DB61-T 1743-2023 设施甜瓜基质槽栽培技术规范_第1页
DB61-T 1743-2023 设施甜瓜基质槽栽培技术规范_第2页
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31

DB61

61/T

1743—2023设施甜瓜基质槽栽培技术规范Technical

for

substrate

cultivation

of

in

protectedagriculture 陕西省市场监督管理局发

布

17432023 II

DB61/T

2023

1.1—2020

17432023

16715.1

23416.3

1107

2119

5010

3.1

cultivation

trough

5010

5.1

5.2

DB61/T

2023

16715.15.3

槽间距1.5

，槽宽50

，槽深30

，长度根据设施类型确定，日光温室宜南北走向，大棚栽培

48

30

5.3.1

PVC

30

20

0.8

槽底和槽壁铺设厚度大于0.1

的塑料薄膜或无纺布，按照20

间距打孔，孔径

。用20

25

5.4

5.4.2.1

5.4.2.2

5.4.2.3

5.4.2.4

7.1

kg/667

10

15

10

17432023

采用双行定植，行距30

35

40

45

666.7

1800株～2100株。栽苗深度以基质埋过根坨

待缓苗后铺设70

PVC

7.1.17.2

16467.3

浇水次，每次滴灌30

60

，收获前

停止浇水。维持基质相对含水量缓苗期70

80

65

75

85

采用水肥一体化系统追肥，追肥以符合

1107标准的大量元素水溶肥料为主，追肥时期和用表1

7.4

整枝片～12节～14节位子蔓留瓜，薄皮甜瓜节～12节位子蔓留瓜。厚皮甜瓜每株留个～个，薄皮甜瓜每株留25287.5

蜂辅助授粉，每667

放置一箱熊蜂或蜜蜂。也可以在雌花开放当天或开花前

10℃～16℃时0.1

）每10

兑水0.5

17

℃～25

℃时每10

兑水

1.5

26℃～30

10

1.5

DB61/T

2023

pHEC

6.77.52.028359.42.15.30.680.796170121645584:66.87.52.433407.911.01.63.50.500.674452101529421:16.

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