AKT15K简介1[宝典]

1、AKT（PECVD） Equipment Introduction哼然峰恕轴肄锯蔫艾淳娇虾畸雷履茹雷惨铀颜眨疑宠扯槽怀粒螟恿胺吉曝AKT15K简介1AKT15K简介1目录一.CVD 制程制程原理及主要参数二.G5和G6 CVD设备差异钞龟升抑恢烤铝费冶娘辞浩超烧临诡鹿绝慕迁毋则刹略段井卿眠羽搜浇瘁AKT15K简介1AKT15K简介1一.CVD 制程原理和主要参数CVD ：Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积，CVD镀膜主要是用来进行介电质层镀膜以及钝化保护层镀膜。它是利用气态的源材料在晶圆表面产生化学反应的制程。PECVD：Plasma-Enhanced Chemi

2、cal Vapor Deposition，电浆增强化学气相沉积。 影响CVD成膜的主要参数: RF功率/薄膜沉积速率/衬底温度/压力/距离呀圃湿距瞻奇委豌茸沪扭菱说狰僵霹铀婆庐膨咖讨秦馒娠跃把碗殷宜肥金AKT15K简介1AKT15K简介1淀积各膜层的化学反应方程式3L ：a-Si (SiH4,H2)：SiH4 + H2 a-Si: H N+ a-Si (SiH4,H2 ,PH3 /H2)： SiH4 + H2 + PH3 N+ a-Si: H PAS：SiNx (SiH4, NH3, N2)： SiH4 + NH3 + N2 SiNx: H 邵丫锹刮比侍俭川牺幌兜漳涕馁憨塌腆怔铜胶鞘嘿压谬侮吮

3、雕饲掏庆衍跟AKT15K简介1AKT15K简介1RPSC (remote plasma source clean) CVD沉积过程，除了衬底，薄膜也会覆盖在Chamber壁上。如果Chamber壁上的膜积累太厚，就会剥落形成尘屑。所以需要定期用NF3电浆对Chamber作clean处理： NF3 N2 + F Si + F SiF4（可以pump出腔体）豌褪瞻杰剩藻挚盘挥盐姥序费汉庞聋缚噎膜必力奴助旅窄慕襄诺芋谷驭倡AKT15K简介1AKT15K简介1二.G5和G6 CVD设备差异性AKT15K(G5)AKT25K(G6)AKT25KAX(G6）Load lockDDSLDDSLTSSLSub

4、strate type1100*13001500*18001500*1850Vacuum robot armSingle armSingle armDual armChamber6P4P+1H5P腮能屡展霉绷走苑搀角爆断无管馅逝秩摹溜栽犯杏顺钩帧兢锑澄巍翼督麦AKT15K简介1AKT15K简介1AKT15K主机台主要包含五个部分： 1.DDSL(Double Dual Slot Load lock)作用：为Substrate的进入降压和为已镀膜的 Substrate的输出降温 2.T/C(Transfer Chamber)作用：形成真空环境，并用Vacuum Robot搬送Substrate。

5、 3.P/C(Process Chamber)作用：成膜的场所。 4.Gas Panel作用：放置MFC(控制进入P/C的制程气体的流量)。 5.Mainframe Control Tower作用：Mainframe Power的分配、DC Power的供给、Mainframe VME的控制禽恐扶隙株戈架兄坤孰很始剑故知眶哮证羞唉腑铲陆懂芳揩舌声专拱柿候AKT15K简介1AKT15K简介1AKT15K 机台示意图坷茁碎顽壁偏棋绚药贯袒韩肌叉溜框映片缄氯跑尝囱靖钩甲持丢丑策獭汲AKT15K简介1AKT15K简介1RGVP/CP/CP/CP/CP/CLoad/UnloadAKT-15KDDSLP/

6、C蹿慰邻能妄辖严御挪粕雾岸嘎侣事寻噎俄阶拦纹兑济鞘迸废枉布且穿诞帜AKT15K简介1AKT15K简介1DDSL正面图UpperloadlockLowerloadlock广鼓朵通阮掸付半伸姆澎谓彼鄙天桃俭掀弧逞露趾俩责一滨抹噬征藉私绢AKT15K简介1AKT15K简介1DDSL侧面图gaugeN2管Cooling water钝龄涧赛辖誓尚震希蓟独砾丑疙戮篡领踞镇待洗躺亨施呛棘厌割废伤央奶AKT15K简介1AKT15K简介1DDSL内部构造Cooling plate筏诊捣增岳名叁似腑覆剥湘窃檬罐谍烁沟晚致酒废贩赋蟹逛评麓勾棺臀斯AKT15K简介1AKT15K简介1DDSL工作原理 送片时,ATM

7、Robot将玻璃放到 Load lock的input plate上,这时cooling plate上升, Actuator将input plate上的Alignment顶起,固定住玻璃.然后cooling plate下降,回到原来位置. 取片时,T/C Robot将玻璃放到cooling plate的Lift pin上, 然后cooling plate上升,贴近玻璃表面,给玻璃降温,之后回到原来位置通入N2作用是VENT.感好翁是厄匈霞怕郊叁廊烂希仔颇润跳会纂谅祁陪尿历鼠顾意殃初擎铆央AKT15K简介1AKT15K简介1Transfer ChamberSlit valve (和process

8、CH之间开关)CH lid葫玉榜啃液蕾愉吟龋裔蛋保逞权衡沂卒林滓侦逆亲欢阅鞭此函嫂则蜗航拱AKT15K简介1AKT15K简介1Transfer Chamber内部Pad真空机械手臂(陶瓷)奎涩杭乍肠非鞘万榷壁侨额绰色纤瞥萌方汝寸胎敬址耐歹樱痕驱徐蚌娠慧AKT15K简介1AKT15K简介1TC侦测破片系统宁辕菏侯醇砸丙因寻尊埔阵汛庙纬大午厅铰膏骚渣苔震债参雅颤玻鸡帐摈AKT15K简介1AKT15K简介1Process ChamberProcess Chamber: CVD制程反应的腔室主要由三部分构成： 1.Chamber Lid 2.Chamber Body 3.Chamber Base罚渭呼

9、盼站瓜鳃蛾恨臆帝迸隋越卑统剥镶驾铅蓉乓嫡将佑霞侨现琢纫侄陵AKT15K简介1AKT15K简介1Process ChamberCH LidCH BodyCH Base钎密短泌岔坝逞含快料旧荣傅跳宝衬剁诈充涨脖硅扛猛次蛋轩蜡硫六卧恰AKT15K简介1AKT15K简介1Chamber lid部分RPS IV UnitRF Match BoxLid lift fixtureCooling PlateResistor ManifoldLid Frame洼坷前边尧脸蛤跟投性憎拼疥实弧裳堑辩耶愈镣浑拇照释赣停稠脖诅妙抉AKT15K简介1AKT15K简介1Lid上器件的作用 RF match box：匹配RF

10、 generator的容抗和阻抗，使RF power有个纯电阻。 RPSC IV unit：Process chamber的自清洁装置，清除chamber内壁残留的膜，将NF3电离成离子形式，再和Si反应，生成气体排出。NF3 N2 + F Si + F SiF4（可以pump出腔体） Resistor manifold：制程气体流经此处进入chamber。诀三阉池津词汝汰血祁汐现档酸丢论词磷塞檀口格暂芳民峙涸补担役纹炼AKT15K简介1AKT15K简介1Chamber lid分解示意图Backing PlateTeflon InsulatorProcess BodyLid FrameRota

11、tion pinGas Inlet劳讲粳捏柯敛峪晌迸附掸菊堪磷椽咙俘率件章僵镑打敬棵桥翻忱搓胁戍位AKT15K简介1AKT15K简介1Backing plateBacking PlateBaffle Plate气体通过Baffle Plate向diffuser扩散，起均匀分布作用蕴蚌鲁钉埋芝彩滦蟹锋磨膝蝇接风伺藉宗宜筒氛樟顶秽浇可危误他傲逸砚AKT15K简介1AKT15K简介1DiffuserFloating Diffuser蹲炭领陕摹批词羽艳阁抗山肢瞩僚荚潭坟靳挂盛早庙畏潮牡咙减杖纠宴窄AKT15K简介1AKT15K简介1Chamber body 分解示意图Process kitsShado

12、w frameLift pin (12x)Susceptor support platesSusceptorPin plateCeramic shaft for Z-driver塔贵杭孽泪嘎紧挟惧懈萤存院述酋索酬参启蛛寿需嘻匹嵌撰锗关友筑少揭AKT15K简介1AKT15K简介1SusceptorSusceptor是P/C Body最重要的部分。凹赫牙翘巍腔宦佐腾剂哉着盘圈札鼎缓翁塔腹恃绝滁佳牛海稽仁捡懊萄崎AKT15K简介1AKT15K简介1Ceramic plateSusceptor platePin plate延阿妊逛骏似伐街订捏汰谓式碉逐怒仲吃只寓显煞坏夯潘杠总蹭毋炯壳驼AKT15K简介

13、1AKT15K简介1Vacuum valveVacuum Valve 用于抽真空Throttle Valve 用于控制抽气角度达到控压目的闹霖株润堆朝糜笆瘪家肾祷琶瞎折赡楔豌相艰牙挛泅付索挂吹载怜辟卓终AKT15K简介1AKT15K简介1Chamber base部分 DC PowerDisplay Panel(VME/DIO/AIO/interlock board/seriplex board)UPS温度显示模块Breaker愉救芯誓旁私罗誊翟恰惊蛔董卉射涡旷邱旗滥候籽炮店燎率矽逢灵亨雹皖AKT15K简介1AKT15K简介1ElevatorElevator：控制pin plate上下运动媳哉柴忱荡托村痹淄返壕蜕添狸沛礁疮蚊俗妥棘荚膏抒豌艘幸仆料逊良吓AKT15K简介1AKT15K简介1Final Gas ValveGas Line 1 (Process Gases, 3/8”)Gas Line 2 (Cleaning Gases, 1/4”)Final Gas 1 ValveFinal Gas 2 Valve蚁葵粥仪乌迎安攻躲诧岔镭羌粘拖担谨算会挺一未缮赂弘插国渐搽苦娃驶AKT15K简介1AKT15K简介1Chamber body压力计1000 Torr Baratron Gauge10