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  • 2000-02-03 颁布
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【正版授权】 ISO 14237:2000 EN Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials_第1页
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基本信息：

  • 标准号：ISO 14237:2000 EN
  • 标准名称：表面化学分析 二次离子质谱法 利用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
  • 英文名称：Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
  • 标准状态：废止
  • 发布日期：2000-02-03

文档简介

ISO14237:2000EN是一个关于表面化学分析的国际标准，它涉及到二次离子质谱法（Secondary-ionmassspectrometry，SIMS）在硅材料中硼原子浓度测定方面的应用。这个标准主要关注的是使用均匀掺杂材料进行硼原子浓度的测量。

二次离子质谱法是一种表面分析技术，它通过向样品发射高能离子并测量产生的二次离子，来研究样品的表面和表面以下的化学成分、晶体结构和电子结构。在这个过程中，硼离子的产生和测量可以用来确定硅材料中的硼原子浓度。

在使用均匀掺杂材料时，硼原子会均匀地分布在硅材料的整个表面或深度范围内，因此可以通过SIMS技术准确地测量硼原子浓度。这个方法具有很高的灵敏度和精确度，可以用于研究硅材料的掺杂程度、表面改性、相变等方面。

ISO14237:2000EN标准提供了关于使用二次离子质谱法测定硅材料中硼原子浓度的详细指南，包括样品准备、实验设置、数据分析等方面。这个标准对于研究硅材料科学、材料表征等领域具有重要的参考价值。

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