热阻蒸发仪配置和技术指标

1、热阻蒸发仪配置和技术指标设备概述：主机与控制一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。设备广泛应 用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新 产品等应用。真空电阻蒸发镀膜设备，配3组蒸发源。适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛 矿太阳能电池、锂电池、有机膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、 银、钡、铋、锌、锑等；适用于传感器、电池、LED等的研究和实验；适用于有机材料等蒸发；适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜；例：氧化钼、氟化金里等；适用于扫描电镜制样等设备主

2、要技术参数：真空腔室：304真空专用不锈钢，L400XW440XH450mm，方形前开门结构；真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真空挡板阀，“两低一高”数显复合真空计；真空指标：极限真空优于6.6X10-5Pa（设备空载抽真空24小时），升压率W0.8Pa/h；抽速：空载从大气抽至10-4 PaW45min；基片台：抽屉式结构，承载最大小于120X120mm基片；电机驱动基片台旋转，旋转速度020转/分钟可调；手动升降，升降高度080mm ；可根据要求定制1种掩膜板（提供 掩膜图案）；基片台加热：加热温度：300C，PID智能温控闭环控制；蒸发源：金属源:水冷铜电极3组；逆变式蒸发电源，功率

3、3kW，1台；配3组气动挡板及源间防污隔板；膜厚控制系统：选配高精度晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚；控制方式：PLC+触摸屏控制方式；报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。保修期：整机保修叁年，终身维修服务。设备结构简述：真空腔室（1）结构：采用立式、圆形前开门结构，方便取、放样品及真空腔室日常维护；材料及尺寸：采用304真空专用不锈钢，400XH450；所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；镀膜腔室(包括管道、连接法兰等)均进行清洁处理，内表面抛光，外表面电抛三项处理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；主要接口装

4、配位置：预留接口：四个(CF35,LF26)，膜厚监控及拓展功。基片台基片台：不锈钢抽屉式结构，承载最大小于120X120mm基片；基片台可从基片架 组件中取出，方便用户安装基片；配有气动基片台挡板；电机驱动旋转基片台，转速0-20 rpm；主轴磁流体密封；手动升降样品台：可有效提高贵重材料利用率及膜厚(焊接波纹管密封，蒸发源到 样品垂直距离230-300mm可调)；基片台加热：最高加热温度300C，采用1.5KW金属铠装加热器及金属反射板上整 体安装于基片台背部对基片进行平行辐射加热，采用热电偶测温、PID智能温控仪控制； 加热器加热范围大于基片外沿50mm，保证样片处于等温加热区内，温度均

5、匀性5C；标准基片台配夹具，方便装卡不同规格的基片，基片台可按照用户要求个性化定制。蒸发源及电源六组蒸发源及挡板接口圆周均布；金属蒸发源：3组，金属蒸发源采用铜水冷蒸发电极及舟式或锥形坩蜗式，最高蒸发温度：室温1300C(真空状态)；金属蒸发电源：功率3KW1台；特点：电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源可切 换供3组电极分时蒸镀；蒸发源配3组气动挡板及源间防污隔板；蒸发舟配件：钼舟20个；石英坩蜗10只。真空系统真空机组采用“复合分子泵+直联旋片泵”准无油真空系统；复合分子泵：FF200/1200C，抽速 1200 L/S；机械泵型号：TRP-36,9L/S，直联旋片泵，内置挡油阀；真空阀门：

6、主阀GDQ-S200,气动高真空挡板阀；前级阀/旁路阀：GDQ-J40；真空测量：“两低一高”(两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空)数 显复合真空计，测量范围从1 X105Pa到1 X10-5Pa；真空密封：可拆静密封采用氟橡胶圈密封；不常拆静密封。强制水冷报警保护系统总进水与总出水接制冷循环水机，水温需控温范围10-25 C。给电极、分子泵、 提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行；水路：标准进出水口及水排分配，保障循环供水到每个水冷部件；水压传感器：1套，总进水采用水压继电器检测供水及水压状态，执行异常报警。薄膜厚度监控系统设备系统安装有薄膜厚度监控系统，可精确控制蒸发过程中沉积薄

7、膜的厚度。膜厚 仪探头接口从真空腔室预留CF35法兰引入；晶振探头安装在靠近基片台附近，用以实时 监测镀膜速率和终厚，精度可达1A(0.1nm)。具备与电源联锁控制功能，若镀膜达到 设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜，实现自控膜厚之目的。电气控制系统电气控制系统采用PLC+触摸屏控制抽真空系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发 镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；控制内容：总供电、分子泵、机械泵、阀门；分子泵电源参数显示及开关控制；真 空计参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等；安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护 措施；完善的逻

8、辑程序互锁保护系统。机架与控制柜约L1650XW750XH1800一体化设计，只留前开门，铝型材及碳钢制作，表面喷塑处 理，支撑真空腔体、真空系统及电气控制系统，底下配脚轮，方便移动、定位。设备配置序号系统/部件型号/参数数量1真空腔室L400XW440XH450mm,304优质不锈钢(方箱型)1套80 mm配磁力档板1套腔室防护板1套2旋转升降基片 台抽屉式结构，承载最大120X120mm基片电机驱动主轴磁流体密封，手动调节高度，0-80mm高度可调(可按用户要求定做一套掩膜板)1套基片台加热铠装加热器，最高加热温度300C，日本岛电温控仪控 温及热电偶加热电源闭环精确控温1套基片台挡板电气

9、动控制开合式1套3金属蒸发源及水冷蒸发电极6根组成3组3组电源蒸发源配挡板，防止交叉污染3套金属蒸发电源：功率3kW1台有机蒸发束源式有机蒸发源，石英坩蜗容量2CC，角度可调倾斜 指向基片台2组PID智能控温式蒸发电源：功率1kW2组源挡板每组独立挡板，源间有隔板5组蒸发舟/坩蜗钼舟20个；石英坩蜗10只。1批4真空系统复合分子泵：FF200/1200C1台机械泵：TRP-361台前级/旁路阀GDQ-J402台高真空挡板阀：GDQ- S2001台放气阀：6mm，电磁截止阀1只数显复合真空计：一彳氐一高1台波纹管、材质：SUS304不锈钢1套密封件、连接件及其附件1套5水路系统水排：SUS304不锈钢，6进6出1套水压继电器，缺水报警1套6冷却循环水水温不高于25C，水压0.20.4MPa，流量12升/分 钟1套7气路系统电接点压力表气路分配单元1套8膜厚控制系统薄膜厚度监控仪，FTM106，单探头，原装晶振片一盒1套9电气控制系统PLC+触摸屏控制方式；完善的逻辑程序互锁保护系统1套10易损件常用密封圈备件