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文档简介

图 3 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于1000s/cm），要求产水电阻率1818.2M·cm的超纯水系统图 4常用的一级RO+二级EDI电子级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于1000s/cm），要求产水电阻率1518M·cm的超纯水系统图 5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000s/cm），要求产水电阻率1818.2M·cm的超纯水系统图 6 常用的一级RO+二级EDI电子级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000s/cm），要求产水电阻率1518M·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图。图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子级超纯水系统组成图适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000s/cm,即TDS < 500ppm时，要求产水电阻率1818.2M·cm的纯水系统图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子级超纯水系统组成图适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率 <1000s/cm,即TDS < 500ppm

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