第2章-常用半导体器件图_第1页
第2章-常用半导体器件图_第2页
第2章-常用半导体器件图_第3页
第2章-常用半导体器件图_第4页
第2章-常用半导体器件图_第5页
已阅读5页,还剩93页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

第2章常用半导体器件

教材:第3章

半导体二极管及其基本应用电路

p.42~p.63

第4章

晶体三极管及其基本放大电路

p.64~p.73

第一章常用半导体器件1.1半导体基础知识1.2半导体二极管1.3双极型晶体管1.4场效应管Sec1.1半导体基础知识1.本征半导体⑴什么是本征半导体⑵本征半导体的结构2.本征半导体的电特性⑴电子-空穴形成(本征激发)⑵电子-空穴消失(复合运动)3.本征半导体载流子的浓度1.本征半导体结构示意图条件:T=3000k束缚价电子价带禁带EG=1.11ev导带qEG=1.6×10-19×1.11=1.76×10-19(j)2.本征半导体中的自由电子和空穴条件:T=27℃本征半导体的导电特性+-E1.漂移电流:热激发(或:外加电㘯)

⑴.电子—空穴,成对出现;⑵.电子数=空穴数;本征半导体成电中性;⑶.空穴流说;2.复合运动:电子—空穴成对消失3.本征半导体载流子的浓度:ni=pi或者写成:nipi=ni2=pi2Sec.1.2杂质半导体1.N型半导体:掺入5价元素,

磷(p)、砷.(As)、锑(Sb).2.P型半导体:掺入3价元素,

硼(B)、鎵(Ga)、铟(In).1.N型半导体不能移动的正离子自由移动的电子=多子掺杂浓度对载流子浓度的影响:例:Lec.-1,p.8.小结:①.掺杂浓度很微,电阻率大大降低;②.n≠p,n>>p;

nt=nd

+ni,pt=pi;③.整体上看,呈电中性;2.P型半导体受主杂质:Pa=Na(-)本征硅:Pi=NiP=Pa+PiN=Ni(多子)P>n(少子)Sec.1.3PN结1.PN结的形成⑴多子扩散运动(内建电场)⑵少子漂移运动(Ubo

电位差)2.PN结的单向导电性⑴PN结的电中性⑵PN结加正向电压⑶PN结加反向电压1.PN结的形成(1).PN结内部载流子的运动:

①.多子的扩散运动:②.自建电㘯和耗尽层的形成:载流子复合

③.少数载流子的漂移运动:2.PN结的单向导电性:

(1).PN结加正向电压时导通(2).PN结加反向电压时截止3.PN结的伏安特性⑴.PN结的电流方程:=Is(eu/ut

-1)Is—PN结反向饱和漏电流I—流过PN结的电流U—加在PN结两端的电压UT=KT/q=26mv--热电势K:库尔兹曼常数,1.38×10-23(J)T:热力学温度,。K氏温度;q:电子电荷量,1.6×10-19(库)3.PN结的伏安特性正向特性反向特性反向击穿特性⑴.PN结的电流方程讨论:⑴.U>4UT;⑵.U<-4UT;=Is(eu/ut

1)Pz=UZIZmaxIzmin

4.PN结的反向击穿持性⑴zener击穿⑵雪崩击穿(avalanchbreakdown)⑶.带隙式击穿5.PN结的电容效应⑴势垒电容Cb;⑵扩散电容Cd;4.PN结的反向击穿持性⑶.带隙式击穿:1.25V≤UZ≤2.5V

⑴zener击穿:2.5V≤UZ≤4.0V⑵雪崩击穿(avalanchebreakdown):7V≤UZ5.PN结的电容效应

(1).势垒电容PN结的扩散电容(P区少子浓度分布曲线)Sec.1.4半导体二极管1.二极管的结构2.二极管的伏安特性3.二极管的主要参数4.二极管的应用举例5.稳压管的伏安特性和等效电路6.稳压管稳压电路

1.二极管的结构及电路符号点接触型面接触型平面型电路符号

二极管的几种外形2.二极管的伏安特性二极管的伏安特性测试电路vmARwERID+-vuARwERIS+-正向特性反向特性DD3.Diode的主要参数⑴.Diode的直流参数①.最大整流电流IF②.最大反向工作电压UR③.反向电流IR;④.正向直流电阻Rd;⑤.T℃漂移;⑵Diode的交流参数①.最高工作频率fM②.动态电阻rd

二极管加正向电压的情况~uV=UD+IRSignalsource4.

二极管的小信号微变等效电路图DC负载线5.Diode的应用举例例1.Diode作开关使用ui0S应用Condition:

ui>>ud;ud≈0v;例2.门电路中Diode的作用ERD1D2uaubuo应用Condition:

U=(1~5)vI00.7

ud

=0.7v例3.Diode折线电路ΔIΔUUI00uoui大信号软限幅例4.Diode限幅器R+-EE0V应用Condition:U>ESec.2.5稳压管的工作原理

稳压管的参数及应用Sec.2.5稳压管的参数及应用⑴.稳压管的(应用电路)工作原理:

┗┓UIRLDZRIZIL+-IRIR=IZ+ILIR=(Ui–UZ)/R设:

Ui=12v,Uz=6v,Izmin=5mA,R=500Ω,Izmax=30mA,RL=1kΩ或0或∝时,求:Uo=?解:

⑴.RL=

∝时

⑵.RL=0时⑶.RL=1kΩ时稳压管的工作原理:例UIRLDZRIZIL+-IR⑵.稳压管的伏安特性和等效电路稳压管模型

⑶.稳压管应用于稳压电路⑷.稳压管的参数①.稳定电压UZ:IZm≤IZ≤IZM②.稳定电流IZ

:③.额定功耗PZ:④.稳压管的温度系数⑤.动态电阻rZ

:Sec.6.发光二极管图1.2.13光电二极管的外形和符号返回图1.2.14光电二极管的伏安特性Sec.2.6晶体三极管(双极型晶体管)特性

及主要参数教材:第4章晶体三极管及其基本放大电路p.64~p.73Sec.2.6双极型晶体管特性及主要参数1.晶体管的结构和符号2.晶体管内部载流子运动与外部电流3.基本共射放大电路4.晶体管的输入特性曲线5.晶体管的输出特性曲线6.晶体管的极限参数7.温度对晶体管输出特性的影响1.概述⑴.Tr.Classification(结构):①.BipolarTr.②.MOSFET.⑵.按工作电流分类:⑶.按工作频率分类:晶体管的几种常见外形⑵.(Bipolar)晶体管的结构和符号2.Tr.的电流放大作用⑴.Tr.的电流形成过程①.发射结正偏②.多子扩散到基区③.集电结反偏⑵.Tr.的电流分配关系(放大作用)

⑴.

Tr.的电流形成过程⑵.定量分析

(电流分配关系)(电流放大系数)IE=IEN+IEP=ICN+IBN+IEP≈ICN+IBNIC=ICN+ICBO≈ICN

IB=IBN+IEP-ICBONPNIC=βIB

+(1+β)ICBO⑶.基本共射放大电路的放大作用

(电路符号表示)IEICIBΔIBΔICΔIE输入回路输出回路3.基本共射放大电路的特性曲线测试电路RbRcRw1Rw2EcEcUBEUCE+-+-⑴.晶体管的输入特性曲线

⑵.晶体管的输出特性曲线⑶.Tr.的3个工作区

①.Cutoffarea:

②.Saturationarea:

③.Amplificationarea:④.Tr.基区调宽效应:4.温度对Tr.特性的影响⑴.温度对Tr.UBE的影响⑵.温度对Tr.ICBO特性的影响⑶.温度对Tr.β特性的影响4.温度对晶体管输入特性的影响图1.3.9温度对晶体管输出特性的影响5.Tr.的几个主要参数⑴.直流参数:

①.直流电流放大倍数:β②.极间反向电流:ICBO、ICEO⑵交流参数:①.交流电流放大倍数:β②.特征频率fT⑶极限参数①.PCM②.ICM③.反向击穿电压图1.3.10光电三极管的等效电路、符号和外形图1.3.11光电三极管的输出特性曲线

2.7场效应晶体管

教材:第5章

场效应管及其基本放大电路

p.127~p.153

2.7场效应管1结型场效应管的结构和符号2N沟道结型场效应管的结构示意图3uDS

=0时uGS对导电沟道的控制作用4UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况5场效应管的输出特性6场效应管的转移特性曲线1.结型场效应管的结构和符号2.N沟道结型场效应管的结构示意图

3.uDS

=0时uGS对导电沟道的控制作用4.UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况5场效应管的输出特性6场效应管的转移特性曲线2.MOSFET⑴.MOSFET管结构及分类:①.增强型MOS:A.N—沟道MOSFETB.P—沟道MOSFET②.耗尽型MOS:A.N—沟道MOSFETB.P—沟道MOSFET

①.N沟道增强型MOSFET结构示意图

及增强型MOSFET的符号②.uDS

=0时uGS对导电沟道的影响

uGS为大于UGS(th)的某一值时

uDS对iD的影响N沟道增强型MOS管的特性曲线

⑵.N沟道耗尽型MOS管结构

示意图及符号3.FET的主要参数(技术指标)⑴.DC参数①.开启电压UGS(th):②.夹断UGS(Off):③.饱和漏电流IDSS:④.直流输入电阻RGS:⑵.AC参数:①.低频跨导gm:②.极间电容Cgs、Cgd、Cds:③.低频噪声系数NF:⑶.极限参数:

①.最大漏极电流IDM:②.最大漏极耗散功率PDM:③.击穿电压U(BR)DS:④.柵源击穿电压U(BR)GS:⑶.N沟道增强型VMOS管的结构示意图

场效应管的符号及特性图1.4.14例1.4.1输出特性曲线

N—沟道增强型MOSFET电路图JFET电路图图1.4.2N沟道结型场效应管的结构示意图图1.4.3uDS

=0时uGS对导电沟道的控制作用图1.4.1结型场效应管的结构和符号图1.4.4UGS(off)<uGS<0且uDS>0的情况图1.4.5场效应管的输出特性图1.4.6场效应管的转移特性曲线图1.4.7N沟道增强型MOS管结构示意图及增强型MOS的符号图1.4.8uDS

=0时uGS对导电沟道的影响图1.4.9uGS为大于UGS(th)的某一值时uDS对iD的影响图1.4.10N沟道增强型MOS管的特性曲线图1.4.11N沟道耗尽型MOS管结构示意图及符号图1.4.12N沟道增强型VMOS管的结构示意图图1.4.13场效应管的符号及特性图1.4.14例1.4.1输出特性曲线图1.4.15例1.4.2电路图图1.4.16例1.4.3电路图1.5单结晶体管和可控硅图1.5.1单结晶体管的结构示意图和等效电路图1.5.2单结晶体管特性

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论