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1、会计学1光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介第1页/共24页第2页/共24页Photop Confidential输入：使用条件（入射角，入射介质，基片材料），光性要求（工作波长，反射率，透过率，偏振态，位相，颜色等）输出：膜系，广义的是可直接执行的程序（RUNSHEET，包括控制方式及设置）验证：（间接）分光光度计。评价设计的标准: (容限,材料的种类,工艺时间)第3页/共24页Photop Confidential第4页/共24页rrrrrrrrrrrrnnrrrrrrrNNpNsTENdNiiBCsinsincoscoscos21cossinsincos0011波波）波波（对对于于波波）波波

2、（对对于于其其中中：TM第5页/共24页CBCBCBCBR0000CBCBTn00014BCRTRAnRe1111反射率反射率透射率透射率吸收率吸收率 反射相移反射相移CCBBBCCBiarctg200第6页/共24页矢量法矢量法3212112423221iiierererrr如果忽略膜层内的多次反射，如果忽略膜层内的多次反射，则合成的振幅反射系数由每一则合成的振幅反射系数由每一界面的反射系数的矢量和确定界面的反射系数的矢量和确定。每个界面的反射系数都联带。每个界面的反射系数都联带着一个特定的相位滞后，它对着一个特定的相位滞后，它对应于光波从入射表面进至该界应于光波从入射表面进至该界面又回到入

3、射表面的过程面又回到入射表面的过程 第7页/共24页第8页/共24页第9页/共24页第10页/共24页第11页/共24页第12页/共24页第13页/共24页第14页/共24页第15页/共24页第16页/共24页第17页/共24页蒸发控制系统真空系统膜厚控制系统离子源辅助系统-离子源-温控-工作气体第18页/共24页靶材离子源待镀基片辅助源靶材第19页/共24页靶材Nb氧离子发生器靶材Si氧离子发生器O+第20页/共24页种类 / 型号生产厂家优点缺点IAD/ APS1104 APSpro1104 德国 LEYBOLD技术成熟,性能稳定设备成本高,运行费用高,IAD/OTFC1300日本OPTORUN技术基本成熟,性能稳定,性价比较高长期稳定性?SPUTTER/VEECO SPECTOR美国VEECO公认膜层质量最高的机器, 稳定性好可镀的面积少,成本很高SPUTTER/RAS, MM日本SHINCRONULVAC产能大

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