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文档简介

1、G R O U PG R O U P G R O U PG R O U P 一、一、PVD PVD 原理介紹原理介紹 二、二、NCVM NCVM 介紹介紹 三、三、PVD PVD 與與 NCVM NCVM 常見的不良項目常見的不良項目 四、注意事項四、注意事項課程內容:課程內容:G R O U PG R O U P A. A.何謂何謂 PVDPVD? PVD(Physical Vapor Deposition)PVD(Physical Vapor Deposition)物理氣物理氣相沉積法,顧名思義此種薄膜形成的方式乃利用相沉積法,顧名思義此種薄膜形成的方式乃利用外力外力( (能量能量) )

2、,使靶材,使靶材(Target = Al)(Target = Al)由固體變成由固體變成氣體,慢慢堆積在物體氣體,慢慢堆積在物體(Substrate = PC Key)(Substrate = PC Key)表表面,形成均勻的薄膜。面,形成均勻的薄膜。 此薄膜本質上透過物理性變化,所以製程前後此薄膜本質上透過物理性變化,所以製程前後靶材性質變無改變,依據公司案例,我們將鋁靶變靶材性質變無改變,依據公司案例,我們將鋁靶變成鋁膜,製程前後仍然是鋁。成鋁膜,製程前後仍然是鋁。G R O U PG R O U P B. PVD B. PVD 的種類的種類PVD PVD 製程一般常見三種方法:製程一般常

3、見三種方法:1.1.蒸鍍蒸鍍(Evaporation)(Evaporation)2.2.濺鍍濺鍍(Sputtering)(Sputtering)3.3.離子鍍離子鍍(Ion-Plating)(Ion-Plating)G R O U PG R O U P B.1 B.1 蒸鍍蒸鍍EvaporationHeaterVacuum chamberMaterialSubstrateCloudG R O U PG R O U P B.2 B.2 濺鍍濺鍍Coating Atoms/MoleculeTargetArgonGasCathode (-)Secondary ElectronsAnode (+)Su

4、bstratePlasmaG R O U PG R O U P B.3 B.3 離子鍍離子鍍靶靶 材材離子源離子源離子束離子束基板基板Ti+N2TiN(x)G R O U PG R O U P C. C. 圓桶型蒸鍍機介紹圓桶型蒸鍍機介紹爐式機台G R O U PG R O U P C. C. 立式圓桶型蒸鍍機介紹立式圓桶型蒸鍍機介紹 靶材掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架 靶材掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架掛架上視圖G R O U PG R O U P C. C. 圓桶型蒸鍍機介紹圓桶型蒸鍍機介紹靶材被鍍物靶材被鍍物切面圖G R O U PG R O U P D. In-Line Sputter

5、ing D. In-Line Sputtering 介紹介紹連續式機台G R O U PG R O U P D. In-Line Sputtering D. In-Line Sputtering 介紹介紹SputteringChamberBufferChamberUnloadingChamberBufferChamberLoadingChamberOutInLoULHiBuSpSpHiBuPlaInOutG R O U PG R O U P E.E.蒸鍍與濺鍍比較蒸鍍與濺鍍比較G R O U PG R O U P G. Sputtering G. Sputtering 應用應用1.外觀膜:金屬

6、、非金屬、多層膜外觀膜:金屬、非金屬、多層膜2.光學膜:抗反射、全反射、光柵光學膜:抗反射、全反射、光柵3.功能膜:功能膜:IR or UV 隔絕、光學開關隔絕、光學開關、EMI4.透明導電膜:透明導電膜:ITO5.顯示器:顯示器:OLED6.其他其他G R O U PG R O U P A. What is NCVM NCVM (Non-Conductive Vacuum Metalize)顧名思義,為一種非導電的真空金屬化鍍膜製程,或稱為非導電PVD製程,由於一般PVD製程所用的金屬為優良導體,因此PVD金屬化都是導電的,NCVM採用特殊金屬,因此可做出具有金屬光澤同時具備非導電性質的薄膜

7、。G R O U PG R O U P B. Why need NCVM 手機訊號(RF)收發時,若訊號碰到導體,則會受干擾造成訊號變差,甚至訊號無法穿透而無法作用,因此PVD製程會使訊號穿過按鍵時產生干擾。由於PVD製程能使塑膠表面變成金屬外觀,因此受客戶青睞,為了此外觀需求,於是我們開發NCVM製程,讓按鍵具有PVD金屬外觀,同時又不導電,一舉兩得。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別a.功能特性功能特性NCVM不導電,不會阻礙訊號不導電,不會阻礙訊號b.製程流程製程流程相同相同(Primer鍍膜鍍膜H/C)c.Primer 需求需求因靶材而異因靶材而

8、異d.PVD靶材差異靶材差異 顏色差異顏色差異 膜厚差異膜厚差異 透光差異透光差異 G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別a.製程流程製程流程相同相同 PVD製程PrimerPVDL/EUV (color)UV H/CNCVM製程PrimerPVDL/EUV (color)UV H/CG R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別b.Primer 需求需求 PVD使用的靶材為鋁(Al),NCVM使用的靶材為錫(Sn)或銦(In),因此Primer材料必須思考與不同金屬靶材的接著性,避免因接著不足而產生百格脫落問題。就靶材來說,鋁靶

9、的接著效果是最穩定的。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .種類差異:PVD常使用鋁(Al) 、鎳(Ni) 、鉻(Cr) 、不鏽鋼(SUS) 。NCVM使用靶材錫(Sn) 、 銦(In)、硅鋁(SiAl) 。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .膜厚差異:PVD從很透光到不透光都可以 。NCVM從很透光到半透光,現況無法做到不透光。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .顏色差異:PVD鋁顏色為銀白色

10、PVD鎳顏色為銀色帶淡黃色PVD鉻顏色為銀色帶一點點黑(與電鍍顏色相似)PVD不鏽鋼顏色為銀色帶咖啡色NCVM錫顏色為銀色帶黑(比PVD鉻深一點)NCVM銦顏色為銀色帶一點點黑(與PVD鉻相似)NCVM矽鋁顏色為銀黑色(比NCVM錫更深)G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .正面噴塗配色差異:PVD顏色比較淺,偏銀白色,因此外觀可以做淺色有色金屬的外觀,例如:淺紅金屬色、亮橘金屬色,要做深色比較困難,會產生色差顏色分布不均勻,例

11、如:黑色金屬色、深藍黑金屬色等。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .正面噴塗配色差異:NCVM顏色比較深,因此外觀可以做深色有色金屬的外觀,例如:黑色金屬色、深藍黑金屬色等。做淺色有色金屬色會做不出來,例如:淺紅金屬色、亮橘金屬色,因為淺色塗料在深色金屬上,其顏色也會透底色而變深。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異(UV1調色調色) G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .背面印刷配色差異:背面印刷

12、製程的顏色取決於PVD或NCVM的靶材本身顏色,因此顏色的選擇性較少,若無字體,則可將PC素材注塑成有顏色,在背面PVD之後,就會有有色金屬的質感。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .透光差異:NCVM由於鍍膜層會透光,因此做正面噴塗時會有表面透光的問題,造成L/E字體在背光源打開時的對比變差。G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 . NC與透光關係:PVD 打光效果佳NCVM 打光效果差G R O U PG R O U P C. NCVM與與PVD的差別的差別c.PVD靶材差異靶材差異 .簡易圖示:薄厚NCVM區半透光區不透光區顏色相同PVDNCVMNCVM區非NCVM區G R O U PG R O U P A.百格百格 NGB.正面正面&側面透光側面透光 NGC.色差色差(變黑變黑,變黃變黃) NGD.亮霧不均亮霧不均(白霧白霧) NGE. 針孔針孔 NGF. 顆粒雜質顆粒雜質G. 積墨、橘皮積墨、橘皮G R O U PG R O U P 1.1.素材禁止使用離模劑素材禁止使用離模劑2.2.素材要烘烤消除應力素材要烘烤消除應力3.3.烘烤過程膠圈要去除烘烤過程膠

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