硅集成电路工艺基础期末复习课件

单片机期末复习指导老师:东哥完成者:MZ单片机期末复习1硅片制造厂的分区胜片制造(前端Thinfilms抛光无图形的Diffusion扩散Test/Sort测试/拣选硅片制造厂的分区2二氧化硅的制备方法■CVD(化学气相淀积)口PVD(物理气相淀积)口热氧化热氧化生成的二氧化硅掩蔽能力最强2、质量最好、重复性和稳定性最好降低表面悬挂键从而使表面状态密度减小,且能很好的控制界面陷阱和固定电荷二氧化硅的制备方法3热氧化法三种氧化法比较●千氧氧化:结构致密但氧化速度极低●湿氧氧化:氧化速度高但结构略粗糙,制备厚二氧化硅薄膜●水汽氧化:结构粗糙不可取实际生产:●千氧氧化+湿氧氧化+干氧氧化●常规三步热氧化模式既保证了二氧化硅表面和界面的的质量,又解决了生长速率的问题热氧化法4决定氧化速率的因素口氧化剂分压口氧化温度口硅表面晶向口硅中杂质决定氧化速率的因素5硅一二氧化硅界面特性口硅一二氧化硅界面电荷类型●可动离子电荷●界面陷阱电荷●氧化层固定电荷●氧化层陷阱电荷硅一二氧化硅界面特性6杂质参杂口掺杂:将需要的杂质掺入特定的半导体区域中,以达到改变版胴体电学性质,形成PN结、电阻、欧姆接触口掺杂工艺:扩散、离子注入杂质参杂7硅集成电路工艺基础期末复习课件8扩散机构替位式杂质和间隙式杂质间腺式杂质(杂质原子半径较小)替位式杂质杂质原子与本体原子电子壳层和价电子数接近,半径大小相当)扩散机构9扩散杂质的分布口扩散方式:●恒定表面源扩散●有限表面源扩散口实际方法●两步预扩散在低温下采用恒定表面源扩散方式主扩散将由预扩散引入的杂质作为扩散源,在较高温度下进行扩散。(再分布)扩散杂质的分布10硅集成电路工艺基础期末复习课件11硅集成电路工艺基础期末复习课件12硅集成电路工艺基础期末复习课件13硅集成电路工艺基础期末复习课件14硅集成电路工艺基础期末复习课件15硅集成电路工艺基础期末复习课件16硅集成电路工艺基础期末复习课件17硅集成电路工艺基础期末复习课件18硅集成电路工艺基础期末复习课件19硅集成电路工艺基础期末复习课件20硅集成电路工艺基础期末复习课件21硅集成电路工艺基础期末复习课件22硅集成电路工艺基础期末复习课件23硅集成电路工艺基础期末复习课件24硅集成电路工艺基础期末复习课件25硅集成电路工艺基础期末复习课件26硅集成电路工艺基础期末复习课件27硅集成电路工艺基础期末复习课件28硅集成电路工艺基础期末复习课件29硅集成电路工艺基础期末复习课件30硅集成电路工艺基础期末复习课件31硅集成电路工艺基础期末复习课件32硅集成电路工艺基础期末复习课件33硅集成电路工艺基础期末复习课件34硅集成电路工艺基础期末复习课件35硅集成电路工艺基础期末复习课件36硅集成电路工艺基础期末复习课件37硅集成电路工艺基础期末复习课件38硅集成电路工艺基础期末复习课件39硅集成电路工艺基础期末复习课件40硅集成电路工艺基础期末复习课件41硅集成电路工艺基础期末复习课件42硅集成电路工艺基础期末复习课件43硅集成电路工艺基础期末复习课件44硅集成电路工艺基础期末复习课件45硅集成电路工艺基础期末复习课件46硅集成电路工艺基础期末复习课件47硅集成电路工艺基础期末复习课件48硅集成电路工艺基础期末复习课件49硅集成电路工艺基础期末复习课件50硅集成电路工艺基础期末复习课件51单片机期末复习指导老师:东哥完成者:MZ单片机期末复习52硅片制造厂的分区胜片制造(前端Thinfilms抛光无图形的Diffusion扩散Test/Sort测试/拣选硅片制造厂的分区53二氧化硅的制备方法■CVD(化学气相淀积)口PVD(物理气相淀积)口热氧化热氧化生成的二氧化硅掩蔽能力最强2、质量最好、重复性和稳定性最好降低表面悬挂键从而使表面状态密度减小,且能很好的控制界面陷阱和固定电荷二氧化硅的制备方法54热氧化法三种氧化法比较●千氧氧化:结构致密但氧化速度极低●湿氧氧化:氧化速度高但结构略粗糙,制备厚二氧化硅薄膜●水汽氧化:结构粗糙不可取实际生产:●千氧氧化+湿氧氧化+干氧氧化●常规三步热氧化模式既保证了二氧化硅表面和界面的的质量,又解决了生长速率的问题热氧化法55决定氧化速率的因素口氧化剂分压口氧化温度口硅表面晶向口硅中杂质决定氧化速率的因素56硅一二氧化硅界面特性口硅一二氧化硅界面电荷类型●可动离子电荷●界面陷阱电荷●氧化层固定电荷●氧化层陷阱电荷硅一二氧化硅界面特性57杂质参杂口掺杂:将需要的杂质掺入特定的半导体区域中,以达到改变版胴体电学性质,形成PN结、电阻、欧姆接触口掺杂工艺:扩散、离子注入杂质参杂58硅集成电路工艺基础期末复习课件59扩散机构替位式杂质和间隙式杂质间腺式杂质(杂质原子半径较小)替位式杂质杂质原子与本体原子电子壳层和价电子数接近,半径大小相当)扩散机构60扩散杂质的分布口扩散方式:●恒定表面源扩散●有限表面源扩散口实际方法●两步预扩散在低温下采用恒定表面源扩散方式主扩散将由预扩散引入的杂质作为扩散源,在较高温度下进行扩散。(再分布)扩散杂质的分布61硅集成电路工艺基础期末复习课件62硅集成电路工艺基础期末复习课件63硅集成电路工艺基础期末复习课件64硅集成电路工艺基础期末复习课件65硅集成电路工艺基础期末复习课件66硅集成电路工艺基础期末复习课件67硅集成电路工艺基础期末复习课件68硅集成电路工艺基础期末复习课件69硅集成电路工艺基础期末复习课件70硅集成电路工艺基础期末复习课件71硅集成电路工艺基础期末复习课件72硅集成电路工艺基础期末复习课件73硅集成电路工艺基础期末复习课件74硅集成电路工艺基础期末复习课件75硅集成电路工艺基础期末复习课件76硅集成电路工艺基础期末复习课件77硅集成电路工艺基础期末复习课件78硅集成电路工艺基础期末复习课件79硅集成电路工艺基础期末复习课件80硅集成电路工艺基础期末复习课件81硅集成电路工艺基础期末复习课件82硅集成电路工艺基础期末复习课件83硅集成电路工艺基础期末复习课件84硅集成电路工艺基础期末复习课件85硅集成电路工艺基础期末复习课件86硅集成电路工艺基础期末复习课件87硅集成电路工艺基础期末复习课件88硅集成电路工艺基础期末复习课件89硅集成电路工艺基础期末复习课件90硅集成电路工艺基础期末复习课件91硅集成电路工艺基础期末复习课件92硅集成电路工艺基础期末复习课件93硅集成电路工艺基础期末复习课件94