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文档简介
31
DB61
61/T
1743—2023设施甜瓜基质槽栽培技术规范Technical
for
substrate
cultivation
of
in
protectedagriculture 陕西省市场监督管理局发
布
17432023 II
DB61/T
2023
1.1—2020
17432023
16715.1
23416.3
1107
2119
5010
3.1
cultivation
trough
5010
5.1
5.2
DB61/T
2023
16715.15.3
槽间距1.5
,槽宽50
,槽深30
,长度根据设施类型确定,日光温室宜南北走向,大棚栽培
48
30
5.3.1
PVC
30
20
0.8
槽底和槽壁铺设厚度大于0.1
的塑料薄膜或无纺布,按照20
间距打孔,孔径
。用20
25
5.4
5.4.2.1
5.4.2.2
5.4.2.3
5.4.2.4
7.1
kg/667
10
15
10
17432023
采用双行定植,行距30
35
40
45
666.7
1800株~2100株。栽苗深度以基质埋过根坨
待缓苗后铺设70
PVC
7.1.17.2
16467.3
浇水次,每次滴灌30
60
,收获前
停止浇水。维持基质相对含水量缓苗期70
80
65
75
85
采用水肥一体化系统追肥,追肥以符合
1107标准的大量元素水溶肥料为主,追肥时期和用表1
7.4
整枝片~12节~14节位子蔓留瓜,薄皮甜瓜节~12节位子蔓留瓜。厚皮甜瓜每株留个~个,薄皮甜瓜每株留25287.5
蜂辅助授粉,每667
放置一箱熊蜂或蜜蜂。也可以在雌花开放当天或开花前
10℃~16℃时0.1
)每10
兑水0.5
17
℃~25
℃时每10
兑水
1.5
26℃~30
10
1.5
DB61/T
2023
pHEC
6.77.52.028359.42.15.30.680.796170121645584:66.87.52.433407.911.01.63.50.500.674452101529421:16.
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