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比表面与孔结构 v (1)总比表面BET方程 v (2)孔径分析:凯尔文(Kelvin)方程P139页(N2吸 附法测小孔1.5-2.0nm)大孔用压汞法(原理相同) v (3)活性表面、分散度、晶粒度 A)活性表面是利用化学吸附的选择性(吸附位 数,也叫化学吸附计量数) B)分散度:表面金属(组分)占总金属(组分) 的百分比。 晶粒度:晶粒大小(可用谢乐公式和投射电 镜法) 固体晶体催化剂中的缺陷 类型 原子(离子)缺陷 (点缺陷) 例子 1 空位 2间隙原子(离子) 3杂质 4取代原子(离子) 5缔合中心 电子缺陷 扩展缺陷 (复合) 线缺陷 面缺陷 1电子 2空穴 1缺陷簇 2切变面 3超晶格结构 1位错 1晶体表面 2晶粒间界 固体晶体催化剂中的缺陷 类型 原子(离子)缺陷 (点缺陷) 例子 1. 空位 2.间隙原子(离子) 3.杂质 4.取代原子(离子) 5.缔合中心 1.电子 2.空穴 1.缺陷簇 2.切变面 3.超晶格结构 位错 1.晶体表面 2.晶粒间界 电子缺陷 扩展缺陷 (复合) 线缺陷 面缺陷
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