重大关键核心技术研发项目资金申请报告

1、PAGE PAGE 40重大关键核心技术研发项目资金申请报告项目名称称 高高端微纳纳光刻装装备研发发与产业业化项目承担担单位 苏州州苏大维维格光电电科技股股份有限限公司 项目负责责人 陈林林森 联系电话话 05512-6288688882-8266 项目主持持部门 江苏苏省发展展和改革革委员会会申报日期期 220155年3月月11日日 江苏省推推进战略略性新兴兴产业发发展工作作领导小小组办公公室二一五五年一月月目录TOC o 1-3 h z u HYPERLINK l _Toc414182700 一、项目目的背景景和必要要性 PAGEREF _Toc414182700 h 3 HYPERLIN

2、K l _Toc414182701 （一）国国内外现现状： PAGEREF _Toc414182701 h33 HYPERLINK l _Toc414182702 （二）技技术发展展趋势： PAGEREF _Toc414182702 h 5 HYPERLINK l _Toc414182703 （三）拟拟解决的的关键技技术和问问题： PAGEREF _Toc414182703 h 66 HYPERLINK l _Toc414182704 （四）对对产业发发展的作作用与影影响： PAGEREF _Toc414182704 h 77 HYPERLINK l _Toc414182705 （五）市市场分

3、析析： PAGEREF _Toc414182705 h 8 HYPERLINK l _Toc414182706 二、项目目法人基基本情况况 PAGEREF _Toc414182706 h 9 HYPERLINK l _Toc414182707 三、项目目的技术术基础 PAGEREF _Toc414182707 h 113 HYPERLINK l _Toc414182708 （一）成成果来源源及知识识产权情情况 PAGEREF _Toc414182708 h 133 HYPERLINK l _Toc414182709 （二）产产学研合合作情况况 PAGEREF _Toc414182709 h 1

4、5 HYPERLINK l _Toc414182710 （三）已已完成的的研究开开发工作作及中试试情况和和鉴定年年限 PAGEREF _Toc414182710 h 177 HYPERLINK l _Toc414182711 （四）技技术或工工艺特点点以及与与现有技技术或工工艺比较较所具有有的优势势 PAGEREF _Toc414182711 h 22 HYPERLINK l _Toc414182712 （五）重重大关键键技术突突破对行行业技术术进步的的重要意意义和作作用 PAGEREF _Toc414182712 h 244 HYPERLINK l _Toc414182713 四、项目目建设

5、方方案 PAGEREF _Toc414182713 h 266 HYPERLINK l _Toc414182714 （一）建建设的主主要内容容、建设设规模 PAGEREF _Toc414182714 h 226 HYPERLINK l _Toc414182715 （二）工工艺技术术路线与与技术工工艺特点点 PAGEREF _Toc414182715 h 27 HYPERLINK l _Toc414182716 （三）设设备选型型及主要要技术经经济指标标 PAGEREF _Toc414182716 h 28 HYPERLINK l _Toc414182717 （四）产产品市场场预测 PAGERE

6、F _Toc414182717 h 330 HYPERLINK l _Toc414182718 （五）建建设地点点、建设设周期和和进度安安排、建建设期管管理等 PAGEREF _Toc414182718 h 332 HYPERLINK l _Toc414182719 五、项目目投资 PAGEREF _Toc414182719 h 334 HYPERLINK l _Toc414182720 （一）项项目总投投资规模模、资金金来源、投资使使用方案案 PAGEREF _Toc414182720 h 34 HYPERLINK l _Toc414182721 （二）资资金筹措措方案 PAGEREF _T

7、oc414182721 h 335 HYPERLINK l _Toc414182722 六、项目目财务分分析、经经济分析析及主要要指标 PAGEREF _Toc414182722 h 336 HYPERLINK l _Toc414182723 （一）财财务分析析 PAGEREF _Toc414182723 h 36 HYPERLINK l _Toc414182724 （二）风风险分析析 PAGEREF _Toc414182724 h 38 HYPERLINK l _Toc414182725 （三）经经济效益益分析 PAGEREF _Toc414182725 h 339 HYPERLINK l

8、_Toc414182726 （四）社社会效益益分析 PAGEREF _Toc414182726 h 339 HYPERLINK l _Toc414182727 八、资金金申请报报告附件件 PAGEREF _Toc414182727 h 41本项目符符合江江苏省“十二五五”培育和和发展战战略性新新兴产业业规划中产业业发展重重点：（七）高高端装备备制造产产业 -智能制制造装备备，同时时也是（二）新新材料产产业中的的上游核心心设备，负责工工艺流程程中前端端制程，具有关关键支撑撑作用。一、项目目的背景景和必要要性国内外现现状和技技术发展展趋势，拟解决决的关键键技术和和问题，对产业业发展的的作用与与影响

9、，市场分分析。（一） 国内外外现状：高端微纳纳光刻装装备是开开展微纳纳新材料料、半导导体、MMEMSS、生物物芯片、精密电电路、平平板显示示、固态态照明等等领域技技术研发发和产品品生产的的必要设设备。目前，一一场新型型柔性功功能材料料的革命命性改变变正在发发生：超超薄柔性性材料的的功能化化，成为为推动行行业发展展的革命命性力量量，使得得精密加加工制造造技术向向微米-纳米结结构和智智能制造造发展。随着移移动互联联的高速速发展，便携、可穿戴戴光电子子器件需需要进一一步解决决节能、低成本本问题。柔性电子子制造领领域国家家计划与与政府投投入：美美国FDDCASSU计划划、在220122年美国国“总统报

10、报告”中将柔柔性电子子制造作作为先进进制造111个优优先发展展的尖端端领域、20112年NNASAA制定柔柔性电子子战略、20114年成成了柔性性混合电电子器件件制造创创新中心心；欧盟盟（第77研究框框架、地地平线计计划）的的印刷技技术在柔柔性塑料料基底上上进行制制备、英英国（“抛石机机”计划、建设英英国的未未来计划划）将塑塑料电子子作为制制造业主主要发展展领域；德国投投资数十十亿欧元元建立柔柔性显示示生产线线；韩国国韩国国绿色IIT国家家战略20110年投投资7220亿美美金发展展AMOOLEDD；日本本TRAADIMM计划在在20111年成成立先进进印刷电电子技术术研发联联盟；我我国电子子

11、信息制制造业“十二五五”发展规规划，新新型显示示器件、太阳能能光伏等等作为发发展重点点方向，国家自自然科学学基金112-55、133-5规规划中将将柔性电电子作为为微纳制制造重要要研究领领域。柔性光电电功能材材料具有有数以千千亿计的的潜在市市场需求求。在下下一代裸裸眼3DD显示、大尺寸寸柔性触触控屏、OLEED照明明的纳米米衬底、可穿戴戴电子器器件，具具有微米米级线宽宽-纳米米结构，现有的的光刻设设备达不不到这种种精度加加工的要要求。微纳光刻刻装备是是高端技技术密集集型微纳纳产业中中的核心心设备，负责工工艺流程程中前端端制程。这些产产业的发发展，离离不开微微纳光刻刻装备。高端微微纳光刻刻设备，

12、对于科科学研究究中的工工艺试验验研究、新品研研发、产产品生产产，实现现跨越发发展都具具有重大大意义。目前高端端微纳光光刻装备备领域的研研发和产产业化工工作开展展较好的的公司在在国外，如德国国Heiidellberrg IInsttrummentts、瑞瑞典Miicroonicc、以色色列Orrbottechh、美国国Appplieed MMateeriaal，能能够对市市场需求求和设备备研发制制造形成成良性的的循环，另外，韩国、日本等等一些研研发型公公司也在在进行该该项工作作的推进进。我国科研研院所在在微纳光光刻领域域的研究究，主要要模式是是采购国国外科研研型设备备，进行行工艺和和器件的的开发

13、，对高端端装备技技术的研研究开展展较少。国内产业业环境的的发展，产品创创新对高高端微纳纳直写光光刻与加加工装备备具有大大量需求求；与国国外企业业相比，在技术术沟通、服务响响应能力力方面具具有优势势；国内内还缺乏乏“微纳级级别”的高端端智能激激光直写写光刻装装备的研研发与制制造企业业，苏大大维格公公司通过过国家8863计计划的重重点项目目的资助助，掌握握了微纳纳直写装装备的核核心技术术，拥有有人才团团队，依依托于国国家发改改委批准准的“国家地地方联合合工程研研究中心心”，公司司在高端端微纳智智能装备备的研发发具有，同时公公司也是是创业板板上市公公司在产产业化上上也有优优势。值得一提提的是，本公司

14、司（苏大大维格）在国家家8633计划和和江苏省省攀登计计划支持持下，在在高端微微纳光刻刻设备的的研发上上卓有成成效，积积累了若若干光机机电关键键技术，激光智智能SLLM干涉涉直写仪仪器等设设备填补补行业空空白，在在1000nm特特征尺寸寸的直写写系统上上，研发发成功HHolooScaanV、HolloMaakerrIIII和iGGrappherr2000等系列列化的仪仪器设备备，具有有行业领领先水平平，在国国内著名名高等研研究院所所应用，并出口口日本、以色列列等国。获20011年年国家科科技进步步二等奖奖，省科科技进步步一等奖奖。（二）技技术发展展趋势：微纳米技技术产业业作为先先导性领领域，对

15、对我国新新兴产业业的创新新发展中中具有不不可或缺缺的先导导作用，高端微微纳光刻刻装备是是进行微微纳技术术的科学学研究、新器件件、新功功能材料料的研发发与应用用的核心心仪器，具有关关键支撑撑作用。举例说明明，“光电转转换效率率提升”是新型型光电器器件（LLED，太阳能能、新型型照明、低耗能能材料）研究的的核心问问题，除除了材料料自身的的光电特特性之外外，微纳纳结构分分布与高高效制备备是推进进高性能能器件研研制的重重要方向向，例如如，在LLED领领域，纳纳米图形形化技术术是提升升器件发发光效率率的重要要途径，目标达达到每瓦瓦1500流明以以上，纳纳图形理理论和实实验研究究是重点点领域；薄膜太太阳能

16、电电池的效效率提升升需纳米米陷光结结构衬底底的制备备；在平平板立体体显示领领域，纳纳米线栅栅结构、3D位位相延迟迟片偏振振片、滤滤光片是是提升显显示光能能利用率率的重要要研究方方向；在在光电子子、微机机电系统统器件等等科学研研究领域域，需要要有高分分辨、高高效、33D曝光光的多功功能图形形化手段段和检测测仪器，尤其在在大尺寸寸纳米结结构器件件的无损损检测是是急需解解决的重重大问题题；在国国防领域域，超大大幅面光光栅的研研制，需需要有更更好的检检测仪器器。在纳纳米印刷刷研究和和开发领领域，高高端图形形化与检检测是提提供无油油墨纳米米色彩图图像品质质的必由由之路。因此，该类型型的高端端微纳图图形化

17、仪仪器设备备的研制制，可打打破国外外技术垄垄断，具具有重大大战略意意义。微纳图形形直写与与检测仪仪器设备备的研制制，对于于科学研研究中的的工艺试试验研究究、新品品研发中中的图形形快速制制备与检检测，实实现跨越越发展具具有重大大意义。（三）拟拟解决的的关键技技术和问问题：紫外大视视场平场场成像光光学系统统研制：光学系统统是微纳纳光刻装装备的基基础性关关键部件件，对装装备的总总体性能能具有重重要影响响。针对对各种不不同影响响，设备备的光学学系统将将做相应应的设计计和研制制。本公公司在紫紫外位相相-空间间混合调调制的微微纳光学学系统具具有自主主知识产产权，是是高效微微纳米图图形光刻刻的有效效解决手手

18、段。自动化多多轴控制制技术：基于可编编程多轴轴控制器器的自动动化控制制技术，是精密密光刻设设备运行行的关键键技术。通过编编写程序序实现设设备光、机、电电的协调调运行，实现设设备的预预期功能能。控制制技术包包含了同同步曝光光技术、数据分分割和上上载技术术、图像像处理技技术、高高速多轴轴平台闭环环控制技术术等。本本公司在在基于PPMACC、ACCS等的的控制器器的控制制技术有有了长期期研发基基础，研研发了飞飞行曝光光技术、Z-校校正自动动聚焦技技术、积积分曝光光技术等等，为设设备功能能多样化化开发积积累了经经验。微纳数据据处理技技术：大幅面微微纳结构构图形的的数据是是海量的的，例如如，以数数据解析

19、析分辨率率为0.25uum计算算，10000mmm10000mmm图形的的数据量量将达到到16TTB。微纳结构构数据，采用具具有行业业共性的的GDSSII、DXFF、GEERBEER、CCIF等等格式。数据处理理技术，流程是是：数据据格式转转换数据据图形化化图形数数据切割割和组合合。光刻刻是数据据分批分分队列上上载到光光刻设备备，通过过控制软软件将图图形光刻刻输出。工艺开发发和优化化：针对具体体应用方方向，需需要对光光刻工艺艺进行探探索和研研究，通通过测试试和分析析结果，对工艺艺的控制制参数、部件参参数进行行优化，最终满满足应用用需求。（四）对对产业发发展的作作用与影影响：“十二五五”期间，国

20、家和和江苏省省鼓励新新兴产业业发展，江苏省省及苏州州地方将将纳米技技术产业业作为主主导发展展产业，迫切需需要研究究并解决决产业发发展中缺缺乏上游游微纳制制造技术术的共性性问题。20114年，国家发发展改革革委深入入贯彻落落实创新新驱动战战略，以以加快经经济结构构战略转转型为主主攻方向向，以改改革创新新促发展展，切实实推动高高技术产产业和战战略性新新兴产业业平稳健健康发展展。其中中的一个个重点就就是深入入推进新新型平板板显示、高性能能医学诊诊疗设备备等重大大创新发发展工程程建设，扩大节节能环保保、信息息惠民、卫星导导航、智智能制造造等领域域的示范范应用，重点突突破深刻刻影响产产业发展展的关键键核

21、心技技术，推推动传统统产业改改造升级级，加快快培育新新的经济济增长点点。高端端微纳光光刻装备备是上述述领域上上游所需需的核心心设备，具有关关键支撑撑作用。中国版工工业4.0规划划中中国制造造业发展展纲要(20115220255)即即将于220155年出台台。作为为牵头制制定中国国制造业业20225规划划的部门门，工信信部已着着手研究究制定装装备制造造领域相相关专项项规划，规划重重点实施施领域为为新一代代信息技技术产业业、生物物医药与与生物制制造产业业、高端端装备制制造产业业、新能能源产业业等四大大产业领领域。本项目突突破大尺尺度幅面面、纳米米结构及及纳米精精度、微微纳结构构器件与与材料的的低成

22、本本制造关关键技术术，开发发高端微微纳制造造装备，满足提提升产业业创新能能力，促促进区域域经济发发展方面面的需求求，建设设微纳结结构器件件功能设设计、微微纳米柔柔性制造造关键技技术与装装备、材材料应用用及加工工检测创创新平台台。对区区域纳米米技术创创新体系系的完善善，对相相关产业业转型升升级、高高技术企企业孵化化、高端端人才培培养与引引进具有有重大作作用。高端微纳纳光刻装装备对多多个产业业的发展展具有重重要作用用：平板显示示和触控控屏：用用于光掩掩模版制制备、大大幅面触触摸屏电电路图形形化光刻刻，例如如55寸寸的大尺尺寸电容容触控屏屏电路制制备等。TV超薄薄背光源源（BLLU）：平板电电脑、液

23、液晶显示示器、电电视机的的超薄化化趋势，用于超超薄导光光板的热热压模具具制备（例如770寸微微透镜金金属压印印模具）。高密度柔柔性电路路、ICC载板：10m以下下线宽工工艺，是是下一代代集成电电路3DD封装必必须的关关键技术术，目前前需要00.255微米分分辨率的的高精度度直写光光刻设备备。MEMSS芯片：MEMMS芯片片制备，需要解解决厚胶胶图形化化光刻工工艺。公共安全全：特殊殊微纳结结构的视视读特征征，是实实现证卡卡安全、产品保保护、金金融安全全等领域域公共安安全的有有效手段段。科研、国国家项目目需求：微纳加加工技术术，是诸诸多科研研领域的的共性技技术，小小型微纳纳光刻设设备，可可用于高高

24、等院所所的实验验室，特特殊定制制的微纳纳光刻装装备，可可以服务务于国家家重大项项目。（五）市市场分析析：柔性电子子技术已已经并将将开辟出出许多创创新的电电子产品品应用领领域，从从而，带带来一场场电子信信息技术术革命。据IDDTecchExx预测，20111年柔柔性电子子的市场场销售额额将高达达49.3亿美美元，220188年为4469.4亿美美元，220288年为330100亿美元元。柔性电子子制造技技术和装装备是穿穿戴式电电子、新新能源、高端显显示、物物联网和和智能家家居领域域发展的的关键技技术，可可提供原原创性柔柔性电子子器件、知识产产权和关关键技术术，能为为新兴市市场培育育、高层层次人才

25、才培养提提供新机机遇，服服务并推推动相关关信息产产业的跨跨越发展展。二、项目目法人基基本情况况项目法人人的所有有制、主主营业务务，近三三年的销销售收入入、利润润、税收收、固定定资产、资产负负债率、银行信信用等级级、企业业技术开开发、经经营管理理、资金金筹集、市场开开拓等情情况。企业名称称：苏州州苏大维维格光电电科技股股份有限限公司企业性质质： 股股份制企企业，深深交所创创业板上上市公司司（代码码：30003331）企业地址址：苏州州工业园园区新昌昌路688号；资本：93000万人人民币主营业务务：激光光光刻直直写系统统与纳米米压印装装备、LLED纳纳米图形形光刻设设备、OOGS掩掩膜和灰灰度光

26、刻刻设备；光学（镭射）膜：定定制光学学（镭射射）印材材、防伪伪解决方方案和材材料；平平板显示示照明：超薄导导光板、大尺寸寸电容触触控屏（非ITTO）；光掩模模板。公司已于于20112年66月在深深交所创创业板上上市（股股票代码码：30003331），银行信信用等级级：AAA级近三年财财务情况况： （万元）年度销售收入入利润税收固定资产产资产负债债率20122218771.8824599.28818711.35550300.33319.116%20133245772.33219366.68810844.944123888.6616.883%20144276661.88630122.9332014

27、4.466140887.22417.550%公司建有有国家级级研究平平台“数码激激光成像像与显示示国家地地方联合合工程研研究中心心”（国家家发改委委批准，20111年），设有有“ HYPERLINK t _blank 江苏省省微纳柔柔性制造造工程技技术研究究中心”（20010年年，省政政府批准准），拥拥有60000平平米用于于工程研研究和产产品中试试的实验验室。图1 公公司场地地具有面向向新型显显示、照照明和成成像领域域的微纳纳制造工工程研发发与检测测条件。设有四四个研发发方向：先进光光学显示示器件、微纳制制造技术术与装备备、柔性性材料与与器件和和纳米印印刷技术术。公司司建有江江苏省院院士工作

28、作站和全全国博士士后工作作站。图2 国国家工程程中心和和院士工工作站公司拥有有国际一一流创的的新团队队，江苏苏省科技技创新团团队。重重大成果果获得：国家科科学技术术进步二二等奖（20111年度度）、江江苏省科科技进步步一等奖奖（20011年年度，220077年度）、第十十二届、十四届届“中国优优秀专利利奖”（20010年年，20012年年）、第第七届江江苏省专专利金奖奖等奖项项。为此此，公司司荣获首首届江苏苏省企业业技术创创新奖（全省119家企企业）。图3 重重大科技技获奖公司拥有有授权发发明专利利49项，其中与与本项目目相关自自主研发发设备和和技术已已获得发发明专利利16项项。公司建立立了以

29、市市场为导导向、自自主创新新为推动动力的经经营管理理制度，从产品品设计、品质管管理、客客户沟通通与服务务、到产产品质量量体系认认证、新新品导入入与跟踪踪，有完完整的管管理制度度，力图图与国际际体系接接轨。形形成了一一个研发发、设计计、装备备改进、制程提提升、各各户认证证的快速速反应能能力。对对于新品品导入项项目，成成立项目目领导小小组，以以董事长长为负责责人，总总经理执执行人的的项目领领导组，协调与与处理项项目研发发、市场场实施过过程中的的各种问问题。业内第一一个研发发成功并并批量化化14寸寸0.5mmm厚度LLED超超薄导光光板卷对对卷产线线，实现现产业应应用； 发发明并实实现消色色差光学学

30、膜的高高效光刻刻方法； 发发明了“宽幅衍衍射光变变图像高高速光刻刻方法与与设备”：解决决了微纳纳结构工工业化制制备的行行业难题题； 率率先建立立了“微纳柔柔性制造造生产线线”，从“微纳结结构设计计、材料料特性研研究、重重大装备备研发和和成果产产业化”工艺链链； 第第一个研研制成功功“3D光光变图像像全息制制版系统统”实现了了全息图图像的微微纳结构构表达，并推进进了立体体图像的的工业化化应用； 发发明“定位激激光转移移纸张”（印刷刷第一色色概念），实现现产业化化； 第第一个研研发成功功数字化化“数码激激光全息息制版系系统”，国内内外广泛泛使用； 提提出并实实现了导导模共振振纳米光光子晶体体变色薄

31、薄膜。三、项目目的技术术基础成果来源源及知识识产权情情况，产产学研合合作情况况，已完完成的研研究开发发工作及及中试情情况和鉴鉴定年限限，技术术或工艺艺特点以以及与现现有技术术或工艺艺比较所所具有的的优势，该项技技术的突突破对行行业技术术进步的的重要意意义和作作用。（一）成成果来源源及知识识产权情情况核心技术术来源于于苏大维维格公司司的技术术积累和和产学研研合作，公司在在高精度度激光微微纳米直直写和加加工技术术方面开开展了长长期研发发创新，主要包包括微光光学元器器件开发发、纳米米精度光光机结构构研发、4-66轴运动动控制技技术、CCCD影影像检测测处理技技术、海海量图形形数据处处理和传传输技术术

32、等，为为本项目目开发积积累了大大量核心心和关键键技术。依托单位位是本行行业内惟惟一建有有国家工工程研究究中心“”数码码激光成成像与显显示国家家地方联联合工程程研究中中心（国国家发改改委批准准，20011年年），表表明了行行业领先先地位。目前，我国唯唯一具有有大面积积（微纳纳金属模模具制备备能力、能够实实现大尺尺寸纳米米尺度图图形掩模模、配套套纳米压压印全制制程、拥拥有自主主知识产产权，目目前支持持42”尺寸微微纳透明明导电材材料。依依托单位位在微纳纳制造装装备的应应用基础础研究、技术创创新、材材料研发发和高端端装备研研制方面面，形成成了完整整的创新新链，并并已在多多个产业业实现规规模应用用。本

33、项项目经过过国家重重大8663专项项的支持持，已经经完成了了技术攻攻关，即即将进入入产业化化阶段。在激光直直写和加加工技术术领域，获得发发明专利利授权116项：专利名称称专利号光学加工工系统和和方法ZL 2201221011144482.4光学加工工系统和和方法ZL 2201221000763397.3光学加工工系统和和方法ZL 2201221000762272.0一种步进进式光学学加工系系统和加加工方法法ZL 2201111033237729.9一种透明明导电膜膜及其制制作方法法ZL 2201001055332228.9一种光刻刻装置和和光刻方方法ZL 2201001055037788.X一

34、种金属属母板的的制作方方法ZL 2201001022874422.3一种导光光膜制作作装置ZL 2201001022245529.3一种卷对对卷紫外外纳米压压印装置置及方法法ZL 2201001022245532.5并行光刻刻直写系系统ZL 2201001011709978.4用于紫外外激光干干涉光刻刻直写系系统的光光学镜头头ZL 2200991000282297.1多视角图图形输入入的三维维图形直直写方法法ZL 2200991000282296.7一种彩色色滤光片片的制作作方法与与装置ZL 2200881011237711.2一种精密密数字化化微纳米米压印的的方法ZL 22007710113

35、23387.6对光滑表表面进行行微米结结构光刻刻蚀的方方法及装装置ZL 2200661000377797.8衍射光变变图像的的高速激激光直写写方法和和系统ZL 2200551000957775.2受理发明明专利117项。专利名称称申请号一种导光光膜制作作装置PCT/CN220100/07797336APPAARATTUS FORR MAANUFFACTTURIING LIGGHT GUIIDE FILLMU种紫外外固化微微纳米结结构拼版版装置及及拼版工工艺201331011529954.X三维激光光打印方方法与系系统201331011663341.1分束器件件、多光光

36、束干涉涉光路系系统201331022342223.X纳米图形形化衬底底制备装装置与方方法201331022361124.5一种标签签签注方方法与系系统201331022910009.8连续可调调结构光光照明的的超分辨辨显微成成像方法法与系统统PCT/CN220133/08878883超薄触控控传感器器及其制制作方法法201441000376667.9一种三维维码及其其制作方方法201441000420013.5一种激光光直写系系统与光光刻方法法201441000421111.9一种变色色烫印膜膜及其制制造方法法201441000620088.X掩膜版及及其制备备方法和和图形化化方法201441

37、022247727.8彩色动态态图的激激光打印印装置及及方法201441044485548.2一种无掩掩膜激光光直写叠叠加曝光光方法201441066212284.6一种多视视角像素素指向型型背光模模组及裸裸眼3DD显示装装置201441088522242.3基于大面面积多台台阶二元元光学元元件的激激光直写写方法201551000125577.9软件著作作权4项：登记号软件名称称20111SR00371129基于DXXF的并并行激光光直写加加工图形形处理软软件V11.020111SR00371127基于DiirecctX的的空间光光调制器器图形发发生软件件V1.020111SR00416635

38、苏大维格格频闪曝曝光直写写系统20155SR00179923HolooMakkerIIIICC SyysteemV11.0获奖清单单如下：项目名称称奖励名称称获批时间间大幅面微微纳图形形制造技技术及产产业化应应用国家科技技进步二二等奖20111.122卷对卷纳纳米压印印关键技技术及应应用江苏省科科学技术术进步一一等奖20122.2面向微纳纳柔性制制造的创创新工程程江苏省企企业技术术创新奖奖20122.2衍射光变变图像高高速制作作方法与与系统中国专利利优秀奖奖20100.111微光变图图像的激激光直写写方法及及装置中国专利利优秀奖奖20122.111宽幅智能能激光SSLM光光刻系统统与应用用江苏

39、省科科学技术术进步一一等奖20088.5亚波长光光学制造造技术研研究与应应用教育部科科学技术术进步二二等奖20088.1一种消色色差变色色银衍射射图像的的制作方方法江苏省专专利金奖奖20111.122微结构制制造的高高效光刻刻技术与与应用教育部技技术发明明二等奖奖20099.1（二）产产学研合合作情况况“十二五五”期间，在国家家高技术术研究（8633计划）计划重重大项目目、国家家自然基基金重点点项目的的资助下下，苏州州苏大维维格光电电科技股股份有限限公司与与相关业业内企业业和高校校协同合合作，攻攻克了“微纳柔柔性制造造工艺装装备”、“3D成成像纳米米印刷技技术”、“彩色全全息显示示的基础础问题

40、”方面关关键基础础问题和和技术难难题，取取得国内内外瞩目目的重大大成果，引起国国内外同同行的高高度关注注。第一，前前瞻性重重大技术术创新取取得突破破。从原原理上，现有的的技术手手段（如如金刚石石加工仅仅能加工工柱光栅栅膜的模模具）不不能加工工全息原原理的裸裸眼3DD显示，必须突突破纳米米加工技技术瓶颈颈。苏大大维格在在高端微微纳装备备及关键键技术方方面取得得重大研研究进展展，在国国际上率率先实现现“四独立立变量微微纳结构构快速制制造”、“大幅面面微纳混混合光刻刻”等新技技术方法法，研发发成功“纳米级级制造设设备”，使得得中国在在“大幅面面微纳结结构制造造”方面拥拥有了自自主高端端装备。先后获获

41、国家科科技进步步二等奖奖（20012）、江苏苏省科技技一等奖奖（20011）和中国国专利奖奖（20010）。因此此，在纳纳米加工工设施、知识产产权方面面，为本本项建议议任务提提供关键键手段支支撑。第二，需需求牵引引的组织织模式创创新。通通过运行行机制的的创新，纳米技技术从实实验室走走向产业业应用，形成上上下游的的创新链链，协同同产业和和高校共共同推进进在纳米米印刷（3D图图像印刷刷）、柔柔性电子子（微结结构透明明导电膜膜）、平平板显示示（超薄薄导光板板）的产产业应用用，并取取得重大大进展，培育了了1家上上市公司司（20012年年上市）和5家家国家高高新技术术企业。从基础础环节创创新、整整个过程

42、程的技术术工艺创创新，直直至推进进产业应应用，探探索了产产业链创创新的成成功路径径，为取取得颠覆覆性重大大目标产产品提供供了组织织上经验验。第三，以以重大任任务（目目标产品品）为目目标的创创新能力力建设。苏大维维格公司司组建了了“国家地地方联合合工程研研究中心心”（数码码激光成成像显示示）（国国家发改改委20011年年批准），60000平平米研发发场所，1万平平米中试试平台。在重大大目标产产品的取取得突破破，得到到同行专专家、领领导和市市场高度度评价。华为科科技、京京东方科科技、龙龙腾光电电、苏大大维格光光电等一一批企业业具备合合作推进进裸眼33D显示示关键技技术和部部件研制制的基础础能力。

43、为今今后以重重大任务务位目标标的组织织实施，提供了了更好的的创新平平台和产产业合作作基础。第四、培培养一支支敢于承承担风险险和奉献献、能承承担重大大任务的的团队。通过协协同合作作和体制制机制改改革，培培养了一一支高素素质的团团队，团团队成员员以中青青年成员员为主，包括国国家8663计划划重大项项目首席席专家，千人计计划人才才、海外外特聘教教授和国国内杰出出年轻人人才构成成的充满满活力创创新与创创新混合合的团队队。在 “裸眼33D显示示的基础础问题”，“纳米结结构3DD成像原原理”、“纳米导导光板研研究”方面做做了大量量工作，敢于突突破和自自主创新新。（三）已已完成的的研究开开发工作作及中试试情

44、况和和鉴定年年限1、根据据不同的的行业应应用需求求和加工工的尺度度不同，已完成成四种类类型样机机的研发发：（1）、高速激激光图形形直写光光刻装备备应用样样机：iiGraapheer系列列iGraapheer专门门用于精精密电路路、光掩掩模（光光罩MAASK）、微纳纳结构无无掩模光光刻的“高端激激光直写写设备(UV lasser pattterrn ggeneerattor)。幅面面：8英英寸-665英寸寸，应用用90nnm-1130nnm节点点（0.22uum-00.5uum光学学分辨率率）柔性性电路和和光掩膜膜板制备备。iGraapheer突破破了一系系列关键键难题技技术，实实现了上上述大幅

45、幅面微图图形高速速直写功功能，对对光掩模模文件、集成电电路文件件全兼容容。iGGrappherr采用高高速空间间光调制制器（sspattiall liightt moodullatiion），阵列列图形输输入模式式（可达达8k帧帧），33D导航航飞行曝曝光（33D nnaviigattionn fllyinng eexpoosurre）、纳秒时时序平铺铺曝光（parrallleliism、 naano-seccondd paatteerniing）技术，专用于于光掩模模、柔性性电子的的微图形形（线宽宽1umm-100um）、LIIGA工工艺、微微纳模具具的高效效光刻。（2）、多功能能微图形形光

46、刻设设备工程程样机：MiccrollabMicrroLaab1000是一一款适应应微结构构图形光光刻的名名副其实实的小型型微加工工实验室室，系统统操作方方便在微微纳结构构功能器器件、生生物与微微纳界面面作用（微流控控、基因因芯片、探针）和光电电子、微微光学等等研究中中，MiicrooLabb是一种种理想的的、高性性价比的的微加工工手段。尤其适适合于小小尺寸精精密掩膜膜、CGGH、微微光学器器件、光光束整形形、MEEMS、衍射与与折射光光学阵列列的研制制。MicrroLaab1000支持持灰度光光刻grraysscalle llithhogrraphhy，拖拖曳曝光光（形状状光阑积积分曝光光）l

47、aaserr drragggingg，图形形化paaralllell paatteerniing，3D形形貌等高高级加工工，比如如，闪耀耀槽型、微透镜镜阵列、多台阶阶图形、点阵图图形等，支持薄薄胶和厚厚胶工艺艺。支持持DXFF，GDDSIII，位图图文件。只要有有基本计计算机背背景和图图像知识识，适当当培训后后，就可可以上机机操作。支持224小时时不间断断运行，运行成成本低，占地44平方米米，基本本免维护护。适合合于科学学研究、研究生生培养之之用途。（3）、大幅面面微纳金金属模具具激光加加工设备备工程样样机：iiEnggravver大幅面激激光精密密微加工工设备，用于超超薄TVV背光源源金属模

48、模具制备备。可实实现幅面面1570寸寸。大尺尺寸精密密导光板板的模具具光学性性能为业业内做好好水平，精密模模具加工工设备与与工艺成成熟度得得到充分分验证，加工的的超薄导导光板的的光学效效率、导导光均齐齐度为业业内最高高水准。性能参数数：最小小微结构构尺寸115umm激光光源源： HYPERLINK mailto:100kHz10W 300kHzz100W机台：花花岗石机机台光学头单单次扫描描面积：10mmmx110mmm - 15mmmx115mmm加工速率率：4-10小小时（不不同模具具尺寸和和光学网网点）运运动平台台：直线线电机驱驱动定位精度度：0.1umm行程：根根据型号号确定软件：光光

49、学设计计文档格格式，或或*.DDXF；*.AARR配套：整整套网点点设计和和处理工工艺（4）、激光动动态图形形签注系系统实现了不不需要位位移和旋旋转的33D动态态图形的的实时签签注方法法和关键键技术。采用曲曲面扩散散片实现现3D动动态图像像签注的的景深变变化，实实现签注注的动态态聚焦，同时设设计不同同棱角位位置与棱棱角锲角角，通过过软件控控制记录录图形的的位置，分别对对应在相相应锲形形棱镜位位置，一一次性签签注将能能获得不不同再现现视角的的角度与与方向的的效果。签注效效率高，适合工工程化应应用。能够同时时满足变变景深、多视角角签注的的要求，提高了了签注图图形技术术门槛。图形签签注仅需需5秒至至

50、10秒秒，能满满足激光光签注的的工程化化应用。在工业业化应用用方面，可应用用在银行行卡、护护照、等等证卡的的个性化化序列号号和动态态图形的的签注，号牌激激光安全全防伪签签注，食食品安全全三维码码溯源签签注技术术等公共共安全领领域上。2、完成成场地建建设：220000平方米米场地。（1）、机械部部件装配配间（2）、电气部部件装配配间（3）、总装调调试间（4）、部件、材料、成品仓仓库（5）、员工培培训室（6）、生产调调度室鉴定年限限：本项项目的鉴鉴定年限限为20017年年3 月月。（四）技技术或工工艺特点点以及与与现有技技术或工工艺比较较所具有有的优势势技术特点点：（1）攻攻克了空空间-位位相调制

51、制的图形形化技术术，微米米-纳米米混合光光场调制制，从而而能实现现/4结结构分辨辨率的国国际领先先水平（在3555波长长下，实实现1000nmm结构）；（22）纳秒秒时序33D导航航飞行曝曝光，实实现大面面积微纳纳米结构构的快速速光刻，定位精精度达到到20nnm；（3）海海量数据据处理和和直写软软件与硬硬件技术术；支持持40TTB的数数据处理理。（44）4-6轴的的纳米精精度控制制技术；（5）微纳功功能材料料加工的的工艺：力图在在国际上上率先实实现3DD纳米印印刷技术术，为柔柔性材料料功能化化提供关关键技术术手段。在应用用工艺上上，重点点攻克在在显示、新型照照明和触触控传感感材料低低成本制制造

52、技术术，推进进行业合合作和潜潜在重大大应用，与相关关产业（例如华华为）共共同研发发攻关“微纳米米结构手手机功能能”光刻工工艺研究究。技术先进进性优势势：1、微纳纳直写光光刻与加加工设备备，综合合了微纳纳光学、精密机机械、数数控电气气、纳米米精度控控制，利利用计算算机或工工作站进进行4-5轴的的光机电电联合控控制，高高端技术术的集成成度高，设备自自动化化化运行，属于高高端智能能装备。2、该类类加工装装备，加加工宏观观尺寸达达到米级级，微结结构的尺尺寸达到到亚微米米级，部部件运行行精度、数据分分辨率定定义，均均需达到到1000纳米以以下级别别，实现现大幅面面、微结结构、高高精度特特征的统统一。3、

53、海量量数据：以0.1微米米分辨率率电路为为例，2200mmmx2200mmm的电电路的数数据量为为4.00TB, 一幅幅6000mmXX10000mmm电路数数据达660Tbb,因此此，这种种精密电电路图形形的海量量处理技技术和软软件、数数据传输输与压缩缩、光电电转换和和光刻模模式等，具有极极高难度度。4、微纳纳直写光光刻与加加工设备备，是多多行业生生产工艺艺流程中中的关键键核心装装备，用用于提供供光掩模模板、微微米线宽宽电路制制备与模模板、或或进行直直接图形形结构加加工，比比如超薄薄导光板板模具，是微纳纳功能材材料（裸裸眼3DD显示、柔性电电路、触触控）、器件（背光源源等）等等行业不不可缺少

54、少的工具具。工艺优势势：本项目申申请单位位，长期期从事微微纳制造造领域的的研发创创新和产产业化，尤其在在超精密密大幅面面光刻直直写等装装备制造造方面具具有100余年的的工艺积积累，公公司是我我国唯一一具有整整套微纳纳米柔性性制造产产线的企企业，具具有国际际领先水水平。国国内外同同行和专专家参观观后给予予充分赞赞赏和肯肯定，为为此，公公司曾承承担了国国家8663计划划和电子子发展基基金等项项目，并并圆满完完成。在在微纳精精密制造造领域，项目申申请单位位无疑在在国内同同行中具具有领先先地位，并在国国外同行行中具有有影响。工艺设备备上：申申请单位位是我国国唯一的的具有独独立研制制“高端激激光直写写光

55、刻与与纳米压压印设备备”企业，厚胶曝曝光设备备（8000mmmx13300mmm），拥有自自主研发发的“大型紫紫外激光光直写设设备”（iGGrappherr8200-15500，11000mmmx13300mmm），支持55.5代代线光掩掩模板的的制备，在光刻刻分辨率率、CDD和综合合写入速速率等，具有国国际同行行的先进进水准。图4 高高端装备备实验场地地国内产业业环境的的发展，对高端端微纳装装备具有有大量的的需求；与国外外企业相相比，在在技术沟沟通、服服务响应应能力方方面具有有优势；国内还还缺乏微微纳装备备企业，维格公公司掌握握了核心心技术，拥有人人才团队队，依托托于“国家地地方联合合工程研

56、研究中心心”，维格格公司具具有高端端装备产产业化的的优势。图5 国国家地方方联合工工程中心心配套生生产条件件（五）重重大关键键技术突突破对行行业技术术进步的的重要意意义和作作用我国的信信息显示示、光电电子等行行业已有有很大的的产业基基础，江江苏省纳纳米产业业在全国国具有优优势地位位。“十二五五”期间，江苏省省大力发发展战略略新兴产产业，重重点发展展新能源源、新材材料、高高端制造造、生物物技术和和新医药药、节能能环保和和新一代代信息技技术等六六大新兴兴产业。在这些些产业中中，新型型显示、固体照照明、纳纳米印刷刷与柔性性光电子子等是国国家中长长期科技技发展规规划、江江苏省科科技规划划中的重重点发展

57、展领域，与“柔性微微纳材料料与制造造技术”紧密相相关。苏州工业业园区布布局了国国际科技技园、苏苏州纳米米城等载载体，提提供了孵孵化等系系列服务务，是苏苏州纳米米技术产产业化基基地。苏苏州纳米米城将占占地约1100公公顷，规规划建筑筑面积约约1300万平方方米，于于20110年111月启启动建设设，重点点发展纳纳米新材材料、纳纳米光电电子、微微纳制造造、纳米米生物医医药和纳纳米环保保等五大大产业领领域，以以构建产产业生态态圈。苏大维格格在高端端微纳装装备上的的自主研研发能力力，无疑提提高了自自身的竞竞争优势势和可持持续发展展性，基基本不依依赖于国国外的设设备限制制。为此，国国家、省省部相关关领导

58、和和业内专专家多次次视察和和调研本本项目申申请单位位的高端端装备和和平板显显示关键键器件的的研发和和产业化化进展和和做法。国家发改改委副主主任朱之之鑫、工工信部副副部长苏苏波、科科技部副副部长曹曹健林等等重要领领导视察察后，均均给予充充分肯定定和鼓励励。 国家发改改委的祁祁司长等等领导视视察，对对申请单单位在高高端微纳纳光刻设设备和平平板显示示领域研研发创新新和产业业化给予予肯定。工信部苏苏波部长长考察苏苏大维格格人大副委委员长视视察苏大大维格并并题词 科技技部曹健健林副部部长视察察维格公公司图6 领导肯肯定四、项目目建设方方案项目建设设的主要要内容、建设规规模、采采用的工工艺路线线与技术特点

59、、设备选选型及主主要技术术经济指指标、产产品市场场预测、建设地地点、建建设周期期和进度度安排、建设期期管理等等。（一）建建设的主主要内容容、建设设规模面向平板板显示和和大尺寸寸电容触触控屏、精密柔柔性电路路、精密密PCBB及封装装、MEEMS、公共安安全、科科研等不不同行业业应用，用3年年时间建建设达产产业化阶阶段，开发出出相对应应的、具具有国际际先进水水平及满满足工厂厂产业需需求的微微纳加工工装备，完成四四种型号号设备的的研发及及产业化化：1、大幅幅面掩模模版制版版光刻设设备：大大型紫外外高速图图形化直直写设备备，用于于55英英寸以上上平板显显示、大大尺寸电电容触控控屏生产产用掩模模版制备备

60、。主要要技术指指标：典典型线宽宽2umm，图形形化光刻刻速度440000mm22/miin。2、MMEMSS、封装装光刻机机：中小小型紫外外图形化化直写设设备，用用于6-8英寸寸MEMMS、封封装等工工艺制程程，可适适用于厚厚胶工艺艺。可用用于科研研院所的的器件工工艺研究究和小批批量制备备。主要要技术指指标：典典型线宽宽1umm，精密密图形的的光刻速速度5000mmm2/mmin，可适用用厚胶光光刻工艺艺大于110umm。3、精精密柔性性电路、PCBB无掩模模光刻机机：高速速无掩模模曝光机机，用于于下一代代10uum以下下精密电电路生产产。主要要技术指指标：最最小线宽宽5umm，光刻刻速度大大