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文档简介
Si + O2 SiO2氧化层简介氧化层简介氧化层简介氧化层简介Silicon氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用USG: Undoped Silicate Glass未掺杂硅酸盐玻璃氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用氧化层应用名称应用厚度说明自然氧化层不希望的15-20A屏蔽氧化层注入隔离,减小损伤200A热生长掺杂阻挡层掺杂掩蔽400-1200A选择性扩散场氧化层和LOCOS器件隔离3000-5000A湿氧氧化衬垫氧化层为Si3N4提供应力减小 100-200A热生长很薄牺牲氧化层去除缺陷1000A热氧化栅氧化层用作MOS管栅介质30-120A干氧氧化阻挡氧化层防止STI工艺中的污染100-200A氧化层应用氧化层应用B/A为线性速率常数;B为抛物线速率常数二氧化硅色谱
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