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文档简介
太阳能电池生产设备主要设备扩散系统用途:设备应用于大规模集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域,适用2"〜8"硅片退火、氧化、扩散、预沉积等工艺。主要技术指标可配加工硅片尺寸:3"〜8"工作温度范围:400〜1300°C恒温区长度及精度:600〜1250C800mm/±0.5C单点温度稳定性:600〜1250C±1C/6h最大可控升温速度:15C/min最大降温速度:5C/min自动送舟太阳能电池专用等离子体刻蚀机用途:等离子体刻蚀机是采用高频辉光放电手段,使气体离解成活性原子和自由基,与被反应物进行反应,生成挥发性反应物,达到刻蚀目的。M42200-3/WJ等离子体刻蚀机主要用于太阳能电池的周边掺杂硅的刻蚀。具有占地面积小、装片容量大、生产效率高等到优点。同时还具有手动/自动功,除装卸片手动操作外其余过程实现了全自动,保证了工艺的准确性和重复性,大大提高了产品质量。主要技术指标刻蚀介质: 掺杂硅氮化硅多晶硅刻蚀部位: 晶片周边硅片尺寸: ①210mm圆片或156X156mm方片生产量: >300片/批射频功率: 13.56MHz 100〜1000W可调气路系统: 五路路浮子流量计或二路质量流量计+三路浮子流量计抽气系统:刻蚀周期:控制方式:整机功率:机械泵+节流阀<25分/批手动/自动2.5KW太阳能电池链式烧结炉用途:主要用于太阳能电池片的键合烧结,也可用于其它贴片元件的烧结。主要技术指标:最高温度:1000°C工作温度:150C—950C控温精度:±3C/2h(采用日本温控仪)网带宽度:380mm(可根据用户要求改变)炉膛有效高度:10mm(可根据用户要求改变)加热段数:9段(可根据用户要求改变)出口冷却方式:水冷+风冷、风量可调网带速度:1000—5000mm/min连续可调加热功率:<100Kw加热方式:近红外灯管加热护功能:有超温、断偶、报警和保护功能温度曲线:按委托方提供的曲线调试网带速度稳定性:优于3%每各温区一路气体,进、出口各一路气体计算机控制APCVD(常压CVD)用途:主要技术指标有效成膜宽度:300mm加热区数量:3个加热区长度:2000mm3最高加热温度区:700C温区控制精度:±2C,送气路数:5路浮子流量计控制(三路恒温源瓶)加热方式:红外加热器加热网带速度:700—1500mm/min连续可调成膜均匀性:±5%
快速扩散炉用途:该设备主要用于硅片的快速扩散和晶片的快速退火.主要技术指标:最高温度:1150°C工作温度:500---1100C升温速度:50C/S炉膛尺寸:170mmx35mmx550mm加热功率:20KW送气路数:三路保护功能:有超温,断偶保护功能链式烘干炉用途:主要用于太阳能电池和厚膜电路丝网印刷后的烘干主要技术指标:最高温度:300C工作温度:100C—250C控温精度:±3C/2h网带宽度:600mm炉膛有效高度:30mm加热段数:3段出口冷却方式:风冷、风量可调网带速度:200—1500mm/min连续可调加热功率:V15Kw加热方式:近红外灯管加热11.总长度:5000mm炉体长度:3000mm关机功能控制方式:手动、自动、具有自动开、
关机功能等离子体粉末纯化系统用途:该设备主要用于硅体粉末材料等离子提纯和粉体材料的改性.主要技术指标反应室有效工作尺寸:080X260mm机械泵抽速:80l/s极限真空:10Pa工作真空:30Pa〜100Pa连续可调真空系统:机械泵+电磁阀+节流阀+过滤器送气路数:二路送气系统:针
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