南京苏曼电子有限公司科罗纳实验室

南京苏曼电子有限公司科罗纳实验室Coronalab.公司介绍

南京苏曼电子有限公司始建于1983年。二十几年来一直致力于低温等离子体技术的理论研究和产品开发及材料表面改性处理技术的研究。成熟的掌握了在低气压和常温常压下，以辉光放电、电晕放电、介质阻挡放电、电弧放电的方式产生低温等离子体的技术。先进的技术苏曼公司在PLASMA产品中融合了谐振型频率脉宽调制技术、微程序控制和模糊程序控制技术、数字信号处理技术等现代先进技术。使苏曼公司推出的相关PLASMA产品实现了电路数字化、软件模糊化、结构模块化、产品系列化。CORONALab.苏曼公司创建的科罗纳实验室（CORONALab.）现在已经成为国内最具技术实力和影响力的低温等离子体技术和相关设备的研发基地。已经推出了十几个系列的PLASMA产品。这些PLASMA设备已经广泛的应用于科研和工业生产中。如包装、纺织、塑料制品、汽车制造、电子设备制造、家电制造、计算机、手机、生物材料、医疗器皿、环保设备、石油天然气管道、供暖管道等行业中。苏曼公司的系列产品用于塑料或金属薄膜表面处理的

CTE-K系列，ZW-A系列，CTR系列CTE-K数码系列CTE-1200K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。

处理宽度：塑料膜100～600mm（双面）

金属膜100～400mm（单面）

体积：200(W)×200(H)×250(D)mm

重量：5kgCTE-1200K数码一体型电晕处理机CTE-K数码系列CTE-2000K数码一体型电晕处理机CTE-2000K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。

处理宽度：塑料膜500～1000mm（双面）

金属膜300～700mm（单面）

体积：250(W)×200(H)×360(D)mm

重量：12kgCTE-3000K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。处理宽度：塑料膜500～1200mm（双面）

金属膜300～900mm（单面）

体积：250(W)×200(H)×360(D)mm

重量：14kgCTE-3000K数码一体型电晕处理机CTE-K数码系列CTE-K数码分体系列CTE-4500K~6000K数码分体型电晕处理机CTE-4500K~6000K数码分体型电晕处理机主要应用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜和金属板材的表面改性处理。处理宽度：塑料膜＜1600mm（双面）

金属膜＜1200mm（单面）特点：主机和变压器分离。CTE-K数码分体系列CTE-8000K数码分体型电晕处理机CTE-8000K数码分体型电晕处理机主要应用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜和金属板材的表面改性处理。处理宽度：塑料膜＜2200mm（双面）

金属膜＜1500mm（单面）特点：主机和变压器分离。CTE-K数码码分体系系列CTE-12000F大功率数数码电晕晕处理机机CTE-12000F大功率率数码电电晕处理理机主要要应用于于印刷、、宽幅吹吹膜、复复合、涂涂布、流流延、金金属化膜膜和金属属板材的的表面改改性处理理。处理宽度度：塑料料膜＜2200mm（（双面））金金属膜膜＜1500mm（单单面）特点：大大功率、、主机和和变压器器分离。。CTR遥遥控系列列CTR-1000K~3000K数码遥控控型电晕晕处理机机CTR-1000K~3000K数码码遥控型型电晕处处理机的的技术指指标对应应于CTE-K系列的的CTE-1200K~3000K。用用于印刷刷、吹膜膜、复合合、涂覆覆、金属属化膜的的电晕处处理。特特点：主主机和控控制器分分离。ZW-A智智能系列ZW-1200A~3600A智能型电晕晕处理机ZW-1200A~3600A智能型电电晕处理机机的技术指指标对应于于CTE-K系列的的CTE-1200K~3000K。用于印印刷、吹膜膜、复合、、涂覆、金金属化膜的的电晕处理理。特点：：智能控制制，一键操操作。RFD-200这是单电极极射频大气气低温等离离子体在大大气压下放放射出的线线状柱形低低温等离子子体区。等等离子体在在电极的3~4cm区域呈辐射射分布，其其形状可为为直线也可可为各种曲曲线。特别别适合处理理宽度在20cm内内的各种中中空的二维维或三维物物体及厚的的板材。如如：各种化化妆品硬包包装、桶、、壶、手机机键盘、机机壳、头盔盔、准平面面、生物材材料。被处处理的材料料表面光洁洁无损。但但不适合处处理金属或或含有金属属和导体的的材料！这是大气喷喷射型射频频低温等离离子体在大大气压下喷喷射出的低低温等离子子体流。由由于喷射出出的等离子子体流为开开放式，特特别适合处处理各种三三维物体上上的孔、槽槽和凹陷部部位。RFD-200特点：自带带气源零电电压喷射式式等离子炬炬PTS-2000等离子炬的的喷射效果果CTD-2000F特点：自带带气源宽副副喷射式等等离子炬等离子炬的的喷射效果果次大气辉光光放电表面面处理系统统HPD-200生产型设备备次大气辉光光放电效果果特点：高气气压、放电电均匀、温温度为常温温HPD-100实验型设备备特点：高气气压、放电电均匀、温温度为常温温、双气源源输入CTP-2000K特点：通用用PLASMA电源源。在化学学、物理、、材料的PLASMA实验中中，可用于于介质阻挡挡放电和辉辉光放电。。介质阻挡放放电架介质阻挡放放电效果介质阻挡平平面放电效效果CTK-600片材材等离子处处理机CP-500片材等等离子处理理机排臭氧双面面处理电晕晕放电架普通双面处处理电晕放放电架普通单面处处理电晕放放电架普通金属膜膜处理电晕晕放电架UWG大功功率智能超超声波电源源Coronalab苏曼公司的的注册商标标：地