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1、平流式斜管沉淀池的工作原理平流式斜管沉淀池的工作原理平流式沉淀池应用很广,专门是在采用地面水源的电厂中常被采用。平流式沉淀池应用很广,专门是在采用地面水源的电厂中常被采用。一、平流池的结构一、平流池的结构3-5出水区。添加混凝剂后的原水流入沉淀池,沿进水区整个截面均匀分派进入沉淀区,然后缓慢地流向出口区。水中的颗粒沉于池底,沉积的污泥持续或按期排出池外。1.进水区通过混凝处置后的水先进入沉淀池的进水区,进水区内设有配沟渠和穿孔墙,如图3-6 所示。配沟渠墙上配水孔的作用是使进水均匀散布在整个池子的宽度上,穿孔墙的作用是让水均匀散布在整个池子的断面上。为了保证穿孔墙的均匀布水作用,穿孔墙的开孔率
2、应为断面面积的6%-8%,孔径为 125mm 左1.进水区通过混凝处置后的水先进入沉淀池的进水区,进水区内设有配沟渠和穿孔墙,如图3-6 所示。配沟渠墙上配水孔的作用是使进水均匀散布在整个池子的宽度上,穿孔墙的作用是让水均匀散布在整个池子的断面上。为了保证穿孔墙的均匀布水作用,穿孔墙的开孔率应为断面面积的6%-8%,孔径为 125mm 左右。配水孔沿水流方向做成喇叭状,孔口流速在之内,最上一排孔淹没在水面下 12-15cm 处,最下一排孔距污泥区以上处,以避免将已沉降的污泥再冲起来。沉淀区v 和沉降速度u出水区出水区的作用是均匀搜集经斜管填料沉淀区沉降后的出水,使其进入出沟渠后流出池外。为保证
3、在整个 图 3-7 给出三种结构。图 3-7(a)为溢流堰式,这种形式结构简单,但堰顶必需水平才能保证出水均匀。图 3-7(b)为锯齿三角堰式,为保证整个堰口的流量相等,锯齿堰应该用薄壁材料制作,堰顶要在同一个3-7(c)为淹没孔口式,在出沟渠内墙上均匀布孔,保证每一个小孔流量相等。存泥区和排泥方式沉淀池排泥方式有静水压力斗形底排泥和机械排泥等。静水压力法。利用池内的静水位,将污泥排出池外,见图 3-8。排泥管 1 插入污泥斗,上端伸出水面与大气相通。静水压力 H(m)。为了使池底污泥能滑入污泥斗, 池底有 i=的坡度,也可采用多斗式平流沉淀池,以减小深度,见图 3-9。机械排泥法。链带式刮泥
4、机见图 3-10,链带装有刮板,沿池底缓慢移动,速度1m/min,把沉泥级级推入污泥斗,当链带刮板转到水面时,又可将浮渣推向流出挡板处的浮渣槽。行走小车刮泥装置见图 行走小车刮泥装置见图 3-11,小车沿池壁顶的导轨来回行走,刮板将沉泥刮入污泥斗,浮渣刮入浮渣槽。由于整套刮泥机都在水面上,不易侵蚀,易于维修。被刮入污泥斗的沉泥,可用静水压力法或螺旋泵排出池外。二、理想沉淀池二、理想沉淀池平流式蜂窝斜管填料沉淀池在运行时,水流受到池身构造和入口处水流惯性、出口处束流、风所谓理想沉淀池,应符合以下三个假定:水流沿水平方向流动,在过水断面上各点流速相等,在流动进程中流速始终不变。颗粒沉到池底即以为已
5、被去除,再也不返回水流中。三、离散颗粒在理想沉淀池中的沉淀进程分析1.1.水平流速依照上述假定,理想沉淀池的工作情形见图 3-12。原水进入沉淀池,在进水区被均匀分派在 AB 截面上,水平流速为:v=Q/h0B式中:v 为水平流速,m/s;Q 为流量,m3/s;h0 为水流截面 AB 的高度,m;B 为水流截面 AB 的宽度,M。截留速度和表面负荷3-12 I A B点之前沉到池底的颗粒的运动轨迹。直线II A 开始下沉不能沉到池底的颗粒的运动轨迹。直线III 代表一种颗粒从池顶A 开始下沉而恰好沉到池底最B点的运动轨迹。设沉淀池的水平流速为vIII v0,于是凡是沉速v0 的一切颗粒都能够沿
6、着类似直线I 的方式沉到池底。凡是沉速小于v0 的颗A 点开始下沉,确信不能沉到池底而沿着类似直线II 的方式被带出池外。能够看出,直线III v0 截留速度” 或截留沉速。”的沉速。因为凡是沉速等于或大于沉速v0 的颗粒能够全数被沉掉。关于直线 III 所代表的一类颗粒,流速v 和 v0 都与沉淀时刻t 有关:t=L/v t=h0/u0 式中:L 为沉淀区的长度,m;h0 为沉淀区的水深,m;t 为水在沉淀区中的停留时刻,S;u0 为颗粒的截留速度,m/s;v 为水平流速,m/s。令以上两式相等,并以式(3-12)代入,整理得截流速度u0:u0=Q/LB=Q/A 式中:A 为沉淀池水面的表面
7、积。表面负荷 荷(q),表面负荷的单位为m3/(m2h)。由此可见,截留速度在数值上等于表面负荷,但含义不同:截留沉速代表自池顶A 单位表面积在单位时刻所通过的流量。沉淀效率vi 。应该指出,那个特定颗粒的沉速,必然小于截留沉速u0u0 粒将全数下沉,没必要讨论。去除率Pi 的关系推导如下。沉速 ui 小于截留沉速 u0 的颗粒,如从池顶 A 点下沉,将沿着直线 II 前进而不能沉到池底。若是引一条平行于直线II 而交于 B的直线 mB,从图 3-12 可见,只有位于池底以上 hi 高度内,也即处于 m 点以下的这种颗粒才能全数沉到池底。设原水中这种颗粒的浓度为 c,沿着进水区的高度为h0 的
8、截面进入的这种颗粒的总量为Qc=h0Bc,沿着 m 点以下的高度为hi 的截面进入的这种颗粒的数量为hiBc,那么沉速为 ui 的颗粒的去除率pi 应为:Pi=hiBvc/h0Bvc=hi/h0Abb的相似关系可得:h0/u0=L/v 即:h0=Lu0/v 理得:hi=Lui/v将上式代入,取得该颗粒的去除率为:Pi=ui/u0 将 u0=Q/A 代入上式得:Pi=uiA/Q=ui/q(Hazen) 理论,对沉淀技术的进展起了专门大的作用。公式反映以下两个问题:当去除率一按时,颗粒沉速ui 越大表面负荷也越高,即产水量越大。或当产水量和表面积不变时,ui 越大那么去除率Pi 越高。颗粒沉速ui 关。ui 浅池理论”淀池确实是基于该理论进展起来的。事实上,原水中沉速小于v0 的颗粒众多,这些不同的颗粒的总去除率P 粒去除率的总和。故理想沉淀池总的去除率P 为:P=(1-P0)+p00
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