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文档简介

第6章半导体存储器

6.1半导体存储器的分类

6.2随机读写存储器RAM

6.4可编程只读存储器

6.3掩模只读存储器MROM

用半导体材料制成的大规模集成电路,基本功能是存储数据,用于数字系统中需要临时或永久性保存数据的场合。

6.1半导体存储器的分类

按功能分类半导体存储器随机读写存储器静态随机读写存储器(SRAM)动态随机读写存储器(DRAM)只读存储器掩模只读存储器(MROM)一次性可编程只读存储器(OTP)紫外线可擦除可编程只读存储器(EPROM)电可擦除可编程只读存储器(E2PROM)闪烁存储器(FLASHE2PROM)RAM:

随机读写存储器(RandomAccessMemory)数据可以随时存入(写)或取出(读)。断电数据会丢失。ROM:

只读存储器(ReadOnlyMemory)存放固定数据,事先写入,工作中可随时读取。断电数据不会丢失。MROM:掩模只读存储器

(MaskedROM)制造时固化数据,工作中只读,得不改写,适用于大批量产品。OTP:一次性可编程只读存储器(OneTimeProgrammbleROM)使用前,用户一次性写入数据,不得改写。适用于小批量产品。EPROM:紫外线可擦除可编程只读存储器(ErasablePROM)数据写入后,可用紫外线照射擦除

。擦除后可重写。

E2PROM:电可擦除可编程只读存储器(ElectricallyErasablePROM)。数据写入后,可施加电信号将数据擦除,并写入新数据

,可反复擦写上百次,适用于开发阶段或小批量产品的生产。可在线读写。FLASHE2PROM:闪烁存储器。具有E2PROM的擦写特点,擦除速度快得多,擦写次数达上千次。

双极型存储器:工作速度快,但功耗大、集成度不高;MOS型存储器:制作工艺简单,集成度高,功耗耗,容量大,成本低。工作速度得到极大地提高,得到广泛应用。

6.1半导体存储器的分类

按制造工艺分类:6.2随机读写存储器RAM

6.2.1SRAM

注意:读出是无破坏性的,即,读操作不会使数据发生改变。写入会改变原来存放的数据。即,不管原来存放的数据是什么,写操作后一定是新写入的数据。MOS六管存储单元T1~T4构成基本RS触发器。读取数据:使X、Y有效,T5~T8开通,触发器的两个互补输出端分别向D、

端传出数据;写入数据:先将待写入的数据送到D、端上,再使X、Y有效,T5~T8开通,外来数据强行使触发器置位或复位。MOS六管存储单元

SRAM存储器例:4×4存储单元方阵构成的存储器,能存放16个二进制数据位:A0~A3:地址,对某一存储单元进行选择。其中:

A1A0:由X选择译码电路译为4路输出,用作行选择;

A3A2:由Y选择译码电路译为4路输出,用作列选择。

只有行和列同时选中的存储单元才能通过D、端进行访问。

4×4存储矩阵读写控制电路,见下图。

I/O:数据输入/输出端。:器件选择信号。若,G1、G2、G3呈高阻态,读写操作被禁止;若,G1、G2、G3开通,读写操作可进行,此时:

若,G3开通,数据D从I/O

输出;若,G1、G2开通,数据由I/O

送到D、端。读写控制电路集成SRAM

6116写入控制端片选端输出使能端A0~A10:地址码输入端,D0~D7:数码输出端。集成SRAM6116

(2kB×8位)介绍:

D7~D0:数据输入/输出端,以字节为单位进行读写。

A10~A0:11位地址输入端,存储容量为2048字节(2KB)。:片选端。为0,允许读写。为1:备用(此时功耗极微,且数据不会丢失)。:读脉冲端。为0:读当前地址对应的数据。为1:D7~D0端呈高阻态。:写脉冲端。先将待写入的8位数据送到D7~D0端,再令其为0,数据即被写入到当前地址对应的存储单元。集成SRAM6116RAM容量的扩展(位扩展)位扩展将地址线、读/写线和片选线对应地并联在一起输入/输出(I/O)分开使用作为字的各个位线字扩展输入/输出(I/O)线并联要增加的地址线A10~A12与译码器的输入相连,译码器的输出分别接至8片RAM的片选控制端RAM容量的扩展(字扩展)6.2.2DRAMCs、T:存储元件:

Cs:充满电荷时表示存储1,无电荷时表示存储0。T:门控管,工作在开关状态。Co:杂散分布电容,Cs、Co的容量都很小。

单管DRAM存储单元6.2.2DRAM工作原理:(1)写入数据:待写数据位加在数据线上

Co充放电

字线加高电使T导通

Cs充放电

撤消字线上的高电平使T截止

Cs上的电荷状态被保持。(2)读取数据:使数据线置于中间电位

Co充放电

使数据线处于高阻抗

字线加高电使T导通

Co和Cs上的电荷重新分配达到平衡。若——平衡后的电位高于中间电位,则原来存入的数据为1;平衡后的电位低于中间电位,则原来存入的数据为0。注意:读取数据时Cs上的电荷发生了改变,原来存入的数据被破坏应立即将读得的数据重新写入。6.2.2DRAM(续)工作原理:(3)刷新:

刷新:由于漏电,应周期性地给Cs补充电荷,使存储的数据不丢失。刷新操作:执行一次读操作,但并不使用读得的数据。存储单元为阵列排列时,以行为单位进行刷新,周期约为几毫秒6.3掩模只读存储器(MROM)

4×4阵列MOSMROM的电路结构见右图。数据存储存储0:有MOS管;存储1:无MOS管。行选择译码对A1A0译码,选择某一行。数据读出由A1A0选择要读出的行;令=0;一次性读出4位数据。X0=0110X1=1011X2=0101X3=10106.4可编程只读存储器

6.4.1一次性编程只读存储器OTP

熔丝型OTP的存储单元如图构成:T:晶体三极管;F:熔丝工作原理:出厂时,F未熔断,读取的数据全为1;数据写入:在VDD上施加较高的编程电压——若写入0,则T导通,过载电流使熔丝熔断;若写入1,则T截止,熔丝不会熔断。数据读出:行线置高电平——若熔丝断,则数据线输出0;若熔丝未断,则数据线输出1。6.4.2紫外线可擦除可编程只读存储器EPROM

EPROM的存储单元如图构成

T1:选通MOS管,行线上为高电平时导通;T2:浮栅MOS管,用于存储数据。6.4.2紫外线可擦除可编程只读存储器EPROM

浮栅MOS管的原理出厂时:浮栅上没有电荷,浮栅下面不会形成导电沟道,源极S和漏极D断开。出厂时各存储单元存储的数据都为1。用户写入数据:在D上加一个较高的编程电压

漏区的p-n结发生雪崩击穿

热电子穿过薄SiO2层注入浮栅

浮栅带电

编程电压撤除

p-n结恢复正常

浮栅上带的电荷保持

D、S之间形成导电沟道。用户擦除数据:用紫外线照射浮栅

浮栅上的电子获得较高的能量穿过SiO2层

浮栅不再带电

各存储单元存储的数据都恢复为1。6.4.3电可擦除可编程只读存储器E2PROM

擦除方式:电信号,可在线擦除。能以字节为单位进行。存储单元:增加控制栅的浮栅MOS管,如图。控制栅接地在S上加较高的正电压,在控制栅和S之间产生一个较强的电场。浮栅上的电荷越过SiO2层进入S,从而达到擦除目的。编程操作:与EPROM相同。数据不丢失时间:100年。6.4.4闪烁存储器FLASHE2PROM在E2PROM的基础上,将浮栅的SiO2绝缘层做得很薄,因而擦写速度比E2PROM块得多。由于制造工艺的改进,FLASHE2PROM的集成度很高、功耗很低,以被广泛地用作便携式智能设备的存储设备。

6.4.5只读存储器应用举例

例:八段LED数码管显示译码器。

工作原理:

EPROM2716:紫外线可擦除可编程只读存储器。VPP为编程电压引脚,仅在编程时使用,正常工作时接固定高电平。其余各引脚的功能与SRAM6116相同。、:接固定低电平,芯片总处于选中、数据线D7~D0总处于输出状态。

字形显示方式:将各种字形对应的段码写入2716,需要显示某字形时,就输入对应的地址,让该地址对应的存储内容输出。段码表制作:例如:字符“A”,将01010作为地址,在此地址对应的存储字节处写入段码:

11101110,见下图。

字符“A.”将11010作为地址,在此地址对应的存储字节处写入段码:

11101111,见下图。字符“A”abcdefgh=11101110字符“A.”abcdefgh=11101111例:用EPROM2716实现按作息时间控制打铃。

CLK:时钟脉冲,周期为1分钟11位二进制计数器:每隔1分钟加1,其计数输出Q10~Q0作为2716的读数地址。每隔1分钟2716的8位输出数据

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