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文档简介

1、普物实验:真空镀膜组10一、验用具多功能系二、数据和现象1估计本实验条件下蒸镀铜所需的真空度根据实验要求,压强 即可2分子泵开始工作后系统压强随时间的变化;从分子泵稳定工作并检查电路可以正常工作后开,每记一次压强数据,数据如下表所 普物实验:真空镀膜组10一、验用具多功能系二、数据和现象1估计本实验条件下蒸镀铜所需的真空度根据实验要求,压强 即可2分子泵开始工作后系统压强随时间的变化;从分子泵稳定工作并检查电路可以正常工作后开,每记一次压强数据,数据如下表所 (3、 真空度达到蒸镀铜膜所需下限时,加预蒸发电流为 压的变化情况P 0369 3、 真空度达到蒸镀铜膜所需下限时,加预蒸发电流为 压的

2、变化情况P 0369 系统压强随时间变化图t4真空度达到蒸镀铜膜所需下限时,加预蒸发电流为 压强的变化情压强/10- 0369 4真空度达到蒸镀铜膜所需下限时,加预蒸发电流为 压强的变化情压强/10- 0369 预蒸发电流为5A时压强随时间变化图64205、分析预蒸发时观察到的实验现象,分析总结并给出合理解5、分析预蒸发时观察到的实验现象,分析总结并给出合理解释5A 预蒸发实验时如果人为不加调整,电流会有变小接近于 0。因是加上预蒸发电流后,系统温度升高,导致金属丝部分的电阻增加(电阻率随温度而改变,电流减小明预蒸发实验时,电流会先变小后增加,电流变小可能是温度升高导致的金属电阻的增加(固态,

3、随着时间增加导致铜丝融化,熔融状态的金属导电性更好,所以电阻又会变小,流会有一定幅度的增加所以在实验中为了保证测量精度,需要人为地对电流大小进行调控。预蒸发后真空度再次达到蒸镀铜膜所需下限加蒸发电流 成膜过程和系统最大压强成膜时,真空发出明亮的光,并且光强随电流大小的增加而增大。成膜过程不可过长,若不及时关闭蒸发电流,会在真空发压强/10-预蒸发电流为15A时压强随时间变化图现有黑色物体出现,这就是真空室壁上的有机膜融化产生的。成膜过现有黑色物体出现,这就是真空室壁上的有机膜融化产生的。成膜过左右,随后又开始上且一直在上升。通过实成膜过程中最大压强值为 根 , , 。代入数据,得:最程总结热蒸

4、发方法蒸镀薄膜的经验准备基底:真正做高精度的实验时,要对基底进行认真。要选取擦拭干净的载玻片,否则上面附着的尘埃等会影响镀膜质量。准备钼丝和铜丝时仔细打磨,除去氧化杂质。同时要注意钼丝的长度左右,使之与仪器配套实验开始前(断开电源)检查真空室玻璃罩底部和橡胶密封圈排除其中的异物,保证尽可能好的封闭性,从而便于抽真空,相对约很多时间,并且真空度也会更分子泵达到稳定转速后,需要先检查是否能够探测到电流,保证电路是通路,避免之后实验失败浪费时镀膜时所加的电流不左右真空室壁上的膜不高,很容易融化,由于膜是有机化合物,融化时会产生碳元素,从而使真空室壁变黑镀膜的时间不能太可以发现,压强的变化与时间正相关

5、,一方面会影响到平程,另一方面容易烧断钼丝,融化器壁膜等等,这些都不利于实验秒左右,结合镀膜的情一方面会影响到平程,另一方面容易烧断钼丝,融化器壁膜等等,这些都不利于实验秒左右,结合镀膜的情况都闭电流关闭电流后,需要先打开低真空开关,此时分子泵关闭,机械泵正常运转,等待分子泵停止工作后(大5分钟,再打开放气开行放气二、实验收这次实验了解了真空镀膜的基本实验流程和操作方法个地方我认为需要特别注意,在调预蒸发电流时,必须时刻意稳定电流,因为电流会减小的非常明显,甚至接近0,这会验造成很大的误差。还有一点为,在调预蒸发电流为 15A 时,最初压强变化非常明显,单纯的靠眼睛看和的话我认为是很确的,因采用了调电流之前就开的方法,这样可以完整地全过程,并且读数时会比较准这次实验需要两个人配合,并且要保

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