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文档简介

1、都有不同的要求。因此,在发酵过程中,必须为菌体的生长代谢提供适 宜的生长环境。经过大约34小时的培养,当产酸、残糖、光密度等指 标均达到一定要求时即可放罐。1 . 3谷氨酸提取与谷氨酸钠生产工艺该过程在提取罐中进行。利用氨 基酸两性的性质,谷氨酸的等电点在为pH3 . 0处,谷氨酸在此酸碱度 时溶解度最低,可经长时间的沉淀得到谷氨酸。粗得的官司谷氨酸经过 于燥后分装成袋保存。1 . 4谷氨酸钠的精制谷氨酸钠溶液经过活性碳脱色及离子交换柱除去C a、Mg、F e离子,即可得到高纯度的谷氨酸钠溶液。将纯净的谷 氨酸钠溶液导入结晶罐,进行减压蒸发,当波美度达到295时放入晶 种,进入育晶阶段,根据结

2、晶罐内溶液的饱和度和结晶情况实时控制谷 氨酸钠溶液输入量及进水量。经过十几小时的蒸发结晶,当结晶形体达 到一定要求、物料积累到80 %高度 时,将料液放至助晶槽,结晶长成 后分离出味精,送去干燥和筛2工艺比较 2 . 1液化和糖化 与大米相比,淀粉中的蛋白质含量较低,所以在液化 完成后混合液不用经过板筐压滤机而直接进入糖化阶段。糖化单元中, 糖化罐是由原来分批罐经改装后串连而成的,使混合液经 过串连罐的时 间恰好为48小时。如用自动化设备对液化糖化过程进行控制则主要控 制回路有调浆罐温度及pH值控制 一次喷射温度控制、糖化温度控 制。调浆罐定容可采用流量或液位测量方式;调浆罐温度用进入盘管的

3、蒸汽量控制在30C ; pH值用纯碱溶液控制在6. 4 o这些系统均采 用单回路PID控制,只 要控制器参数调整适宜,都能满足控制要求。淀 粉浆在一次喷射液化过程中要设置喷射液化器出口温度控制系统,严格 控制 蒸汽喷射器出口物料的液化温度,将其最大动态偏差限制在工 艺允 许的范围内(通常为设定值0. 2 C)。制糖过程的另一个重要控制系 统是糖化罐的温度控制,要在整个糖化时间内保持稳定的温度,以利于 液化淀粉转换成葡萄糖。作者认为,因为液化及糖化属于原料处理阶 段,所以卫生及自动化要求可以相对低一些。在加上近几年味精产业不 景气,规模小的厂家可以降低 对原料预处理阶段自动化的要求。22菌种及无

4、菌空气的处理众所周知,在生物化工中菌种的优良直接影响到发酵产物的质量和产 量。厂家有专门的菌种培养和保藏设备,在微生物学上利用自然选育来 防止菌种退化。在生产之前,技术人员经 过挑选将发酵菌种从保藏菌种 中取出,经过摇瓶培养后投人种子罐进行扩大生产,最后在将菌种加入 到发酵罐发酵。空气纯 化罐利用多层填充料对罐内填充,去除空气中存 在的各种微生物,包括细菌和噬菌体。空气纯化罐也是发酵前过程中的 一个 重要环节,谷氨酸菌的生长必须在有氧的环境下进行,根据不同的 生长时期改变通风量,其中在对数增长期,由于菌体生存于发酵液中, 发酵液中的溶解氧(D0值)对菌体极为重要。如果纯化罐失效,而使 进入发酵

5、罐的空气中存在杂菌及有害噬菌体,这样会导致发酵过程被污 染,从而影响发酵过程。所以做好 纯化罐的定期检修工作是非常重要 的。此两个工序前者因工作 强度小而不需要机器自动化的介入,而后者 因设备简单也不需 要自动化。两者的共同点都是要防止微生物污染。23谷氨酸发酵过程的控制谷氨酸发酵是一个较为复杂的生化过程,要使菌体生长迅 速、代谢正常、多出产物,必须为其提供良好的生长环 境。一般 主要控制参数有通风量或溶解氧、发酵液pH值、发酵温度、 罐压等。因为发酵过程中菌体生长及次级代谢产物的合成都非常复杂, 再加上发酵的规模较大,对各种影响因素灵敏,所以发酵 过程比较适合 运用自动化对生产进行相应的控制

6、。在生产过程中,溶解氧fi百风 量)的控制通过空气分配器的小孔将空气打人发酵罐底部,鼓泡而上, 再经过充分的搅拌,对0向液相扩散起到重要的作用。因此,生物供氧 不能简单停留在按发酵阶段调整通风量的设定值上,可以采用溶解氧在 线分析器、排气CO :和0浓度分析器组成了多变量的先进控制系统, 计算机 根据发酵液中实际氧含量及菌体生长代谢情况调节通风量控制系 统的设定值和搅拌电机转速,对改善溶解氧的浓度起到了良好的作用。pH值控制的控制采用了具有多种约束的非线性PID控制方法,以获得优 良的控制效果。温度控制根据发酵进行的时间和工艺要求设计一个最优 发酵温度设定函数。然后通过计算机根据此函数自动控制

7、温度变化。罐 压控制通常控制在0. 05-0. 1 M Pa,以防止外界的不洁空气进入造成染菌,罐压过高将 增大阻力与能耗。罐压可以采用单回路PID控制。此外,自动补料及消 沫控制程序通过监测过程糖液浓度降低计算初适时补糖的时机。通常采 用在一定的时间内,将一定量的糖液均匀流加到罐内的批量控制方法。消沫可以采用带缓冲区的位式控制。2 4提取过程提取过程要最大限 度的获得发酵液中的谷氨酸,按照等电点分离的原理,可设计温度程序 设定控制及pH程序设定控制。在等电点中和控制过程中,pH控制精 度要求较高、难度较大,这是由于中和过程开始时系统具有较大的灵敏 度,使得初始加 酸量难以控制适当,pH值极易

8、出现超调,进而引起中 和初期pH值的大幅度波动。而在中和后期,随着pH值的降低,系统反应灵敏 度减弱,若控制器仍按原来的规律和强度调节,达到中和终点的时间就 会延长,因此,有必要引入控制器参数的自调整或非线性控制策略。在 中和过程中,温度和pH值必须同时按 设定的参考轨迹同步变化,对温 度和pH的变化速率也有严格的要求,pH与温度两个控制回路之间具 有一定相关性。在二次中和过程中,要将pH值从3 . 2调整到5 . 6,随着中和点的接近,系统静态放大系数逐渐增大,导致系统稳定 性下降。因此,二次中和过程与等电点中和具有相反的控制特性,这一 工序必须设 计两套不同的中和控制系统,以保证生产的需要。2 . 5精制过程控制味精结晶过程要经过形成过饱和溶液 晶核形成及 晶体成长3个阶段。结晶的生长通常需要投入一定的晶核,这样可以 使晶体生长速度加快。这时必须严格控制结晶罐内的过饱和度,使之在 增加晶种后,不产生新晶核,也不溶化晶种,使结晶操作工作在介稳 区,有利于晶核的稳定增长。结晶操作的原则是要争取最大的结晶速度 与收率,并获得均匀整齐的晶型。为了满足上述要求,可通过自动化对 真空度控制、料液浓度f过饱和度) 结晶罐的温度控制及液位等加以 控制。3讨论 随着计算机及自动化技术的不断发展,现代自动化技术在 工业生 产中的应用越来越广

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