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文档简介

1、第八章光學顯微鏡與電子顯微鏡光學顯微鏡(Optical Microscopy; OM)n成像原理：利用可見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不同的對比n因可見光的波長高達4000-7000埃，解析度 (或稱鑑別率，係指兩點能被分辨的最近距離) 是最差的n肉眼的鑑別率僅有0.2 mm，當光學顯微鏡的最佳解析度只有0.2 um 時，理論上的最高放大倍率只有1000 X，放大倍率有限n視野卻反而是各種成像系統中最大的n光學顯微鏡事實上仍能提供許多初步的結構資料 OM與SEM比較表電子顯微鏡 n電子顯微鏡主要是利用高加速電壓之入射電子束打擊在試片後，產生相關二次訊號來分析各種特性。一般的二次訊號

2、包括直射電子、散射電子、二次電子、背向散射電子、Auger電子及X射線等。 電子顯微鏡的發展n穿透式電子顯微鏡（TEM：Transmission Electron Microscope）：在1931年即已提出n掃描式電子顯微鏡（SEM：Scanning Electron Microscope）：在1935年提出n早期發展的SEM解析度未臻理想，影像處理及訊號處理技術無法突破，一直到1965年以後，SEM才正式普獲研究學者的青睞n此後SEM的發展相當快速，不但機台性能大幅提高，且各項材料分析附件日益增多，應用的範圍也不斷地擴大，幾乎包含各個研究領域，目前應用在材料、機械、電機、電子材料、冶金、地

3、質、礦物、生物醫學、化學、物理等方面最多 掃描式電子顯微鏡（SEM） n掃描式電子顯微鏡由於景深（Depth of Focus）大，對於研究物體之表面結構功效特別顯著，例如材料之斷口、磨損面、塗層結構、夾雜物等之觀察研究n近年來由於技術的進步，SEM已將電子微探儀 （Electron Probe Micro-analyser；EPMA）結合在一起，在觀測表面結構時，能同時分析顯微區域之定性及定量成份分析，使得掃描式電子顯微鏡成為用途最廣的科學儀器之一 南台科大之SEM穿透式電子顯微鏡（TEM） n穿透式電子顯微鏡具有極高的穿透能力及高解析度n根據電子與物質作用所產生的訊號，穿透式電子顯微鏡分析主要偵測的資料可分為三種： 1.擷取穿透物質的直射電子或彈性散射電子成像 2.作成電子繞射圖樣，來作微細組織和晶體結構的研究 3.搭配 X-光能譜分析儀

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