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文档简介
5
场效应管放大电路§5.1金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管§5.2
MOS场效应管放大电路§5.3结型场效应管§*5.4
砷化镓金属-半导体场效应管§5.5
各种放大器件电路性能比较§5.6
SPICE仿真例题AGRICULTURAL2MECHANICAL
&
ELECTRICAL
ENGINEERING
COLLEGE
OF
S上
讲
回
顾金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管N沟道增强型MOSFET结构、工作原理、特性曲线N沟道耗尽型MOSFETP沟道耗尽型MOSFETMOSFET的主要参数AGRICULTURAL3MECHANICAL
&
ELECTRICAL
ENGINEERING
COLLEGE
OF
S4MOSFET和BJT放大电路的组态比较:三极管共射极(b)共集电极(c)共基极(b)场效应管共源极(s)共漏极(d)共栅极(g)gdsVDDRdRg1Rg2dBVGID5VS5.2.1简单共源极放大电路的直流分析步骤——直流通路1
假设MOS管工作于饱和区,则有VGSQ>VT,IDQ>0,VDSQ>VGSQ-VT2
利用饱和区的V-I曲线分析电路:D
n
GS
TI
K
(V
V
)2如果出现VGS<VT,则MOS管可能截至,如果VDS<VGS-VT,则MOS管可能工作在可变电阻区。如果初始假设被证明是错误的,则必须作新的假设,同时重新分析电路。gdsVDDRdRg1Rg2dBVGID6VSI
K
(V
V
)2D
n
GS
TVGS=
VG=VDDRg2/(Rg1+Rg2)若NMOS工作于饱和区,则VDS=
VDD-IDRd若计算的VDS>VGS-VT,则说明NMOS确工作于饱和区;若VDS<VGS-VT,则说明工作于可变电阻区。5.2.1简单共源极放大电路的直流分析直流通路工作于可变电阻区的ID:ID
2Kn
(VGS
VT
)vDS5.2.2带源极电阻的NMOS共源极放大电路直流通路gdVDDRdRg1Rg2dVSs若NMOS工作于饱和区,则RVGIDBVGS
VGg
2g1
g
2R(VDD
VSS)
V
(I R
V
)SS
D
SS
R
RI
K
(V
V
)2D
n
GS
TVDS=
VDD+V(Rd+R)-Vss7gdVDDRdRg1Rg2dR-Vss例.如图,设VT=1V,Kn=500μA/V2
,VDD=5V,-VSS=-5V,Rd=10K,R=0.5K,ID=0.5mA
。若流过Rg1,Rg2的电流是ID的1/10,试确定Rg1,Rg2的值。解.作出直流通路,并设MOS工作在饱和区,则由:VSs即0.5=0.5(VGS-1)2I
K
(V
V
)2D
n
GS
T流过Rg1、Rg2的电流为0.05mAVGIDB得VGS=2VRg1
Rg
2Igg1g
2
10
200K0.05R
R8gdVDDRdRg1Rg2dR-Vss例.如图,设VT=1V,Kn=500μA/V2
,VDD=5V,-VSS=-5V,Rd=10K,R=0.5K,ID=0.5mA
。若流过Rg1,Rg2的电流是ID的1/10,试确定Rg1,Rg2的值。解.作出直流通路,并设MOS工作在饱和区,则由:VSsVGIDB2
Rg
210
5
(0.5
0.5
5)
200
Rg2=45K、Rg1=155K9判断假设的正确性:VDS=
(VDD+VSS)-ID(Rd+R)=4.7V则有:VDS>(VGS-VT)=2-1=1V说明管子工作在饱和状态,与最初假设一致。sBVDDRdRg1Rg2d
idCb2—v0+
++—viCb2+
g静态值:VGSQ、IDQ、VDSQ外加信号电压波形:因为:vGS=VGSQ+viωtvi所以vGS的波形为:负载线方程::iD=IDQ+gmviωtvGSVGSQVGSQ1VGSQ20ωtiDIDQIDQ1IDQ20Di
=-+DD10v
VDSRdRd是一条过(VDD,0)和(0,VDD/RD)的直线5.2.3
NMOS共源极放大电路的图解分析vDS/VωtiD(mA)VGSQVDDiD(mA)VDDRdQviIDQQ1Q2vDSωtVDSQ5.2.3
NMOS共源极放大电路的图解分析111.NMOS管的小信号模型双端口网络g
dsvgssvdsidD工作在饱和区的漏极电流i
:2TiD
Kn
vGS
V
Kn
VGSQ
vgs
VT
n
GSQ
2gsn
GSQTn
GSQ
T
gsn
K
V
V
2K
VV
v
K
v2IDQid=gmvgs谐波分量越小越12好,一般取为0。ig=0,输入端相当于开路;gm=2Kn(VGSQ-VT)id=gmvgs,输出回路等效成一个电压控制电流源。5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型GS
DSD,v
)i
=
f
(vDSDS
iDGSGS
iDDvvdiGSV
dvDSV
dv求全微分:双端口网络g
dsvgssvdsidrds
1
diD
gm
dvGS
dvDSdm
gsdsdsri
g
v
1
v变化量13由该式可得到场效应管的微变等效电路5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型1.NMOS管的小信号模型场效应管输出特性表达式:1dm
gsdsdsi
g
v
vr5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型1.NMOS管的小信号模型gsgmvgsvgs+-s+-vdsidd14因rds很大,可忽略,得简化小信号模型:可得到场效应管放大电路的微变等效电路5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型gdsRdRg1Rg2idBv0++—viC2.
场效应管放大电路的微变等效电路首先将电容、电源短路得到交流通路:小信号模型:gdgmvgsv+-+-v0idvi+-gs
RgrdsRd15s根据微变等效电路计算动态参数。5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型2.
场效应管放大电路的微变等效电路首先将电容、电源短路得到交流通路:小信号模型:gsdgmvgs+--+v0idvi+-vgs
RgrdsRd16(1)电压放大倍数vivA
0
gm
Rd(2)输入电阻Ri=Rg1//Rg2(3)输出电阻
R0=Rd小信号模型:gsdgmvgsv+gs-+-v0id+-RviRgRd5.2.4
NMOS共源极放大电路的小信号模型2.
场效应管放大电路的微变等效电路首先将电容、电源短路得到交流通路:(1)电压放大倍数v17ig
Rgmvgs
RdA
v0
v vgs
gmvgs
R
m
d
1
gm
R输入电阻Ri=Rg1//Rg2输出电阻R0=RdgdsBRg1Rg2+—viv0+R小信号模型:dg
vgs+idgmvgsvi+-srds
R
v0Rg5.2.5NMOS共漏极放大电路的小信号模型首先将电容、电源短路得到交流通路:(1)电压放大倍数vivA
v0
取rds为无穷时:gm
(rds
//
R)m
ds1
g
(r
//
R)gm
Rm1
g
R0dsR
=R//r
//gm(2)输入电阻Ri=Rg1//Rg2(3)输出电阻
1推导18dg
vgsidgmvgsvi+-srds
RRgRsvTiT0输出电阻R0的计算:vR
=
T
iTiRirvgs=-vTiT=iR
+ir
-gmvgs
vT
vTTm
Tdsi
g
vR
rvT
119dsTm
mdsig
R
//
r
//
1R
r1
1
g5.2.5
NMOS共漏极放大电路的小信号模型+-vi4020g1
g
2Rg
2VDD
5
2VR
R
60
40GSQ解.
V若管子工作在饱和区,则I
K
(V
V
)2DQ
n
GS
T=0.2×(2-1)2=0.2mA
ID
Rd
(5
0.215)
2VVDSQ
VDD可见:VT
2
1
1VVDSQ
VGSQ说明管子工作在饱和区.例.Rg1=60K,
Rg2=40K,
Rd=15K,
VDD=5V,VT=1V,Kn=0.2mA/V2,RL=15K计算IDQ、VDSQ;Av、Ri、R0。(1)电压放大倍数gm=2Kn(VGS-VT)=2×0.2×
(2-1)=0.4mS2v
m LA
g
R`
0.4
15
3输入电阻Ri=Rg1//Rg2=60//40=24K输出电阻R0=Rd=15K例.Rg1=60K,
Rg2=40K,
Rd=15K,
VDD=5V,VT=1V,Kn=0.2mA/V2,RL=15K计算IDQ、VDSQ;Av、Ri、R0。解.+-vi215.3.1
JFET的结构和工作原理1.N沟道JFET的结构NP+漏极d源极sg栅极N沟道JFET的结构动画g22ds箭头的方向表示栅结正偏置时,栅极电流的方向是由P指向N,故从符号上能识别出d、s之间是N沟道。5.3
结型场效应管JFETPN+漏极d源极sg栅极gds5.3
结型场效应管JFET235.3.1
JFET的结构和工作原理1.N沟道JFET的结构按类似方法可得P沟道JFET的结构242.N沟道JFET的工作原理外电路必须保证结型场效应管的两个PN结工作在反偏的条件下:N沟道结型场效应管只能工作在负栅压区;P沟道的只能工作在正栅压区;否则将会出现栅流。5.3
结型场效应管JFET5.3.1
JFET的结构和工作原理dP+sgP+V25P改变vGS的大小,可以有效地控制沟道电阻的大小,若在漏源极间外加一固定的正向电压vDS,则有漏极电流iD产生且受vGS的控制.5.3.1
JFET的结构和工作原理2.N沟道JFET的工作原理(1)
栅源电压对沟道的控制作用在栅源间加负电压vGS,可见:5.3
结型场效应管JFETdsg5.3.1
JFET的结构和工作原理2.N沟道JFET的工作原理(2)
漏源电压对沟道的控制作用令vGS
=0,在漏源间加电压vDS①当vDS=0时,iD=0。VDDID②VDS
↑→ID→↑沟道发生如下变化:③当VDS↑,使VGD=VGS-VDS=VP时,在漏
出现预夹断。④VDS再↑,预夹断点下移,导电沟道进一步变窄。5.3
结型场效应管JFET26dsgVDDID5.3.1
JFET的结构和工作原理2.N沟道JFET的工作原理(2)
漏源电压对沟道的控制作用令vGS
=0,在漏源间加电压vDS预夹断前,VDS↑→ID↑.预夹断后,VDS↑→iD
几乎不变27原因:随着VDS↑,沟道电阻RDS↑,且两者基本成正比。5.3
结型场效应管JFETVGG如:vGS=-2V,vDS=5VvDG=vDS-vGS=7V
,
vSG=2V随VDS增大,这种不均匀性越明显在同样VDS下,VGG越负,对沟道得影响越大,不均匀性越明显dsgVDD(2)
漏源电压对沟道的控制作用令VGS
<0,在漏源间加电压VDS28ID5.3
结型场效应管JFET5.3.1
JFET的结构和工作原理2.N沟道JFET的工作原理iD(mA)0uGS=0GD预夹断点:v
=vPuGS=
-
0.5V动
画IDSSuGS=
-
1VvDS/VVGGdsgVDDID295.3
结型场效应管JFET(2)
漏源电压对沟道的控制作用5.3.1
JFET的结构和工作原理2.N沟道JFET的工作原理5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线在VGS一定时,漏源电压VDS对漏极电流ID的控制作用,即GS30ID
f
(VDS
)
VC5.3
结型场效应管JFETVGGdNP+sgP+VDDIDmVVmA①VGS=0②VGS=-0.5③VGS=-1④VGS=-1.5VGS
C31ID
f
(VDS
)5.3
结型场效应管JFET5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线vGS=0VvGS=-0.5VvDS/VvGS=-1VGSiD(mA)可变电阻区饱和区击穿v
=-1.5V
区预夹断点:vDS=vGS-VP截止区(a)可变电阻区(预夹断前)当VP<vGS≤0,vDS
≤vGS-VPV-I特性:i
K
2(v
V
)v
v2D
n
GS
P
DS
DS当vGS为定值时,iD
是vDS的线性函数,管子的漏源间呈现为线性电阻,且其阻值受
vGS
控制。管压降vDS
很小做压控线性电阻和无触点的闭合状态的电子开关。325.3
结型场效应管JFET5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线恒流区(预夹断后)(又称饱和区或放大区)受控性:输出电流iD受输入电压vGS的控制恒流性:输出电流iD
基本上不受输出DS电压v
的影响。用途:可做放大器和恒流源。5.3
结型场效应管JFET5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线GSv
=0VvGS=-0.5VvDS/ViD(mA)GSv
=-1VvGS=-1.5V可变电阻区饱和区击穿区GD预夹断点:v
=vPvDS=vGS-VP截止区33(c)夹断区(截止区)特点:iD用途:
0做无触点的、断开状态的电子开关。条件:整个沟道都夹断5.3
结型场效应管JFETvGS=0VGSv
=-0.5VvDS/VGSv
=-1ViD(mA)可变电阻区饱和区击穿区vGS=-1.5V预夹断点:vGD=vPvDS=vGS-VP截止区5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线34(d)
击穿区当漏源电压增大到V(BR)DS时,漏端PN结发生雪崩击穿,使iD
剧增的区域。其值一般为(20~50)V之间。管子不能在击穿区工作。动
画5.3
结型场效应管JFET5.3.2
JFET的特性曲线及参数1.输出特性曲线vGS=0VvGS=-0.5VvDS/VGSv
=-1VGSiD(mA)可变电阻区饱和区击穿v
=-1.5V
区预夹断点:vGD=vPvDS=vGS-VP截止区35VGGdNP+sgP+VDDIDmVVmA-2
-1.5
-1
-0.50.40.30.20.10vGS/VDSv
=6VvDS=3VIDSSVP365.3
结型场效应管JFET5.3.2
JFET的特性曲线及参数2.转移特性曲线iD/mAvDS=10V
0.5iD
/
mA665544332211uDS
/
V48
UDS
12iD
/
mA4
UGS=
03
-
1
V2
-
2
V1
-
3
V—4
VUDS=UDS4′3′UDS=UDS2′1′UP0
uGS
/
V 0
UDS—
1—
3
-
2—
41212动
画375.3
结型场效应管JF
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