磁控溅射设备说明书

1、磁控溅射沉积系统 用用户户手手册册声明：声明：感谢您购买中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司（以下简称沈阳科仪公司）的设备 ，请您在使用该设备之前认真阅读本说明书，当您拿到该说明书时，请认真阅读以下声明。如不接受本声明，请立即与本公司联系，否则视为全部接受本声明。1. 本说明书所有内容，未经沈阳科仪公司书面同意，任何人均不得以任何方式（复制、扫描、备份、转借、转发、转载、上传、摘编、修改、出版、展示、翻译成其它语言、传播以及任何其它方式）向第三方提供本说明书的部分或全部内容。如有违反，沈阳科仪公司将保留一切权利。2. 本说明书仅供使用者参考，可作为使用者所在公司学习、培训的内部资料。3. 本说明

2、书所详述的内容，不排除有误或遗漏的可能性。如对本说明书内容有疑问，请与沈阳科仪公司联系。4. 关于知识产权，请严格遵守知识产权保护的相关法律法规。5. 本说明书解释权归中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司所有。保护知识产权、促进创新发展；运用知识产权、发展知识经济；打击盗版侵权 、繁荣文化事业；保护知识产权、激励自主创新；加强知识产权保护、规范市场经济秩序；保护知识产权从你我做起！人人应该做到这样！前言：前言：首先首先感谢购买我们的设备，本着对您负责的精神，并为了确保给您提供最优质的售后服务，特别为您准备了本手册，请您耐心读取相关信息。您的义务您的义务请您在使用过程中，将发生故障的操作步骤填写在

3、用户反馈问题清单用户反馈问题清单中，我们将参考此表内容尽我们最大的能力在最短的时间内完成维修。如何使用本手册如何使用本手册如果您是初次使用该设备，那么您需要通读用户手册。如果您是一位有经验的用户，则可以通过目录查找相关信息。本手册涉及的字体及符号说明：本手册涉及的字体及符号说明：字体的大小直接反应父、子关系，符号说明见下表：符号符号指示性说明指示性说明代表意义代表意义 描述性说明没有先后顺序之分，是比和高一级目录详细描述性说明没有先后顺序之分详细描述性说明有先后顺序之分 提示性说明有利于深刻认识系统，并且可以避免不必要的故障发生警告性说明必须严格遵守的内容，否则会发生严重事故目录目录绪言绪言.

4、1一、系统简介一、系统简介.11、概述.12、工作原理以及技术指标.2工作原理：.2技术指标：.23、系统主要组成 .3溅射真空室组件：.3上盖组件：.4真空获得和工作气路组件：.5安装机台架组件：.74、设备安装.7安装尺寸：.7配套设施：.7二、系统主要机械机构简介二、系统主要机械机构简介.81、磁控溅射靶组件.82、单基片加热台组件.93、基片加热公自转台组件.104、基片挡板组件 .11三、操作规程：三、操作规程：.11磁控溅射沉积系统 21、开机前准备工作.112、开机（大气状态下泵抽真空）.12启动总电源：.12大气状态下溅射室泵抽真空：.123、溅射室处于真空状态时抽真空：.13

5、4、工作流程：.13 装入样品：.13 磁控溅射镀膜：.145、靶材的取出和更换: .156、停机：.16四、电源及控制四、电源及控制.16分类：.17供电要求：.17使用说明.18电控单元使用说明：.19五、注意事项五、注意事项.201、安全用电操作注意事项:.202、操作注意事项：.21六、常见故障及排除六、常见故障及排除.22七、紧急状况应对方法七、紧急状况应对方法.23磁控溅射沉积系统 31、突然断电.232、突然断水.243、出现严重漏气 .24八、用户反馈问题清单八、用户反馈问题清单.25九、维护与维修九、维护与维修.26 绪言绪言磁控溅射沉积系统磁控溅射沉积系统是高真空多功能磁控

6、溅射镀膜设备。它可用于在高真空背景下，充入高纯氩气，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜，而且又可以较好地溅射铁磁材料（Fe、Co、Ni） ，制备磁性薄膜。在镀膜工艺条件下，采用微机控制样品转盘和靶挡板，既可以制备单层膜，又可以制备各种多层膜，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。一、一、系统简介系统简介1、概述、概述本系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、单基片加热样品台、基片加热公自转台组件、基片挡板组件、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。附设备总图如下。磁控溅射沉积系统 22、工作原理以及技术指标、工作原理以及技术指标 工作原理：工作原理：

7、 磁控溅射镀膜的基本原理磁控溅射镀膜的基本原理是以磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动路径，提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量。因此，在形成高密度等离子的异常辉光放电中，正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。 技术指标：技术指标：极限真空度（Pa）（经烘烤除气后）系统真空检漏漏率（Pa.L/S）系统经大气抽气，40 分钟可以达到（Pa）停泵关机 12 小时后真空度（Pa）磁控溅射沉积系统 3溅射室溅射室4.010-5510-76.610-41Pa3、系统主要组成、系统主要组成 溅射真空室组件：溅射真空室组件：圆筒型真空室尺寸 450X350mm，电动上掀盖结构，可内烘烤 10

8、0150，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行化学抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下：序号接口大小接口密封方式数量联接部件名称1.1CF100无氧铜圈1观察窗口1.2CF63无氧铜圈1观察窗口1.3CF16无氧铜圈3进气管路和放气阀1.4CF150无氧铜圈1（600 升/秒）分子泵1.5CF100无氧铜圈33 个磁控溅射靶接口1.6CF35无氧铜圈61 个高真空电离规管磁控溅射沉积系统 41 个旁抽角阀1 个四芯陶封引线法兰接口3 个备用口1.7RF25氟橡胶圈1基片挡板组件接口1.8CF16无氧铜圈11 个备用接口1.9CF16无氧铜圈1电

9、阻规接口 上盖组件：上盖组件：上盖组件上有一个 CF35 的法兰接口和一个 CF16 的法兰接口，侧面还焊有帮助上盖升降时定位的挡片。上盖组件上可以安装电动提升机构组件，中间安装单基片加热样品台。磁控溅射沉积系统 5 真空获得和工作气路组件：真空获得和工作气路组件：溅射真空室溅射真空室 选用分子泵 T T+机械泵 R R 通过一个超高真空闸板阀 G G 主抽，并通过一个旁抽角阀 V1V1 进行旁路抽气；通过两路 MFCMFC 质量流量控制器充工作气体，每路配有角阀 V5V5、V6V6，配有混气室，还可以不走混气室从角阀 V2V2 单独进气。MFC 流量范围：一路 200SCCM、一路 100S

10、CCM。通过 V4V4 阀充入干燥氮气放气。代号代号名称名称联接方式联接方式安装位置安装位置用途用途厂家厂家V1V1CF35 角阀双刀口溅射真空室侧壁、旁路抽气沈科仪V2V2、V3V3Dg16 角阀一刀一卡溅射真空室侧壁充入工作气体沈科仪V4V4Dg16 角阀一刀一卡溅射真空室侧壁放气/充干燥氮气沈科仪V5V5、V6V6Dg16 角阀双卡套机架前面的气路面板上充气七星华创G GCC-150-B 超高真空闸板阀双刀溅射真空室侧面伸出的弯管上主抽阀沈科仪磁控溅射沉积系统 6T T分子泵（抽速600L/S）CF150 刀口主抽泵北京科仪R R机械泵（9 升/秒）KF40前级泵北京DFDFKF40 电

11、磁隔断阀KF40分子泵和机械泵之间防止机械泵返油，并能在分子泵前级真空度不够的情况下进行隔断，来保护分子泵川北R-DFR-DF高真空电磁压差式带充气阀KF40机械泵 R1和机械泵联锁，停机械泵时，此阀断开，向机械泵充气，避免返油上海西马特MFC1MFC1、MFC2MFC2质量流量控制器卡套控制气体流量北京混气室（两进一出）卡套混气沈科仪液压波纹管两段快卸卡箍连接管路沈科仪KF40 三通一个快卸卡箍川北KF40 快卸卡箍若干川北6X1 气路管若干外购气路卡套若干外购磁控溅射沉积系统 7 安装机台架组件：安装机台架组件：采用优质方钢型材（50mmX50mmX4mm）焊接成，前面和两侧面安装快卸围板

12、，表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；底面安装四只脚轮，可固定，可移动；安装机架尺寸：L1115W860H1000mm,。4、设备安装、设备安装 安装尺寸：安装尺寸：将设备安装机架移到指定位置，拧动脚轮升降，调节机架成水平位置。安装机架平面尺寸：L1115W1000mm2 （包括伸出的闸板阀手轮） ，电控柜平面尺寸：610650 mm22 台。 配套设施：配套设施：整机配电要求：接三相电源 380V6%，50Hz，三火线一零线，功率15KW，配置多路接线插座。联接地线要求：本设备需要配备良好的接地，对地电阻2 欧姆。磁控溅射沉积系统 8接冷却水系统，具有民用自来水或循环冷却水，水温25，水

13、压2.5105 Pa，流量达到 12L/min，及回水通道。各水路均安装水流控制器，发生断水时将自动切断设备总电源。安装场地面积25，高度要求高于 2.4m。要求安装场地的标准温度为 2024，标准相对湿度为 5060。要求有普通氮气，工作气体，压强要在 23 个大气压之间。要求有外排废气管道。！注意：接通电源后，首先确认机械泵旋转方向，如果发现反转，则应调！注意：接通电源后，首先确认机械泵旋转方向，如果发现反转，则应调相。相。二、系统主要机械机构二、系统主要机械机构简介简介1、磁控溅射靶组件、磁控溅射靶组件磁控溅射靶组件磁控溅射靶组件主要组件包括靶头、可折弯靶支杆、CF100 无氧铜圈密封的

14、靶法兰、齿轮减速异步电动机带动的靶挡板系统和螺旋升降机构等组成。溅射真空室采用多靶溅射结构，靶在下，基片在上，向上溅射成膜，溅射真空室下底盘上有三个靶位；靶材尺寸 60mm（其中一个可以溅射磁性材料） ；永磁靶 RF、DC 兼容；靶内有水冷（每个靶单独水路冷却） ；三个靶可共同折向磁控溅射沉积系统 9上面的样品中心，靶与样品距离 90110mm 可调；每个靶配有单独的屏蔽罩，以避免靶间交叉污染（非共溅时安装使用） ；每个靶配有单独的电动挡板，计算机控制挡板开合。!提示提示: :以后磁控靶需要寄给我们进行维修时，靶头和支杆可以直接从真空室内拆下，不用拆卸靶法兰部分。拆卸前请事先联系设计人员，我们

15、会提供一个盲堵，保证您其余的工作不受影响。2、单基片加热台组件、单基片加热台组件单基片加热台组件单基片加热台组件安装在真空室上盖组件上，可以放置直径 50mm 的基片。基片加热最高温度 6001，由热电偶闭环反馈控制。在步进电机带动下，实现连续回转，转速 510 转/分，配有手动控制挡板。基片可加负偏压-200V。磁控溅射沉积系统 103、基片加热公自转台组件、基片加热公自转台组件基片加热公自转台组件基片加热公自转台组件安装在真空室上盖组件上，转盘上可以同时放置 6个基片，可放置 50mm 的基片。六个工位中，其中两个工位安装加热炉（切换加热） ，基片加热最高温度 6001，由热电偶闭环反馈控

16、制。在伺服电机+减速器+同步带带轮传动机构带动下，实现 0360公转（当拆掉加热炉后可连续回转） ，并通过光栅编码器机构实现基片准确定位，计算机控制公转到位及镀膜过程。基片可加负偏压-200V。磁控溅射沉积系统 114、基片挡板组件、基片挡板组件基片挡板组件基片挡板组件的挡板上开一个孔，对准一个基片，该基片挡板与基片加热公自转台组件都用计算机控制转动，仅对一片基片在不同靶位下溅射镀膜。该片工艺完成后，可计算机控制转至第二片基片继续镀膜。当需要共溅时，需要拆下该基片挡板组件的上半部分即可，不用全部拆下。三、操作规程：三、操作规程：1、开机前准备工作、开机前准备工作开动水阀，接通冷却水，检查水压是

17、否足够大，水压控制器是否起作用，保护各水路畅通。检查总供电电源配线是否完好，地线是否接好，所有仪表电源开关全部处于关闭状态。检查分子泵、机械泵油是否标注到刻线处，如没有达到刻线标记应及时加油。检查系统所有阀门是否全部处于关闭状态，确定溅射室完全处在抽真空前磁控溅射沉积系统 12为封闭状态。2、开机、开机（大气状态下泵抽真空）（大气状态下泵抽真空） 启动总电源：启动总电源：确认所有电源开关都在关闭状态后，按下总电源开关，此时电源三相指示灯全亮，供电正常。!提示提示: :如果电源三相指示灯没有全亮，应检查供电电源是否缺相。在确认电源正常之后方可进行下一步工作。 大气状态下溅射室泵抽真空：大气状态下

18、溅射室泵抽真空： 打开旁抽阀打开旁抽阀 V1V1 启动机械泵启动机械泵 R R按下机械泵 R R 开关，机械泵指示灯亮，此时机械泵工作，再打开分子泵 T T口处的电磁阀 DFDF 开关，指示灯亮，打开复合计，测量真空。 （复合真空计 ZDF-5227 使用详见说明书） 启动分子泵启动分子泵 T T（FF-160/620CFF-160/620C）先打开分子泵 T T 电源开关，当真空计显示的真空度高于 20Pa 时，关闭旁抽阀 V1V1，并迅速打开闸板阀 G G,然后打开分子泵启动启动按钮，其加速指示灯亮，电源控制面板上显示频率，分子泵开始正常工作，约 8 分钟，加速指示灯灭，正常灯亮，频率显示

19、为 600 时，分子泵进入正常工作状态。再用分子泵连续抽气，经烘烤后，磁控溅射室的真空度可达到极限真空度 410-5Pa 指标。!提示提示: :设备中的闸板阀设有开关指示功能，闸板阀门开关时手感轻松，在阀门关闭时可听到一声响动，同时力量减小、有明显的空程，这时阀门已经关闭到位，不要继续硬性旋动手柄，以免阀门传动机构受到损坏。开启时也有一声响动，行程指示到位后阀门也开启到位。磁控溅射沉积系统 13!警告警告: :阀门开启前，必须平衡阀门两侧的压力（阀门两侧必须同时是真空或大气）阀板两侧压力差必须小于 3000Pa，如果压力大于 3000Pa 硬性开启阀门会造成密封圈及传动机构的损坏，造成阀门无法

20、使用（此项要特别注意，阀门开启时一定要注意观察阀门两侧的压差） 。!警告警告: :在阀门使用过程中如发现异样的声音或者开关阀门时力量异常，首先应该观察阀门前后真空系统的压力是否平衡，如果有压差必须停止强行开启，待压力平衡后再进行开启，以免损坏机构。3 3、溅射室处于真空状态时抽真空、溅射室处于真空状态时抽真空： 首先,打开复合真空计观察系统真空度.如果长时间的(10 天以上)未开机,真空度高于 3040Pa,这时应该按上面所说的溅射室泵抽真空溅射室泵抽真空中的操作步骤进行系统抽气； 如果真空度在 35Pa 时，即可直接开启闸板阀 G G，然后依次开启机械泵 R R、电磁阀 DFDF、分子泵 T

21、 T，进行系统抽真空，待真空度达到实验溅射室要求的本底真空即可。4 4、工作流程、工作流程： 装入样品：装入样品： 溅射室暴露大气：关闭闸板阀 G G，确认旁抽阀 V1V1 和角阀 V2V2、V3V3 处于关闭状态，然后打开放气阀 V4V4，向溅射室内充入干燥氮气。 装入样品：溅射室内氮气压力与大气压力平衡后即可利用升降机提升溅射室上盖，靶基距调到合理值，然后将清洗好的样品放入衬底托内，将其放入样品转台内，然后再将溅射室上盖落下，关闭放气阀 V4V4，对溅射室泵抽真空溅射室泵抽真空（按前面所说的步骤进行操作）至实验要求的本底真空度。磁控溅射沉积系统 14 磁控溅射镀膜：磁控溅射镀膜： 待本底真

22、空达到本次实验所预期要求后，稍关闭闸板阀 G G（不要关死） ，用真空计监测真空度。 向溅射室充气：向溅射室充气：充气前将气瓶关死，打开 V5V5、V6V6，缓慢打开 V3V3。打开质量流量计电源，预热 3 分钟，将质量流量计打到清洗挡清洗挡，抽空气路后关闭各阀，将质量流量计打到关闭挡关闭挡；缓慢打开进气截止阀 V2V2 ，此时抽取管路中的气体，达到预期真空后，关闭这些截止阀，进行充气工作。若所充气体需经混气后进入真空室，则打开 V3V3 及机架前面板上的进气阀 V5V5 或 V6V6（根据需要选择） ；若需单路直接进气，则打开 V2V2。然后打开 MFC 质量流量计电源，通过流量计充入工作气

23、体。通过适当调节闸板阀 G G 关闭的大小来调节溅射工作压强。注：打开质量流量计电源，在 MFC 质量流量计电源的阀开关处于“关闭关闭”位，将设定流量调到零，再开气瓶给气，待零点稳定后，转“阀控阀控”位，并将流量调至所需值，则实际流量跟踪设定值而改变。关闭质量流量计时，将阀开关置于“关闭关闭”位，再将电源开关关闭即可。!提示提示: :充气过程中需用真空计监测真空度不低于 20Pa。 射频溅射：射频溅射：起辉压强：在设定进气量恒定情况下，调节闸板阀 G G 使溅射室真空度维持在 0.410Pa，可保证磁控靶正常起辉。溅射工作压强：根据工艺需要，适当调节 MFC 进气量，使溅射室真空度维持在 0.

24、5Pa 以下，此时磁控靶应能稳定工作而不熄弧。射频电源可切换对应靶，可现场根据要求设置控制各个靶接射频电源。射频电源和匹配器的使用详见射频电源使用说明书射频电源使用说明书 直流溅射：直流溅射：直流电源有两台可根据要求切换对应靶。（详见直流溅射电源使用说明书）（详见直流溅射电源使用说明书） 计算机控制镀膜：计算机控制镀膜：磁控溅射沉积系统 15通过程序控制，使样品按所设定模式进行工作，镀制单层膜或多层膜，镀多层膜的靶位可任意组合，在每个靶下停留时间任意设置。程序运行结束后将自动保存结束前的状态，并保存计算机文件中，下次运行时，这些状态将自动读入以恢复以前状态，所以在程序未运行期间，不建议使用手动

25、操作转盘，以免再次运行时造成样品位置错误。 停止溅射镀膜停止溅射镀膜: : 首先关闭基片挡板，再关上各磁控靶挡板，通过计算机关闭步进电机电源，再关闭计算机电源。 关闭射频、直流和励磁电源，关闭 MFC 质量流量计电源。 关闭溅射室进气截止阀 V2V2、V3V3、V5V5、V6V6，全开闸板阀 G G，使溅射室用分子泵 T T 直接抽气，进入高真空状态。使用 ZDF-5227 监测溅射室真空度，进入 10-4Pa 或 0-5Pa。 取出样品取出样品: :镀膜完成后，将闸板阀 G G 关闭，再将电离规关闭。然后打开接钢瓶的放气阀 V4V4，向溅射室充入干燥氮气。电动提升真空室上盖，戴上洁净手套，从

26、样品台上取出镀好的样品。之后，马上装入新的样品，重复上述各项工作。 5、靶材的取出和更换靶材的取出和更换: :溅射室可以在停分子泵暴露大气的情况下取出或更换靶材，也可以在分子泵工作的时候操作。在分子泵工作的时候更换靶材步骤如下： 在分子泵 T T 单独对溅射室抽气工作时，先将闸板阀 G G 关闭，检查 V2V2、V3V3 是否处于关闭状态。然后关闭真空计，打开放气阀 V4V4 使溅射室充入大气（最好充入干燥氮气） ； 当溅射室内氮气压力与大气压力平衡后，使用升降机将溅射室的上盖提起，之后拆下基片样品挡板，电动打开需要更换靶材的靶挡板，拧下靶屏蔽盖，并卸下靶压盖，即可对真空室内的靶材进行取出或更

27、换，然后再将靶压盖及靶屏蔽盖装上，结束后再用升降机将上盖落下；磁控溅射沉积系统 16！提示：提示： 靶屏蔽盖和靶材之间的距离建议控制在 23mm 之间。如发现上盖压偏，需要重新升起上盖，找正后再落下。 参照前面溅射室泵抽真空溅射室泵抽真空的步骤，对系统抽真空，重复前面所做的工作流程。 6、停机：停机： 首先，关闭系统内所有阀门，尤其注意关闭闸板阀 G G 和旁抽阀 V1V1,进气阀V2V2、V3V3，放气阀 V4V4，使系统保持真空。 其次，关闭各路电源，先关各路仪表电源，然后关分子泵 T T 电源，当频率数显为“200”以下后关闭电磁阀 DFDF，关闭机械泵 R R，最后关闭总电源及所有水路

28、。！提示：提示：实验完成后，如果真空室内非常热，这时，要通过分子泵对系统进行较长的时间抽气，等到系统内部温度降到 100左右时才能关闭系统。磁控溅射沉积系统 17四、电源及控制四、电源及控制标牌标牌盲板盲板真空计控制电源靶挡板控制电源分子泵电源供电电源偏压电源直流电源直流电源射频电源供电电源质量流量计加热电源 分类：分类： 真空测量部分真空测量部分：真空计：复合真空计 供电电源 真空获得部分真空获得部分：控制电源 分子泵电源 供电电源 材料制备部分包括：材料制备部分包括：流量显示仪 加热控温电源 直流电源 磁控溅射沉积系统 18直流电源 偏压电源射频电源 样品转动控制电源靶挡板控制电源供电电源

29、 供电电源 供电要求：供电要求：真空获得部分与溅射镀膜部分供电需 3 相 380V（50Hz）工业动力电，总功率约 15KW。供电要求分为以下六部分：供电要求分为以下六部分： 供电电源（供电电源（1 1） ：电压：3 相 380V（50Hz）容量： 7.5KVA 要求：由 3P20A 空气开关供电，连接电缆采用四芯橡套：2.5mm231.5 mm21 （空气开关采用工业用动力型，以下均同样要求，从略。 ） 供电电源（供电电源（2 2） ：电压：3 相 380V（50Hz）容量： 7.5KVA 要求：由 3P20A 空气开关供电，连接电缆采用四芯橡套：2.5mm231 5mm21 使用说明使用说

30、明 注意事项：注意事项： 设备操作人员必须高度重视电气安全问题，严格遵守用电安全规程，防止电气事故造成人身伤害或设备损坏。 严禁带电拆卸接线端子、焊片、接插件等电气连接件！严禁带电打开电源机箱，接触任何电器元件！禁止无电气技术资格磁控溅射沉积系统 19和相关经验者从事本说明书允许的故障排除工作。设备必须可靠接地。本系统中所有设备装置的金属外壳都应可靠接地（包括主机真空设备及电源机柜） 。各部分电控装置按要求实行单闸（空气开关）供电，不允许一闸多用。经常对设备进行安全检查，确保电控单元绝缘良好，有可靠的接地或接零保护，检查有无漏电、绝缘老化情况；定期进行电气设备和保护装置的检查、检修、试验及清扫

31、，防止造成设备电气事故和误动作。 使用前的准备和检查按照本说明书的“供电要求” ，可靠连接各部分电控装置，将各部分装置及主机外壳可靠接“地” 。 检查供电电源电压、容量是否符合要求，有无缺相等故障。检查电控装置与主机设备的电气连接，确保连接正确可靠。检查有无漏电、绝缘老化情况。检查各部分电控单元的开关状态，应能正常工作，并均设置为初始状态；检查各电源负载是否产生短路或断路，所有电控单元应能正常工作。 电控单元使用说明：电控单元使用说明： 真空计：真空计：系统采用 ZDF5227 型数显复合真空计测量真空室的真空度，量程1105Pa1105Pa。真空计由供电电源（1）提供 AC 220V 电源插

32、座供电，具体使用方法及注意事项详见“附件”中的（ZDF5227 型数显复合真空计）使用说明书。 控制电源：控制电源：该电源为真空获得控制电源的主要单元：控制如下单元：机械泵：机械泵：控制机械泵的启动和停止，按钮“开”按下灯亮，继电器吸合，机械泵工作；按钮“关”按下灯灭，继电器断开，机械泵停磁控溅射沉积系统 20止工作；电磁阀：电磁阀：控制电磁阀的启动和停止，按钮按下灯亮，继电器吸合，电磁阀工作；照明照明：控制照明的启动和停止，按钮按下灯亮，继电器吸合，照明工作；烘烤烘烤：控制烘烤的启动和停止，按钮按下灯亮，继电器吸合，烘烤工作，旋转功率调节旋钮可以改变烘烤功率；上盖升、降上盖升、降：控制真空室

33、上盖的升降，按下“升”或将“降”后，真空室盖即上升或下降；松开按钮，真空室盖停止升降；到达限位位置，真空室盖同样停止升降。 提示提示控制电源照明、烘烤按钮均为带锁按钮，按下后自锁，动作后指示灯亮。再按按钮，按纽抬起时，工作停止。烘烤按钮按下后，调节烘烤旋钮，烘烤灯逐渐加大功率。由供电电源通过双头四芯航插连接电缆提供 3 相 380V 电源。 提示提示输出电缆必须按照接头附近所做标记正确连接！加热温控电源加热温控电源：加热温控电源由日本公司生产的温度控制器、移相触发模块、可控硅以及外电路构成。样品加热温度可控。需要控温时首先接好控温电源的电源线、输出加热线和热电偶的连接线。连接时，要注意热电偶的

34、正负极。按照控温表说明书将控温表的各项指标设置好，然后按相应的按钮开关“加热” ，控温电源开始工作。顺时针调节“功率限制”电位器旋钮，使加热炉正常升温。当温度升到控温表所设定的温度时，由系统控制加热炉开始恒温。当试验作完后，将“功率限制”电位器旋钮反时针调到“0” ，然后按按钮开关“停止” ，控温电源停止工作。靶档板控制电源靶档板控制电源： 打开电源开关，按一下相应的靶档板“开”按钮，可打开档板，按一下“关”按钮可关闭档板。 分子泵电源分子泵电源FF160/620 型（北京科仪）分子泵的驱动控制电源，具有过载和过热保护功磁控溅射沉积系统 21能。使用方法及注意事项详见“附件”中的“系列复合分子

35、泵交流变频器电机驱动电源”使用说明书。五、注意事项五、注意事项1、安全用电操作、安全用电操作注意事项注意事项:设备操作人员必须高度重视电气安全问题，严格遵守用电安全设备操作人员必须高度重视电气安全问题，严格遵守用电安全规程，防止电气事故造成人身伤害！规程，防止电气事故造成人身伤害！使用动力电时，应先检查电源开关、电机和设备各部份是否良好。如有故障，应先排除后，方可接通电源。启动或关闭电器设备时，必须将开关扣严或拉妥，防止似接非接状况。 人员较长时间离开房间或电源中断时，要切断电源开关，尤其是要注意切断加热电器设备的电源开关。电源或电器设备的保险烧断时，应先查明烧断原因，排除故障后，再按原负荷选

36、用适宜的保险丝进行更换，不得随意加大或用其它金属线代用。没有掌握电器安全操作的人员不得擅自更改电器设施，或随意拆修电器设备。若要打开电源柜后盖，必须先断开设备总控电源。!必须注意：检修设备务必事先断开所有电气设备的电源！必须注意：检修设备务必事先断开所有电气设备的电源！2、操作注意事项、操作注意事项：磁控靶、分子泵工作时工作时，一定要通水冷却通水冷却。 在使用机械泵旁抽前旁抽前保证分子泵口与电磁阀处于关闭状态分子泵口与电磁阀处于关闭状态，特别是分子泵不停真空室暴露大气后粗抽时，否则大气从分子泵排气口进入泵体，急剧加大负载，损坏泵。磁控溅射沉积系统 22 打开机械泵抽大气时，旁抽阀旁抽阀要缓慢缓

37、慢打开，且抽气时间不要过长，在在 1010 多多帕时开分子泵帕时开分子泵，否则容易造成油污染。 系统由大气抽到低真空大气抽到低真空的过程中禁止开烘烤灯和照明灯禁止开烘烤灯和照明灯。 溅射室溅射室烘烤时，真空室壁面及观察窗温度不得超过不得超过 100100。 在室体内溅射完毕或加热炉工作完毕之后，样品可随炉冷却，真空室内温度真空室内温度6060以下时再暴露大气以下时再暴露大气。 溅射室暴露大气前暴露大气前一定要关紧闸板阀关紧闸板阀，以免损坏分子泵，同时要关紧气路截关紧气路截止阀止阀，以免气路受污染。 当上盖处于打开状态时，要时刻注意保护保护真空室上端密封面上端密封面。 在取出或更换样品、靶材时，

38、要注意真空室的清洁注意真空室的清洁；同时要保证屏蔽罩与靶材之间的距离小于小于 3mm3mm。 严禁严禁闸板阀一端是大气一端是真空的条件下打开打开闸板阀。 突然停电时，所有电源要复位电源要复位，过 5-7 分钟后，才能重新启动分子泵。六、常见故障及排除六、常见故障及排除故障现象故障现象可能的原因可能的原因排除方法排除方法“供电电源”无法接通电源供电线路故障，缺相或电压偏低或相序错误由供电部门查找原因，排除故障紧固件没拧紧拧紧紧固件（可使用酒精判断有漏的法兰连接处）快卸接口密封面处有杂物擦拭密封面真空腔内有灰尘和水蒸气先清洗真空室，再烘烤电极法兰密封不严和我们联系，更换新的电极法兰密封胶圈老化更换

39、新的胶圈真空抽上不去靶头里的聚四氟绝缘件受热变形和我们联系更换新的绝缘件前级管道及电磁阀的泄露检漏后如果有泄露，更换前级真空抽不上去机械泵是否油不够或油质变劣要定期查看油标，及时加注或更换新油。分子泵的油标也要定期检查（约磁控溅射沉积系统 23半年时间查一次）增大水流1水流继电器未动作水流继电器坏，更换2已经给水，但水流继电器仍旧报警磁控靶水路有堵塞先确认是不是外部水管堵塞，否则需要拆开靶头清理内部水路闸板阀打不开阀板两侧压力差3.0103Pa平衡两侧压力后打开密封面有污物附着用无尘布将污物清洗干净密封面有划痕用抛光纸抛光密封面胶圈磨损更换新阀板（与生产厂家联系）波纹管损坏更换波纹管或补焊（与

40、生产厂家联系）闸板阀密封不良阀壳受拉1.2105Pa调节阀壳两侧法兰的间隙闸板阀阀门关闭时力量大或无法关闭阀壳受拉1.2105Pa调节阀壳两侧法兰的间隙数字信号出现干扰地线接触不良好良好接地电离规损坏更换分子泵正常启动后，电离规不启动热偶值还没有达到110-2Pa手动打开“电离”按钮确认真空达到110-2Pa，然后调节热偶值。轴承内有杂物拆卸后用超声波清洗转动件转动不灵活电机电源线连接松动紧固电源线接头加热丝引线、陶瓷管、照明烘烤灯引线陶瓷管或测温热偶陶瓷管易被镀膜，表面金属化，以至不起绝缘作用长期镀膜此时应在暴露大气时卸下陶瓷管，放在盛有 H2O2 溶剂的烧杯中，用电炉加热，煮沸 3040

41、分钟即可。磁控溅射沉积系统 24长时间使用或者过热导致磁钢退磁，和我们联系靶电源有故障详见各电源使用说明书靶不起辉更换了靶材，起辉压强没变不同的靶材，起辉压强不尽相同使用新靶材时出现辉光不稳定，有打火现象出现正常现象，由于新靶材表面的污染物或氧化物层（非导体）造成的等到污染物或氧化物层完全剥离掉后即可稳定工作，建议安装前清洗靶材其他未列出故障现象发生时，请及时填写在“顾客反馈问题清单”页中，并与我们联系！真空计、分子泵等常见故障及排除方法详见其说明书。真空计、分子泵等常见故障及排除方法详见其说明书。七、紧急状况应对方法七、紧急状况应对方法1、突然断电、突然断电 首先关闭进气阀和气源及旁抽管道（如果此时用旁抽） 及时手动关闭闸板阀，保持真空状态 关掉总供电电源和其他电源 将各电源操作按钮拨回到初始位置，保证设备下次实验的正常启动和运行2、突然断水、突然断水本设备主要采用冷却水冷却分子泵，冷却水的通断由水流继电器控制，并且在总供电电