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1、金属硅的性能及在特种耐火材料中的转化机理文档编制序号:KKIDT-LLE0828-LLETD298-POI08金属硅的性能及耐火材料在使用中的转化机理一、简介又称或,其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品,主成分硅元素的含量在 98% 左右(近年来,含 Si 量%的也包含在金属硅内),其余杂质为铁、 铝、钙等。分子式:Si, 分子量:。熔 点:1410。沸 点: 2355,密 度:。电阻率为 2140.m金属硅的牌号:按照金属硅中铁、铝、钙的含量,可把金属硅 分为 553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101

2、 等不同的牌号金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅,黑皮硅,金属硅渣等。其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰,它广泛应用于耐火材 料和混凝土行业硅的性质硅是半金属之一,旧称矽。熔点为 1420,密度为 cm3。质硬而脆。在常温下不溶于酸,易溶于碱。金属硅的性质与锗、铅、锡相近,具有半导体性质。硅在地壳中资源极为丰富,仅次 于氧,占地壳总重的四分之一还强,以二氧化硅或硅酸盐形式存在。最纯的硅矿物是石英或硅石。硅有两种同素异形体:一种为暗 棕色无定形粉末,性质活泼,在空气中能燃烧;另一种为性质稳定的晶体(晶态硅)。一般硅石和石英用于玻璃和其它建材,优质的 石英用于制作合金、金属和单晶。硅的用途金属硅(

3、Si)是工业提纯的单质硅,大量用于冶炼成硅铁合金作钢铁工业中合金元素,在很多种金属冶炼中作还原剂。硅还是铝合金中的良好组元,绝大多数铸造铝合金都含有硅。硅是电子工业超纯硅的原料,超纯半导体单晶硅做的电子器件具有体积小、重量轻、可靠性好和寿命长等优点。掺有特定微量杂质的硅单晶制成的大功率晶体管、整流器及太阳能电池,比用锗单晶制成的好。非晶硅太阳能电池研究进展很快,转换率达到了 8%以上。硅钼棒电热元件最高使用温度可达 1700,具有电阻不易老化和良好的抗氧化性能。用硅生产的三氯氢硅,可配制几百种硅树脂润滑剂和防水化合物等。此外,碳化硅可作磨料,高纯氧化硅制作的石英管是高纯金属冶炼及照明灯具的重要

4、材料。 八十年代的纸张-硅 人们称硅为八十年代的纸张。这是因为纸张只能记录信息,而硅不仅能记载信息,还能对信息进行处理加工以获得新的信息。1945 年制造的世界上第一台电子计算机,装有 18000 个电子管、70000 只电阻、10000 只电容,整个机器重 30 吨,占地170 平方米,相当于 10 间房子大小。而今天的电子计算机,由于技术的进步和材质的改善,在一个指甲盖大小的硅片上,可以容纳上万个晶体管;并且有输入、输出、运算、存储和控制信息等一系列功能。 微孔硅钙保温材料微孔硅钙保温材料是一种优良的保温材料。它具有热容量小、机械强度高、导热系数低、不燃烧、无毒无味、可切割、运输方便等特点

5、,可广泛用于冶金、电力、化工、船舶等各种热力设备及管道上。经测试,节能效益优于石棉、水泥、蛭石和水泥珍珠岩等保温材料。特种硅钙材料可用作催化剂载体,在石油炼制、汽车尾气净化等多方面广泛应用。金属硅作为添加剂的机理:添加剂能不同程度地提高试样常温耐压强度,降低显气孔率,其中舔加s粉效果最为明显分析认为,热处理过程中Si可以 与C反应生成SiC颗粒或晶须使骨料与基质“桥接”起来或充填气孔提高制品强度,降低气孔室。抗氧化试验后试样的脱碳层、过菠层以及原砖层XRD分析结果显示添加s粉试样的XP,D图谱由XRD分析结果,可以推断舔加Si 粉的试样在热处理以厦抗氧化试验过程中所进行的相关反应在埋碳处理过程

6、中,Si可与C或CO反应生成SiC;而在氧化气氛下, C,Si以及生成的SiC都可能与氧反应,它们与氧反应的优先次序主要取决于它们与氧亲和力的大小在本试验条件下,经热力学计算,Si优先于C与氧反应,可起到保护C不被氧化的作用;而SiC 与氧亲和力则小于C这就是在过渡层中没有发现Si,而有SiC存在的原因过渡层与脱碳层物相的差异还体现在脱碳层有A1203SiO2新的物相生成分析认为,Si与氧反应所生成气相SiO(以及SiC与氧反应的产物)沿气孔通道向外扩散,进一步被氧化成SiO2,进而与A12O3反应生成A1203SiO2,这些产物的形成一方面在一定程度上提高了试样的耐压强度,另一方面堵塞了气孔, 延缓了试样的氧化速度。Si在材料中首先发生反应:Si (s) +C (

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