异质结的能带图

异质结的能带图第一页，共四十一页，编辑于2023年，星期三3.1节（3.1.1）能带图（3.1.2）突变反型异质结的接触电势差及势垒区宽度（3.1.3）突变同型异质结（3.1.4）几种异质结的能带图（3.1.5)尖峰的位置与掺杂浓度的关系第三章异质结的能带图第二页，共四十一页，编辑于2023年，星期三（3.1.1）能带图ABEcEcABEcEcEvEvEvEv第三页，共四十一页，编辑于2023年，星期三能带结构异质结界面两侧的导带极小值和价带最高值随坐标的变化。什么是能带图？第四页，共四十一页，编辑于2023年，星期三Letxbetheelectronaffinity,whichistheenergyrequiredtotakeanelectronfromtheconductionbandedgetothevacuumlevel,电子亲和势：电子由导带底跃迁到真空能级所需的能量，=E0-EcvacuumlevelEcEv第五页，共四十一页，编辑于2023年，星期三letfbetheworkfunction,whichistheenergydifferencebetweenthevacuumlevelandtheFermilevel.功函数：电子由费米能级至自由空间所需的能量，=E0-FfEcEfEv第六页，共四十一页，编辑于2023年，星期三Anderson'srulestatesthatwhenconstructinganenergybanddiagram,the

vacuumlevels

ofthetwosemiconductorsoneithersideoftheheterojunctionshouldbealigned第七页，共四十一页，编辑于2023年，星期三不考虑界面态时的能带结构(一）能带图由电子亲和能、禁带宽度、导电类型、掺杂浓度决定A突变反型x1x2DEcDEvEFEvECEFEg1Eg2f1f2未组成异质结前的能带图12第八页，共四十一页，编辑于2023年，星期三1异质结的带隙差等于导带差同价带差之和。2导带差是两种材料的电子亲和势之差。3而价带差等于带隙差减去导带差。x1x2DEcDEvEC2Eg1Ev2Ec1Ev1第九页，共四十一页，编辑于2023年，星期三n-GaAsP-GaAspn

当两种单晶材料组成在一起构成异质结后，它们处于平衡态，费米能级应当相同。为了维持各自原有的功函数和电子亲和势不变，就会形成空间电荷区，在结的两旁出现静电势，相应的势垒高度为eVD，e为电子电荷，VD为接触电势。它等于两种材料的费米能级差：第十页，共四十一页，编辑于2023年，星期三ECEF2Eg2Eg1EF1Eg1EF1ECEF2Eg2接触前接触后1.AligntheFermilevelwiththetwosemiconductorbandsseparated.Leavespaceforthetransitionregion.如何画接触后的异质结能带图第十一页，共四十一页，编辑于2023年，星期三ECEF2Eg2Eg1EF1内建电场=》空间电荷区中各点有附加电势能，使空间电荷区的能带发生弯曲。第十二页，共四十一页，编辑于2023年，星期三Eg1eVDECEg2第十三页，共四十一页，编辑于2023年，星期三1能带发生了弯曲：n型半导体的导带和价带的弯曲量为qVD2,界面处形成尖峰.p型半导体的导带和价带的弯曲量为qVD1,界面处形成凹口(能谷）。2能带在界面处不连续，有突变。Ec,EvThereisnonsymmetryinDECandDEvvaluesthatwilltendtomakethepotentialbarriersseenbyelectronsandholesdifferent.Thisnonsymmetrydoesnotoccurinhomejunction第十四页，共四十一页，编辑于2023年，星期三InGaAsGaAsSbInAsGaSbEC1Ev1EC2Ev2EC1Ev1EC2Ev2EC1Ev1EC2Ev2Straddling跨立型(b)Staggered错开型(c)Brokengap破隙型AlGaAsGaAs典型的能带突变形式第十五页，共四十一页，编辑于2023年，星期三第十六页，共四十一页，编辑于2023年，星期三AlGaAsGaAs第十七页，共四十一页，编辑于2023年，星期三InGaAsGaAsSb电子和空穴在空间分离根据半导体物理理论，这种分离效应可以有效抑制材料载流子的俄歇复合。任何光子探测器，随着温度的升高，最终的效率极限都将是材料中载流子的俄歇复合。目前最好的红外探测器材料碲镉汞的最终性能极限就是载流子的俄歇复合，如果禁带错位型类超晶格结构如预期的那样能将电子、空穴物理分离，实现对俄歇复合的有效抑制。第十八页，共四十一页，编辑于2023年，星期三InAsGaSb电子从一种半导体大量流入到另一种半导体，使一种半导体存在大量电子，而另一种存在大量空穴。使它们具有导电能力，具有半金属性质。利用分子束外延生长高质量GaAs基GaSb体材料和InAs/GaSb超晶格材料技术，为下一步制造价格便宜、性能可靠的N-GaAs/P-GaSb热光伏电池、新一代焦平面多色红外探测器件等提供了重要的技术基础。

第十九页，共四十一页，编辑于2023年，星期三可以产生热电子能使电子发生反射的的势垒提供一定厚度和高度的势垒能造成一定深度和宽度的势阱能带突变的应用第二十页，共四十一页，编辑于2023年，星期三DEc=0.07eVDEv=0.69eVDEc+DEv==0.76eV第二十一页，共四十一页，编辑于2023年，星期三3.1.2突变反型异质结的接触电势差势垒区宽度第二十二页，共四十一页，编辑于2023年，星期三一工艺过程生长方法,界面态能带弯曲二异质结晶面的取向极性半导体,组成半导体的两种原子具有不同的负电性例如,GAAs,半导体中Ga和As对电子的束缚能力不同,当组成晶体时,电子更多地偏向As原子一方.(110):电中性(111)极性-偶极距三组成异质结的半导体特性偶极距应变影响能带突变的因素第二十三页，共四十一页，编辑于2023年，星期三安德森(Anderson)能带模型

假定：1，在异质结界面处不存在界面态和偶极态；2，异质结界面两边的空间电荷层（或耗尽层中)，空间电荷的符号相反、大小相等；3，异质结界面两边的介电常数分别为1和2,12,界面处的电场不连续：

1E1=2E2E1E2。第二十四页，共四十一页，编辑于2023年，星期三泊松方程第二十五页，共四十一页，编辑于2023年，星期三势垒区中的电荷密度分布whereagainNA1isthenetacceptorconcentrationinthepside,andND2isthenetdonorconcentrationontheNside.第二十六页，共四十一页，编辑于2023年，星期三突变反型异质结的泊松方程wheree1ande2arethepermittivityinthepandNregions,

第二十七页，共四十一页，编辑于2023年，星期三边界条件:pnx1x2x0线性，在交界处不连续Thustheelectricfieldisgivenbytwointhedepletionregionandzerooutside.电场分布第二十八页，共四十一页，编辑于2023年，星期三Ifwechoosethereferencepotentialtobezeroforx<x1wehave电势分布第二十九页，共四十一页，编辑于2023年，星期三接触电势差第三十页，共四十一页，编辑于2023年，星期三势垒区内正负电荷总量相等。耗尽层主要落在杂质能度低的一侧。耗尽层宽度和掺杂的关系第三十一页，共四十一页，编辑于2023年，星期三有外加偏压时：第三十二页，共四十一页，编辑于2023年，星期三x1x2DEcDEvEF1Ev1EC2EF2Eg1Eg2f1f2NC导带有效状态密度价带有效状态密度内建电场计算第三十三页，共四十一页，编辑于2023年，星期三突变反型异质结的势垒电容势垒区内电荷总量相等第三十四页，共四十一页，编辑于2023年，星期三（3.1.3）突变同型异质结EF2>EF1,电子从宽带流入窄带必有一边为积累区第三十五页，共四十一页，编辑于2023年，星期三异型异质结中，少子起主要作用。同型异质结（nN和pP）中，其性质主要是由多数载流子决定。同型异质结中，由于异质结两边的导电型号相同，两侧不再象异型异质结那样出现两个耗尽层构成的电偶极区。而是在宽带隙一侧的施主（nN结N侧）或受主（pP结的P侧）电离产生足够的空间电荷，而窄带隙一侧出现多子的积累。因此，同型异质结是由宽带一侧的耗尽层和窄带一侧的载流子积累层构成的电偶极区。第三十六页，共四十一页，编辑于2023年，星期三3.1.4）几种异质结的能带图(