标准解读
《GB/T 12962-2015 硅单晶》相比于《GB/T 12962-2005 硅单晶》,主要在以下几个方面进行了调整和更新:
-
术语和定义:新版标准对硅单晶及相关术语进行了修订和完善,以更准确地反映当前硅单晶技术和产品的特点。
-
技术要求:增加了对硅单晶的纯度、晶体结构、几何尺寸、表面质量等方面更严格或更具体的要求,以适应半导体行业对材料性能不断提升的需求。
-
检测方法:更新了多项检测指标的测试方法,引入了更为先进和精确的检测手段,确保测试结果的准确性和可重复性。例如,可能包括对元素杂质含量的分析方法进行了优化,以及对晶体缺陷检测技术的改进。
-
质量分级:对硅单晶的质量等级划分进行了调整,可能新增了更高等级的标准,或者对原有等级的指标要求进行了细化,以更好地满足不同应用领域的需求。
-
标志、包装、运输和储存:这部分内容也有所更新,提供了更加详细的规定和建议,以确保硅单晶在流通和存储过程中的品质不受损害。
-
规范性附录:新标准可能增补或修改了规范性附录内容,包含了更多参考数据、测试流程图或具体操作指南,便于使用者理解和执行。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2015-12-10 颁布
- 2017-01-01 实施
文档简介
ICS29045
H82.
中华人民共和国国家标准
GB/T12962—2015
代替
GB/T12962—2005
硅单晶
Monocrystallinesilicon
2015-12-10发布2017-01-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
中华人民共和国
国家标准
硅单晶
GB/T12962—2015
*
中国标准出版社出版发行
北京市朝阳区和平里西街甲号
2(100029)
北京市西城区三里河北街号
16(100045)
网址
:
服务热线
:400-168-0010
年月第一版
20163
*
书号
:155066·1-53125
版权专有侵权必究
GB/T12962—2015
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准代替硅单晶本标准与相比主要变化如下
GB/T12962—2005《》。GB/T12962—2005,:
增加了直径小于或等于直拉硅单晶及要求见
———50.8mm(5.1.1);
增加了直径区熔硅单晶及要求见
———200mm(5.1.1);
增加了对直拉硅单晶的载流子寿命要求见
———(5.2.1);
修订了型区熔高阻硅单晶电阻率范围的要求见
———n(5.2.1);
增加了掺杂比为的中子嬗变掺杂硅单晶的要求见
———F5(5.2.1);
修订了掺杂比为的中子嬗变掺杂硅单晶的径向电阻率变化及少数载流子寿命要求
———F10
见
(5.2.1);
修订了气相掺杂区熔硅单晶的直径电阻率及少数载流子寿命等要求见
———、(5.2.1);
金属含量要求中删除了重掺杂直拉硅单晶的基硼基磷含量由供需双方商定提供内容见
———“”“、”(
5.8);
取样由文字描述改为表
———6;
增加了订货单内容见第章
———(9)。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会与全国半导体设备和材料标准
(SAC/TC203)
化技术委员会材料分会共同提出并归口
(SAC/TC203/SC2)。
本标准起草单位有研新材料股份有限公司天津市环欧半导体材料技术有限公司浙江中晶科技
:、、
股份有限公司浙江省硅材料质量检验中心杭州海纳半导体有限公司万向硅峰电子股份有限公司浙
、、、、
江金瑞泓科技股份有限公司上海合晶硅材料有限公司中国有色金属工业标准计量质量研究所广东
、、、
泰卓光电科技股份有限公司
。
本标准主要起草人孙燕张果虎张雪囡黄笑容楼春兰王飞尧朱兴萍何良恩徐新华
:、、、、、、、、、
杨素心由佰玲李丽妍
、、。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为
:
———GB/T12962—1991、GB/T12962—1996、GB/T12962—2005。
Ⅰ
GB/T12962—2015
硅单晶
1范围
本标准规定了硅单晶的牌号及分类要求检验方法检验规则标志包装运输贮存质量证明书
、、、、、、、、
和订货单或合同内容等
()。
本标准适用于直拉法悬浮区熔法包括中子嬗变掺杂和气相掺杂制备的直径不大于的
、()200mm
硅单晶产品主要用于制作半导体元器件
。。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1550
硅单晶电阻率测定方法
GB/T1551
硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法
GB/T1553
硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T1554
半导体单晶晶向测定方法
GB/T1555
硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
GB/T1557
硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T1558
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
GB/T4058
半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻率测试方法非接触涡流法
GB/T6616
硅片径向电阻率变化的测量方法
GB/T11073—2007
硅单晶抛光片
GB/T12964
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