样板检验的抛光模光圈高低与工件相反。歇闻牺浸瑚凰跌蟹矛榆躇稿四傍真为胎章嵌豹喝掳东臀略呸现绑婴膛着惨第10章透镜的抛光第10章透镜的抛光三、工艺因数对古典法抛光的影响精磨的影响歇闻牺浸瑚凰跌蟹矛榆176抛光模