《液晶显示制造技术》课件-光刻的基本工艺原理和质量控制要求

光刻的基本工艺原理和质量控制要求CONTENTS目录02光刻的基本工艺01课程导入03光刻基本操作流程01PARTone课程导入课程导入光刻技术类似于照片的印相技术，所不同的是，相纸上有感光材料，而光刻加工件上的感光材料——光刻胶是通过涂布技术在工艺中后加工的。02PARTTWO光刻的基本工艺涂胶工序是光刻的首道工序，它是在ITO玻璃表面上涂一层光刻胶，涂胶效果控制的好坏直接影响光刻质量，它主要控制的内容为光刻胶准备、涂层厚度及均匀性、涂层表面状态等。光刻的基本工艺01.涂胶前烘的目的是促使胶膜内的溶剂充分挥发，使胶膜干燥以增强胶膜与ITO表面的黏附性和胶膜的耐磨性。曝光时，掩膜版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜或沾污掩膜版。同时，只有干燥的光刻胶，才能在曝光时充分进行光化学反应。光刻的基本工艺02.前烘前烘方式有两种，一种是用恒温干燥箱烘干，另一种是用红外炉烘干。两者差别在于前者是由电热丝加热至一定温度，使光刻胶膜从外向里逐渐干燥，干燥时间较长：而后者是用红外线辐射，光刻胶的干燥是从胶膜与ITO层交界面开始逐渐向外挥发溶剂，其干燥效果好于前一种且时间较短。曝光就是在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩膜版，通过紫外光进行选择性照射，使受光部的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。显影后，光刻胶膜显现出与掩膜版相对应的图形。光刻的基本工艺03.曝光一般曝光的操作过程是：先将曝光机的紫外线灯打开预热，待电源稳定，将光刻版放在版框上通过显微镜进行初对位；要求光刻版两侧标记与显微镜“+”字线重合然后锁紧固定版夹；将初调好的版框图形面向下放到曝光机框架上，取一张涂有光刻胶的玻璃，胶面朝上放在曝光平台上，用定位销定位；曝光作试验，曝光的玻璃经显影取出。显影就是将感光部分的光刻胶溶除，留下未感光部分的胶膜从而显示所需要的图形。显影过程是将曝光后的玻璃放入显影槽中，显影液通过摇摆的喷头喷洒在玻璃的光刻胶面上，过一定时间显出图形后，玻璃再通过水洗，将显影液冲掉。光刻的基本工艺04.显影显影液有两种：一种是与光刻胶配套的专用显影液，另一种是一定浓度的碱液（KOH或NaOH）。第二种使用得较普遍。由于显影时光刻胶膜发生软化、膨胀，影响胶膜的抗蚀能力，因此显影后必须用适当温度烘焐玻璃以去除水分，增强胶膜与玻璃的黏附性。这个过程叫坚膜。坚膜的方法有两种：一种是用烘箱坚膜，另一种是用红外线坚膜。两者差异在“前烘部分”已讲过。坚膜的条件一是温度，二是时间。两个条件变化对坚膜质量的影响同前烘所述，一般情况是坚膜条件略高于前烘条件。光刻的基本工艺05.坚膜刻蚀是用一定比例的酸液把玻璃上未受光刻胶保护的ITO膜腐蚀掉，而将有光刻胶保护的ITO膜保存下来，最终形成ITO图形。光刻的基本工艺06.刻蚀去胶又称剥离，就是把刻蚀后玻璃上剩余的光刻胶去掉，清洗是冲洗干净玻璃表面的残胶、杂质等。去胶液是用碱液配制而成的，它的碱浓度要高于显影液浓度。去胶是在定温度条件下，用碱液冲洗并用滚刷擦洗玻璃以保证将玻璃上的残胶去除净。清洗是用高纯水冲洗玻璃上残留的碱液同时冲洗残胶。光刻的基本工艺07.去胶和清洗03PARTTHREE光刻基本操作流程装篮清