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文档简介

1、iWISBBV紫外清洗的发展历史紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提岀来的。七十年代中期美国军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清洗石英晶片取得满意的效果。但是，美国在较长的时间里紫外光表面清洗技术主要在军事领域中进行研究性应用。直到九十年代初，日本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电子产品的工业生产过程，并开始向我国个别外资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV光清洗机。随后，日本在发展紫外光表面清洗技术的同时，紫外光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由信息产业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等工业生产过程。二十世纪九十年代

2、后期，我国的信息技术和产业以惊人的速度飞速发展，特别是平板显示技术的高速发展，LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断提升，新型的OLED显示产品也开始进入市场。由此，对制备工艺过程表面质量要求越来越严格，紫外光表面清洗技术的优越性已经得到广泛认可，光清洗机的需求量正在不断增长。一、紫外光表面清洗和改质的工作原理低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后，与有机污染物发生光敏氧化作用仅能去除污染物而且能改善表面的性能， 从而提高物体表面的浸润性和粘合强度，或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据不同需要，既可以对物体进行紫外光表面清洗， 也可以进行紫外光 表面改质（或叫表面改善），紫外光

3、表面清洗和改质的机理有相同点，但也有区别。、紫外光清洗工作原理VUV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm 波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（03）；而254nm 波长的紫外光的光能量能将03分解成02和活性氧（0）,这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（0）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化

4、反应，生成挥发性气体（如C02， C0，H20， N0等）逸岀物体表面,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。被污染的实验载我片经过NO阴SCAM裔糊处理出分钟后樹NOV'AN ；誠骷|理4弼帕三、紫外光改质工作原理低压紫外汞灯发射的 185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。其基本原理为：光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉岀H原子和C原子，与空气中的氧气分解岀来的活性氧（0）生成极性很强的原子团（0H,CHO, C00H）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂

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