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文档简介

抛光工序基础知识抛光的过程是十分复杂的，经过大量的实验研究，大致可以归纳为三种理论：机械磨削理论、化学作用理论和热的表面流动理论。迄今为止，一种综合性的观点被人们所承认，即抛光的本质是机械、化学和物理三种作用的错综复杂的过程。二、抛光的目的：光学零件的抛光是获得光学表面最主要的工序。目的一：去除精磨的破坏层，达到规定的表面质量要求。目的二：精修面型，达到图纸要求的光圈和局部光圈，最后形成透明规则的表面。三、影响抛光效率的工艺因素1．抛光机转速和压力。在高速抛光中速度和压力的增加与抛光速率的提高近似成线形关系。2．抛光液的影响。实验表明，对于聚氨酯模，液温在30~35之间为宜抛光液的浓度从0~15%抛光速率成线形增加，当超过30%时反而降低抛光液的酸度，对抛光质量、抛光速率和加工表面的腐蚀影响都很大，通常PH值应控制在6~7之间的弱酸性为好；抛光液的供给量，流量过大或过小抛光速率都降低，其大小应与抛光液的浓度和温度等参数配合；抛光粉的粒度，其粒度应根据表面疵病要求选择，一般表面疵病要求较高时，采用粒度较细的抛光粉。3.玻璃种类及精磨后的表面粗糙度等，对抛光效率和零件的表面质量都有重要影响。

抛光技能1．光圈的识别：a)三个概念：1、被检光学表面的曲率半径相对于参考表面曲率半径的偏差称半径偏差。2、被检光学表面与参考光学表面在两个相互垂直方向上产生的光圈数不等所对应的偏差称像散偏差。3、被检光学表面与参考光学表面在任一方向上所产生的干涉条纹的局部不规则程度称局部偏差。半径偏差像散偏差半径偏差像散偏差b)高低光圈的判定高光圈：为正iii..周边加压时，光带向边缘移动。ii.一边加压时，光带中心和施力点一致。

周边加压一侧加压周边加压一侧加压低光圈：为负1．周边加压时，光带向中心移动。2．一边加压时，光带中心和施力点相反。周边加压一侧加压2、光圈的度量1）在光圈数多的情况下，1）在光圈数多的情况下，以有效检验范围内直径方向上最多条纹数的一半来度量。N=3N=3N=2N=1在光圈数少的情况下，光圈数以通过直径方向上干涉条纹的弯曲量h相对于条纹的间距H的比值来度量。N=h/HN=h/H象散光圈的度量a、以两个相互垂直方向上的光圈数N的最大代数差的绝对值来度量。N=3△N=|3-2|=1N=3△N=|3-2|=1N=2△N=l2-(-l)l=3b、象散光圈数少时的判断在样板的相互垂直方向上作周边加压或一侧加压，当N>1时光圈呈椭圆；当N<l

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