重大关键核心技术研发项目策划资金申请报告

1、重大关键核心技术研发项目资金申请报告项目名称 高端微纳光刻装备研发与产业化 项目承担单位 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 项目负责人 陈林森 联系电话 051-628682-26 项目主持部门 江苏省进展和改革委员会 申报日期 25年3月11日 江苏省推进战略性新兴产业进展工作领导小组办公室二一五年一月目录 TOC 3h u HYPERINKl_Toc4820 一、项目的背景和必要性 AEREF _Toc11700 3 HYERNK l _To118201 (一) 国内外现状： PGEREF_Tc148701 h PERLIKl _To41182702 (二）技术进展趋势: PGREF _T

2、oc41482702 h 5HYPERLINK N:整理后(三）拟解决的关键技术和问题: AGEREFoc482703 h 6 HYPRLINK l _Toc141870 （四)对产业进展的作用与阻碍： PERF _Toc412704h 7HYPERLINK N:整理后(五)市场分析: PAGERF_Toc4141058 HYPERLNl_Tc14182706 二、项目法人差不多情况 PGEREF Toc4141826 h9 HYPERLK l _Toc4418277 三、项目的技术基础 PAGERE _To41107 h 13HYPERLINK N:整理后l（一)成果来源及知识产权情况 PA

3、GERF c41808 h13HYPERLINK N:整理后(二）产学研合作情况 PAGERE T411820h 15 YPERLINK l _Tc18270（三)已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限 PAGREF_Toc414182710h17 YPERLl _Toc414811 (四)技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势 PAGRF_Toc418211 h 22HYPERLINK N:整理后（五）重大关键技术突破对行业技术进步的重要意义和作用 AGEEF _To41412712 2HYPERLINK N:整理后l四、项目建设方案 PGE Toc4412713h 26 HY

4、PERLNKl _Toc4174 （一）建设的要紧内容、建设规模 AERF _To41482714 h26HYPERLINK N:整理后l（二）工艺技术路线与技术工艺特点PAERF Toc41275 27HYPERLINK N:整理后l（三）设备选型及要紧技术经济指标 AEREF_Toc4141816 h 28 HYPERLINK l _T4418717 (四）产品市场预测 AGEREF _To4118277 h 30HYPERLINK N:整理后 l _Toc414181（五)建设地点、建设周期和进度安排、建设期治理等 PAGREF _T41182718 h 3 HERLIK l _Tc11

5、719 五、项目投资 GEF_To44182719h HYPLINK l Toc41412720 （一)项目总投资规模、资金来源、投资使用方案 PAEREF Tc1418272 h3HYPERLINK N:整理后l（二）资金筹措方案 PAGERE_Toc4118272 h 5HYPERLINK N:整理后l六、项目财务分析、经济分析及要紧指标 PGEEF _44822h HYPERLINK N:整理后（一)财务分析 PEREF _Toc41412723 h 36 YPRIK l o41412724 (二)风险分析 PGERF _oc41424 h 38 HYERNK l _To4182725(

6、三)经济效益分析AGERFTc4118225h HYPERLINK N:整理后（四)社会效益分析PGERFTo148276 h 39HYPERLINK N:整理后八、资金申请报告附件PGERF _Tc4141872h1本项目符合江苏省“十二五”培育和进展战略性新兴产业规划中产业进展重点：(七)高端装备制造产业 -智能制造装备，同时也是（二）新材料产业中的上游核心设备，负责工艺流程中前端制程，具有关键支撑作用。一、项目的背景和必要性国内外现状和技术进展趋势，拟解决的关键技术和问题，对产业进展的作用与阻碍，市场分析。（一)国内外现状:高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半导体、ES、生物芯片、周密电

7、路、平板显示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必要设备。目前,一场新型柔性功能材料的革命性改变正在发生:超薄柔性材料的功能化,成为推动行业进展的革命性力量，使得周密加工制造技术向微米纳米结构和智能制造进展。随着移动互联的高速进展，便携、可穿戴光电子器件需要进一步解决节能、低成本问题。柔性电子制造领域国家打算与政府投入：美国FDCS打算、在202年美国“总统报告”中将柔性电子制造作为先进制造11个优先进展的尖端领域、212年ASA制定柔性电子战略、204年成了柔性混合电子器件制造创新中心；欧盟(第7研究框架、地平线打算）的印刷技术在柔性塑料基底上进行制备、英国（“抛石机”打算、建设英国的以后打

8、算）将塑料电子作为制造业要紧进展领域;德国投资数十亿欧元建立柔性显示生产线；韩国韩国绿色IT国家战略21年投资72亿美金进展AOE;日本TAD打算在011年成立先进印刷电子技术研发联盟；我国电子信息制造业“十二五”进展规划,新型显示器件、太阳能光伏等作为进展重点方向，国家自然科学基金12-、135规划中将柔性电子作为微纳制造重要研究领域。柔性光电功能材料具有数以千亿计的潜在市场需求。在下一代裸眼3D显示、大尺寸柔性触控屏、OLD照明的纳米衬底、可穿戴电子器件,具有微米级线宽纳米结构,现有的光刻设备达不到这种精度加工的要求。微纳光刻装备是高端技术密集型微纳产业中的核心设备,负责工艺流程中前端制程

9、。这些产业的进展，离不开微纳光刻装备。高端微纳光刻设备,关于科学研究中的工艺试验研究、新品研发、产品生产，实现跨越进展都具有重大意义。目前高端微纳光刻装备领域的研发和产业化工作开展较好的公司在国外,如德国iebergnstruments、瑞典Micronic、以色列Ortec、美国Apied Mateial，能够对市场需求和设备研发制造形成良性的循环,另外,韩国、日本等一些研发型公司也在进行该项工作的推进。我国科研院所在微纳光刻领域的研究,要紧模式是采购国外科研型设备,进行工艺和器件的开发,对高端装备技术的研究开展较少。国内产业环境的进展,产品创新对高端微纳直写光刻与加工装备具有大量需求；与国

10、外企业相比,在技术沟通、服务响应能力方面具有优势；国内还缺乏“微纳级不”的高端智能激光直写光刻装备的研发与制造企业,苏大维格公司通过国家63打算的重点项目的资助，掌握了微纳直写装备的核心技术,拥有人才团队，依托于国家发改委批准的“国家地点联合工程研究中心”,公司在高端微纳智能装备的研发具有,同时公司也是创业板上市公司在产业化上也有优势。值得一提的是,本公司(苏大维格)在国家63打算和江苏省攀登打算支持下,在高端微纳光刻设备的研发上卓有成效,积存了若干光机电关键技术,激光智能LM干涉直写仪器等设备填补行业空白,在100n特征尺寸的直写系统上，研发成功HoloSaV、HoMakerIII和irap

11、her20等系列化的仪器设备，具有行业领先水平，在国内闻名高等研究院所应用,并出口日本、以色列等国。获20年国家科技进步二等奖，省科技进步一等奖。（二)技术进展趋势：微纳米技术产业作为先导性领域,对我国新兴产业的创新进展中具有不可或缺的先导作用,高端微纳光刻装备是进行微纳技术的科学研究、新器件、新功能材料的研发与应用的核心仪器,具有关键支撑作用。举例讲明，“光电转换效率提升”是新型光电器件(LED，太阳能、新型照明、低耗能材料）研究的核心问题,除了材料自身的光电特性之外,微纳结构分布与高效制备是推进高性能器件研制的重要方向,例如,在LE领域,纳米图形化技术是提升器件发光效率的重要途径,目标达到

12、每瓦150流明以上，纳图形理论和实验研究是重点领域；薄膜太阳能电池的效率提升需纳米陷光结构衬底的制备;在平板立体显示领域,纳米线栅结构、3D位相延迟片偏振片、滤光片是提升显示光能利用率的重要研究方向;在光电子、微机电系统器件等科学研究领域,需要有高分辨、高效、3曝光的多功能图形化手段和检测仪器,尤其在大尺寸纳米结构器件的无损检测是急需解决的重大问题；在国防领域,超大幅面光栅的研制，需要有更好的检测仪器。在纳米印刷研究和开发领域,高端图形化与检测是提供无油墨纳米色彩图像品质的必由之路。因此，该类型的高端微纳图形化仪器设备的研制,可打破国外技术垄断,具有重大战略意义。微纳图形直写与检测仪器设备的研

13、制,关于科学研究中的工艺试验研究、新品研发中的图形快速制备与检测,实现跨越进展具有重大意义。（三)拟解决的关键技术和问题：紫外大视场平场成像光学系统研制:光学系统是微纳光刻装备的基础性关键部件,对装备的总体性能具有重要阻碍。针对各种不同阻碍,设备的光学系统将做相应的设计和研制。本公司在紫外位相-空间混合调制的微纳光学系统具有自主知识产权,是高效微纳米图形光刻的有效解决手段。自动化多轴操纵技术:基于可编程多轴操纵器的自动化操纵技术,是周密光刻设备运行的关键技术。通过编写程序实现设备光、机、电的协调运行,实现设备的预期功能。操纵技术包含了同步曝光技术、数据分割和上载技术、图像处理技术、高速多轴平台

14、闭环操纵技术等。本公司在基于PMAC、ACS等的操纵器的操纵技术有了长期研发基础,研发了飞行曝光技术、Z-校正自动聚焦技术、积分曝光技术等,为设备功能多样化开发积存了经验。微纳数据处理技术：大幅面微纳结构图形的数据是海量的,例如,以数据解析分辨率为0.5m计算,100m10m图形的数据量将达到16B。微纳结构数据，采纳具有行业共性的GDSI、DXF、GRBE、CF等格式。数据处理技术，流程是:数据格式转换数据图形化-图形数据切割和组合。光刻是数据分批分队列上载到光刻设备,通过操纵软件将图形光刻输出。工艺开发和优化:针对具体应用方向，需要对光刻工艺进行探究和研究，通过测试和分析结果，对工艺的操纵

15、参数、部件参数进行优化，最终满足应用需求。（四)对产业进展的作用与阻碍: “十二五”期间,国家和江苏省鼓舞新兴产业进展，江苏省及苏州地点将纳米技术产业作为主导进展产业，迫切需要研究并解决产业进展中缺乏上游微纳制造技术的共性问题。204年，国家进展改革委深入贯彻落实创新驱动战略,以加快经济结构战略转型为主攻方向,以改革创新促进展，切实推动高技术产业和战略性新兴产业平稳健康进展。其中的一个重点确实是深入推进新型平板显示、高性能医学诊疗设备等重大创新进展工程建设,扩大节能环保、信息惠民、卫星导航、智能制造等领域的示范应用，重点突破深刻阻碍产业进展的关键核心技术,推动传统产业改造升级，加快培育新的经济

16、增长点。高端微纳光刻装备是上述领域上游所需的核心设备,具有关键支撑作用。中国版工业40规划-中国制造业进展纲要(01505)立即于205年出台。作为牵头制定中国制造业05规划的部门，工信部已着手研究制定装备制造领域相关专项规划,规划重点实施领域为新一代信息技术产业、生物医药与生物制造产业、高端装备制造产业、新能源产业等四大产业领域。本项目突破大尺度幅面、纳米结构及纳米精度、微纳结构器件与材料的低成本制造关键技术，开发高端微纳制造装备，满足提升产业创新能力，促进区域经济进展方面的需求,建设微纳结构器件功能设计、微纳米柔性制造关键技术与装备、材料应用及加工检测创新平台。对区域纳米技术创新体系的完善

17、，对相关产业转型升级、高技术企业孵化、高端人才培养与引进具有重大作用。高端微纳光刻装备对多个产业的进展具有重要作用：平板显示和触控屏：用于光掩模版制备、大幅面触摸屏电路图形化光刻,例如5寸的大尺寸电容触控屏电路制备等。TV超薄背光源(BLU)：平板电脑、液晶显示器、电视机的超薄化趋势,用于超薄导光板的热压模具制备(例如70寸微透镜金属压印模具)。高密度柔性电路、IC载板:10m以下线宽工艺,是下一代集成电路D封装必须的关键技术,目前需要.25微米分辨率的高精度直写光刻设备。S芯片：MEMS芯片制备,需要解决厚胶图形化光刻工艺。公共安全：专门微纳结构的视读特征,是实现证卡安全、产品爱护、金融安全

18、等领域公共安全的有效手段。科研、国家项目需求：微纳加工技术，是诸多科研领域的共性技术,小型微纳光刻设备，可用于高等院所的实验室,专门定制的微纳光刻装备，能够服务于国家重大项目。（五）市场分析：柔性电子技术差不多并将开发出许多创新的电子产品应用领域，从而，带来一场电子信息技术革命。据IDTechEx预测,201年柔性电子的市场销售额将高达4.3亿美元,2018年为94亿美元,208年为00亿美元。柔性电子制造技术和装备是穿戴式电子、新能源、高端显示、物联网和智能家居领域进展的关键技术,可提供原创性柔性电子器件、知识产权和关键技术,能为新兴市场培育、高层次人才培养提供新机遇，服务并推动相关信息产业

19、的跨越进展。二、项目法人差不多情况项目法人的所有制、主营业务,近三年的销售收入、利润、税收、固定资产、资产负债率、银行信用等级、企业技术开发、经营治理、资金筹集、市场开拓等情况。企业名称:苏州苏大维格光电科技股份有限公司企业性质: 股份制企业，深交所创业板上市公司(代码:3031）企业地址:苏州工业园区新昌路68号;资本：30万人民币主营业务:激光光刻直写系统与纳米压印装备、LED纳米图形光刻设备、OGS掩膜和灰度光刻设备；光学(镭射）膜:定制光学（镭射)印材、防伪解决方案和材料；平板显示照明:超薄导光板、大尺寸电容触控屏(非T);光掩模板。公司已于202年6月在深交所创业板上市(股票代码：3

20、00331),银行信用等级:A级近三年财务情况： (万元)年度销售收入利润税收固定资产资产负债率2012281.82459.21871.350.3.12013272.32198184.941238.61.3%2042661.86319314.41487217.50%公司建有国家级研究平台“数码激光成像与显示国家地点联合工程研究中心”（国家发改委批准,201年),设有“HYPERLINK N:整理后ttp：wwwgtrnics.coCene_for_igialpticl_maging_Displangdf t _bnk江苏省微纳柔性制造工程技术研究中心”(2010年，省政府批准)，拥有600平米

21、用于工程研究和产品中试的实验室。图1公司场地具有面向新型显示、照明和成像领域的微纳制造工程研发与检测条件。设有四个研发方向:先进光学显示器件、微纳制造技术与装备、柔性材料与器件和纳米印刷技术。公司建有江苏省院士工作站和全国博士后工作站。图2 国家工程中心和院士工作站公司拥有国际一流创的新团队,江苏省科技创新团队。重大成果获得:国家科学技术进步二等奖（01年度)、江苏省科技进步一等奖(2011年度,2007年度）、第十二届、十四届“中国优秀专利奖”(201年,2012年）、第七届江苏省专利金奖等奖项。为此,公司荣获首届江苏省企业技术创新奖（全省19家企业）。图3 重大科技获奖公司拥有授权发明专利

22、49项,其中与本项目相关自主研发设备和技术已获得发明专利6项。公司建立了以市场为导向、自主创新为推动力的经营治理制度,从产品设计、品质治理、客户沟通与服务、到产品质量体系认证、新品导入与跟踪，有完整的治理制度，力图与国际体系接轨。形成了一个研发、设计、装备改进、制程提升、各户认证的快速反应能力。关于新品导入项目，成立项目领导小组，以董事长为负责人，总经理执行人的项目领导组，协调与处理项目研发、市场实施过程中的各种问题。业内第一个研发成功并批量化寸0m厚度LED超薄导光板卷对卷产线,实现产业应用; 发明并实现消色差光学膜的高效光刻方法； 发明了“宽幅衍射光变图像高速光刻方法与设备”:解决了微纳结

23、构工业化制备的行业难题; 领先建立了“微纳柔性制造生产线”,从“微纳结构设计、材料特性研究、重大装备研发和成果产业化”工艺链; 第一个研制成功“3D光变图像全息制版系统”实现了全息图像的微纳结构表达,并推进了立体图像的工业化应用; 发明“定位激光转移纸张”(印刷第一色概念），实现产业化； 第一个研发成功数字化“数码激光全息制版系统”，国内外广泛使用; 提出并实现了导模共振纳米光子晶体变色薄膜。三、项目的技术基础成果来源及知识产权情况，产学研合作情况，已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限，技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势,该项技术的突破对行业技术进步的重要意义和作用。(一）

24、成果来源及知识产权情况核心技术来源于苏大维格公司的技术积存和产学研合作，公司在高精度激光微纳米直写和加工技术方面开展了长期研发创新,要紧包括微光学元器件开发、纳米精度光机结构研发、-轴运动操纵技术、C影像检测处理技术、海量图形数据处理和传输技术等，为本项目开发积存了大量核心和关键技术。依托单位是本行业内惟一建有国家工程研究中心“”数码激光成像与显示国家地点联合工程研究中心（国家发改委批准，201年），表明了行业领先地位。目前,我国唯一个有大面积（微纳金属模具制备能力、能够实现大尺寸纳米尺度图形掩模、配套纳米压印全制程、拥有自主知识产权,目前支持4”尺寸微纳透明导电材料。依托单位在微纳制造装备的

25、应用基础研究、技术创新、材料研发和高端装备研制方面,形成了完整的创新链,并已在多个产业实现规模应用。本项目通过国家重大863专项的支持，差不多完成了技术攻关，立即进入产业化时期。在激光直写和加工技术领域,获得发明专利授权16项：专利名称专利号光学加工系统和方法Z 21210114482.4光学加工系统和方法L201206397.3光学加工系统和方法Z 011076272.0一种步进式光学加工系统和加工方法ZL 1103372.一种透明导电膜及其制作方法010033228.9一种光刻装置和光刻方法ZL 2010150378.X一种金属母板的制作方法L 201010287223一种导光膜制作装置Z

26、210224293一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法ZL 20124532.5并行光刻直写系统 2101179784用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头ZL2009102897.多视角图形输入的三维图形直写方法ZL2009128296.7一种彩色滤光片的制作方法与装置ZL 2008101237112一种周密数字化微纳米压印的方法L2000132387.6对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置ZL 206007797.8衍射光变图像的高速激光直写方法和系统L 20510977.受理发明专利17项。专利名称申请号一种导光膜制作装置PCCN2010/7973APPARATS F MANFACURI

27、G LIHT GIDE FIMUS15820一种紫外固化微纳米结构拼版装置及拼版工艺20310152954.X三维激光打印方法与系统20131041.分束器件、多光束干涉光路系统201323423.纳米图形化衬底制备装置与方法20110236124.5一种标签签注方法与系统03129100.连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统PCT/CN2013/08883超薄触控传感器及其制作方法2011007667.一种三维码及其制作方法20141403一种激光直写系统与光刻方法2014100421119一种变色烫印膜及其制造方法201410688.X掩膜版及其制备方法和图形化方法14022472

28、.8彩色动态图的激光打印装置及方法4104.2一种无掩膜激光直写叠加曝光方法201461284.6一种多视角像素指向型背光模组及裸眼3D显示装置20141085242.基于大面积多台阶二元光学元件的激光直写方法201510012577软件著作权项:登记号软件名称01SR3719基于XF的并行激光直写加工图形处理软件V1.211SR17基于Diect的空间光调制器图形发生软件1.0011SR0165苏大维格频闪曝光直写系统20R017923HloMakerI StemV10获奖清单如下:项目名称奖励名称获批时刻大幅面微纳图形制造技术及产业化应用国家科技进步二等奖01112卷对卷纳米压印关键技术及

29、应用江苏省科学技术进步一等奖20122面向微纳柔性制造的创新工程江苏省企业技术创新奖202.衍射光变图像高速制作方法与系统中国专利优秀奖010.1微光变图像的激光直写方法及装置中国专利优秀奖02.1宽幅智能激光SM光刻系统与应用江苏省科学技术进步一等奖208.5亚波长光学制造技术研究与应用教育部科学技术进步二等奖00.一种消色差变色银衍射图像的制作方法江苏省专利金奖2011.12微结构制造的高效光刻技术与应用教育部技术发明二等奖2009.(二）产学研合作情况“十二五”期间，在国家高技术研究(63打算）打算重大项目、国家自然基金重点项目的资助下,苏州苏大维格光电科技股份有限公司与相关业内企业和高

30、校协同合作，攻克了“微纳柔性制造工艺装备”、“3D成像纳米印刷技术”、“彩色全息显示的基础问题”方面关键基础问题和技术难题，取得国内外瞩目的重大成果，引起国内外同行的高度关注。第一，前瞻性重大技术创新取得突破。从原理上,现有的技术手段（如金刚石加工仅能加工柱光栅膜的模具）不能加工全息原理的裸眼D显示,必须突破纳米加工技术瓶颈。苏大维格在高端微纳装备及关键技术方面取得重大研究进展,在国际上领先实现“四独立变量微纳结构快速制造”、“大幅面微纳混合光刻”等新技术方法,研发成功“纳米级制造设备”，使得中国在“大幅面微纳结构制造”方面拥有了自主高端装备。先后获国家科技进步二等奖（201）、江苏省科技一等

31、奖(211）和中国专利奖(200)。因此,在纳米加工设施、知识产权方面,为本项建议任务提供关键手段支撑。第二，需求牵引的组织模式创新。通过运行机制的创新，纳米技术从实验室走向产业应用,形成上下游的创新链，协同产业和高校共同推进在纳米印刷(D图像印刷)、柔性电子(微结构透明导电膜）、平板显示(超薄导光板)的产业应用,并取得重大进展，培育了家上市公司(212年上市)和5家国家高新技术企业。从基础环节创新、整个过程的技术工艺创新,直至推进产业应用,探究了产业链创新的成功路径,为取得颠覆性重大目标产品提供了组织上经验。第三,以重大任务（目标产品）为目标的创新能力建设。苏大维格公司组建了“国家地点联合工

32、程研究中心”（数码激光成像显示)(国家发改委2011年批准),0平米研发场所,1万平米中试平台。在重大目标产品的取得突破，得到同行专家、领导和市场高度评价。华为科技、京东方科技、龙腾光电、苏大维格光电等一批企业具备合作推进裸眼D显示关键技术和部件研制的基础能力。 为今后以重大任务位目标的组织实施,提供了更好的创新平台和产业合作基础。第四、培养一支敢于承担风险和奉献、能承担重大任务的团队。通过协同合作和体制机制改革,培养了一支高素养的团队,团队成员以中青年成员为主,包括国家83打算重大项目首席专家,千人打算人才、海外特聘教授和国内杰出年轻人才构成的充满活力创新与创新混合的团队。在“裸眼3D显示的

33、基础问题”,“纳米结构D成像原理”、“纳米导光板研究”方面做了大量工作,敢于突破和自主创新。（三)已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限、依照不同的行业应用需求和加工的尺度不同，已完成四种类型样机的研发:（）、高速激光图形直写光刻装备应用样机：Graphe系列iGraph专门用于周密电路、光掩模（光罩MAS)、微纳结构无掩模光刻的“高端激光直写设备（UV lepattern generaor）。幅面：8英寸-英寸,应用9m-130m节点(022m-0.5光学分辨率）柔性电路和光掩膜板制备。iGaphe突破了一系列关键难题技术,实现了上述大幅面微图形高速直写功能，对光掩模文件、集成电路文件全兼

34、容。irapher采纳高速空间光调制器(patial ligtmodulaio）,阵列图形输入模式(可达k帧）， 3导航飞行曝光(3 avgtion fiexposure)、纳秒时序平铺曝光（prallelsm、 nanosecn attrng)技术，专用于光掩模、柔性电子的微图形（线宽1um-10um）、LIGA工艺、微纳模具的高效光刻。(2)、多功能微图形光刻设备工程样机：icolbMicoLab0是一款适应微结构图形光刻的名副事实上的小型微加工实验室，系统操作方便在微纳结构功能器件、生物与微纳界面作用（微流控、基因芯片、探针）和光电子、微光学等研究中,icroLab是一种理想的、高性价比

35、的微加工手段。尤其适合于小尺寸周密掩膜、GH、微光学器件、光束整形、MEMS、衍射与折射光学阵列的研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscale lthogaphy，拖曳曝光(形状光阑积分曝光)l agging,图形化arllel paterning,3形貌等高级加工，比如,闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等,支持薄胶和厚胶工艺。支持DXF,GDSI，位图文件。只要有差不多计算机背景和图像知识,适当培训后，就能够上机操作。支持24小时不间断运行，运行成本低，占地平方米,差不多免维护。适合于科学研究、研究生培养之用途。(3)、大幅面微纳金属模具激光加工设备工程样机:igae

36、r大幅面激光周密微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。可实现幅面150寸。大尺寸周密导光板的模具光学性能为业内做好水平，周密模具加工设备与工艺成熟度得到充分验证，加工的超薄导光板的光学效率、导光均齐度为业内最高水准。性能参数：最小微结构尺寸15激光光源:HYPERLINK N:整理后mailt:10kH0W3kHz0机台：花岗石机台光学头单次扫描面积：0mm10mm 15mxm加工速率：-小时（不同模具尺寸和光学网点）运动平台:直线电机驱动定位精度：0.1m行程：依照型号确定软件:光学设计文档格式,或*.DXF；RR配套:整套网点设计和处理工艺(4）、激光动态图形签注系统实现了不需要位移

37、和旋转的3D动态图形的实时签注方法和关键技术。采纳曲面扩散片实现3D动态图像签注的景深变化，实现签注的动态聚焦，同时设计不同棱角位置与棱角锲角,通过软件操纵记录图形的位置，分不对应在相应锲形棱镜位置，一次性签注将能获得不同再现视角的角度与方向的效果。签注效率高,适合工程化应用。能够同时满足变景深、多视角签注的要求,提高了签注图形技术门槛。图形签注仅需5秒至1秒，能满足激光签注的工程化应用。在工业化应用方面,可应用在银行卡、护照、等证卡的个性化序列号和动态图形的签注,号牌激光安全防伪签注,食品安全三维码溯源签注技术等公共安全领域上。、完成场地建设：2000平方米场地。（1)、机械部件装配间（2）

38、、电气部件装配间(3）、总装调试间（)、部件、材料、成品仓库(5）、职员培训室（6)、生产调度室鉴定年限:本项目的鉴定年限为207年3 月。（四）技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势技术特点：（1)攻克了空间-位相调制的图形化技术,微米-纳米混合光场调制,从而能实现/4结构分辨率的国际领先水平(在355波长下，实现100nm结构)；()纳秒时序3D导航飞行曝光，实现大面积微纳米结构的快速光刻，定位精度达到20n;（3)海量数据处理和直写软件与硬件技术；支持40TB的数据处理。（4）46轴的纳米精度操纵技术;()微纳功能材料加工的工艺:力图在国际上领先实现3D纳米印刷技术,为柔性材

39、料功能化提供关键技术手段。在应用工艺上，重点攻克在显示、新型照明和触控传感材料低成本制造技术,推进行业合作和潜在重大应用，与相关产业（例如华为）共同研发攻关“微纳米结构手机功能”光刻工艺研究。技术先进性优势：、微纳直写光刻与加工设备，综合了微纳光学、周密机械、数控电气、纳米精度操纵，利用计算机或工作站进行-轴的光机电联合操纵,高端技术的集成度高，设备自动化化运行,属于高端智能装备。、该类加工装备，加工宏观尺寸达到米级,微结构的尺寸达到亚微米级,部件运行精度、数据分辨率定义,均需达到10纳米以下级不，实现大幅面、微结构、高精度特征的统一。3、海量数据：以0.1微米分辨率电路为例，20mm00m的

40、电路的数据量为4.0B， 一幅600m100电路数据达0b，因此,这种周密电路图形的海量处理技术和软件、数据传输与压缩、光电转换和光刻模式等,具有极高难度。、微纳直写光刻与加工设备，是多行业生产工艺流程中的关键核心装备，用于提供光掩模板、微米线宽电路制备与模板、或进行直接图形结构加工,比如超薄导光板模具，是微纳功能材料（裸眼D显示、柔性电路、触控）、器件（背光源等）等行业不可缺少的工具。工艺优势:本项目申请单位，长期从事微纳制造领域的研发创新和产业化，尤其在超周密大幅面光刻直写等装备制造方面具有10余年的工艺积存，公司是我国唯一个有整套微纳米柔性制造产线的企业,具有国际领先水平。国内外同行和专

41、家参观后给予充分欣赏和确信，为此，公司曾承担了国家863打算和电子进展基金等项目，并圆满完成。在微纳周密制造领域,项目申请单位无疑在国内同行中具有领先地位,并在国外同行中具有阻碍。工艺设备上:申请单位是我国唯一的具有独立研制“高端激光直写光刻与纳米压印设备”企业，厚胶曝光设备(800mx130mm），拥有自主研发的“大型紫外激光直写设备”（irher82-150,0mmx130mm)，支持5.5代线光掩模板的制备，在光刻分辨率、和综合写入速率等,具有国际同行的先进水准。图4 高端装备实验场地国内产业环境的进展,对高端微纳装备具有大量的需求；与国外企业相比，在技术沟通、服务响应能力方面具有优势;

42、国内还缺乏微纳装备企业，维格公司掌握了核心技术，拥有人才团队,依托于“国家地点联合工程研究中心”,维格公司具有高端装备产业化的优势。图5国家地点联合工程中心配套生产条件（五）重大关键技术突破对行业技术进步的重要意义和作用我国的信息显示、光电子等行业已有专门大的产业基础,江苏省纳米产业在全国具有优势地位。“十二五”期间，江苏省大力进展战略新兴产业，重点进展新能源、新材料、高端制造、生物技术和新医药、节能环保和新一代信息技术等六大新兴产业。在这些产业中,新型显示、固体照明、纳米印刷与柔性光电子等是国家中长期科技进展规划、江苏省科技规划中的重点进展领域，与“柔性微纳材料与制造技术”紧密相关。苏州工业

43、园区布局了国际科技园、苏州纳米城等载体,提供了孵化等系列服务，是苏州纳米技术产业化基地。苏州纳米城将占地约10公顷,规划建筑面积约30万平方米，于200年1月启动建设，重点进展纳米新材料、纳米光电子、微纳制造、纳米生物医药和纳米环保等五大产业领域,以构建产业生态圈。苏大维格在高端微纳装备上的自主研发能力,无疑提高了自身的竞争优势和可持续进展性，差不多不依靠于国外的设备限制。为此，国家、省部相关领导和业内专家多次视察和调研本项目申请单位的高端装备和平板显示关键器件的研发和产业化进展和做法。国家发改委副主任朱之鑫、工信部副部长苏波、科技部副部长曹健林等重要领导视察后,均给予充分确信和鼓舞。 国家发

44、改委的祁司长等领导视察,对申请单位在高端微纳光刻设备和平板显示领域研发创新和产业化给予确信。工信部苏波部长考察苏大维格人大副委员长视察苏大维格并题词 科技部曹健林副部长视察维格公司图6 领导确信四、项目建设方案项目建设的要紧内容、建设规模、采纳的工艺路线与技术特点、设备选型及要紧技术经济指标、产品市场预测、建设地点、建设周期和进度安排、建设期治理等。(一）建设的要紧内容、建设规模面向平板显示和大尺寸电容触控屏、周密柔性电路、周密PCB及封装、MEMS、公共安全、科研等不同行业应用，用3年时刻建设达产业化时期,开发出相对应的、具有国际先进水平及满足工厂产业需求的微纳加工装备，完成四种型号设备的研

45、发及产业化：1、大幅面掩模版制版光刻设备:大型紫外高速图形化直写设备,用于5英寸以上平板显示、大尺寸电容触控屏生产用掩模版制备。要紧技术指标:典型线宽um,图形化光刻速度4000m2/。2、MEM、封装光刻机:中小型紫外图形化直写设备，用于68英寸MEM、封装等工艺制程,可适用于厚胶工艺。可用于科研院所的器件工艺研究和小批量制备。要紧技术指标：典型线宽1um,周密图形的光刻速度50mm/in，可适用厚胶光刻工艺大于1um。3、周密柔性电路、PC无掩模光刻机：高速无掩模曝光机，用于下一代0um以下周密电路生产。要紧技术指标：最小线宽5um，光刻速度大于20000m/in。、背光模具光刻机:大幅面

46、激光周密微加工设备，用于超薄V背光源金属模具制备。要紧技术指标：导光结构最小尺寸um，加工幅面大于70英寸。建设期内新增场地建设2000平米，累计完成销售1.2亿元,利润64万元，税收1165万元。项目建设完成后,形成年销售规模大于亿元的高端微纳光刻直写装备制造和销售能力,同时带动下游相关应用行业,产生10亿左右的经济效益。基于公司在高端智能装备研发和应用的技术积存，整合资源,合理利用自有和外部资金、人才资源,建立高端成套微纳光刻装备的研发、产业化、销售、服务条件,面向国际市场，扩充面向多领域的产品线，建设国际一流的综合性微纳装备公司，与德国Heieberg nsruments、瑞典conic

47、、以色列Orbotc等进行市场竞争，成为国际微纳装备领域的重要供应商。（二）工艺技术路线与技术工艺特点1、设备制造工艺路线：总体方案设计光、机、电分解设计设计综合评审图纸加工采购设备组装编程调试测试检验交付。、技术工艺特点:技术和知识密集型工艺。无化学试剂、无排放、无污染。低能耗。场地占用面积小。(三)设备选型及要紧技术经济指标1、检测设备选型（1)共焦显微镜:型号：奥林巴斯OLS410要紧技术指标：最高横向分辨率0.12m、纵向分辨率nm。(2)激光干涉仪型号：雷尼绍XL80要紧技术指标：线性测量精度0.5pp、分辨率1nm。(3)激光功率计型号：VegaA30A要紧技术指标：103w/20

48、mw-0w（4)自动图形检测仪型号:I712要紧技术指标:检测分辨率0.m;检测速度0.19 sc/ cm2。（）扫描电镜型号：Sigma/V要紧技术指标:分辨率.3n 2V、1515K、 2.8nm KV。2、技术经济指标（依旧要补充一下技术指标）：(）技术指标：1、大幅面掩模版制版光刻设备:要紧技术指标:典型线宽2,图形化光刻速度4000m2min。、MEM、封装光刻机:要紧技术指标：典型线宽1u,周密图形的光刻速度50mm2/min,可适用厚胶光刻工艺大于10um。3、周密柔性电路、CB无掩模光刻机：要紧技术指标：最小线宽um，光刻速度大于2000m2n。4、背光模具光刻机：要紧技术指标

49、:导光结构最小尺寸5um,加工幅面大于70英寸。（2)经济指标项目面向不同行业市场需求,完成四种型号的高端微纳制造装备的研发和产业化，执行期内累计完成销售额125亿元，净利润，665万元，税收15万元。(四）产品市场预测国内市场：（1）高校科研院所和研究结构，各大测试加工平台。目前差不多成功推广的代表性客户有哈工大、南开大学、苏州大学、中科院纳米所、上海通用识不研究所等。而近年来,随着各大高校和研究机构对微纳学科加大投入，本项目将有更大的应用市场替代国外进口设备。（2）企业:由于目前国内的企业升级转型自身的进展需求，也在研发与测试仪器上加大了投入,同时,企业端的客户认证需要,对产品本身的测试要

50、求提升。例如，在平板显示行业，需要对各类材料的表面结构形貌的参数进行测量,在微加工行业,需要对加工的微结构的尺寸进行标定。据预测,仅国内就有数百台的市场需求。为此,本项目会依照客户对仪器设备的具体要求，开发不同类型的仪器。确保能够满足行业应用需求，替代进口。国外市场：由于前期本公司差不多开展了仪器设备产品开发工作,通过市场的反馈能够看出，由于各国都将微纳制造作为重点进展的领域,国外专门多高校、企业都对本公司现有的纳米图形化仪器表现出高度关注。目前,现有的仪器设备差不多出口日本、韩国、以色列的企业,作为研究工具。由于本公司在这方面领先的技术基础以及有力的价格竞争优势,国外市场也将作为今后本项目的

51、目标市场。项目目标产品采取部分型号市场推广，部分型号提供给合作公司新兴产业应用方向进行产品培育的模式。合作公司的光导膜、大尺寸电容触摸屏等产品，当前服务的企业大于0家。公司的技术积存和新品以及开发能力得到合作企业的好评和认可，并与业内一批企业形成长期紧密合作关系。图7 行业合作(五）建设地点、建设周期和进度安排、建设期治理等1、建设地点:建设地点位于苏州苏大维格光电科技股份有限公司新厂区(苏州工业园区新昌路6号)。公司在苏州工业园区拥有110亩建设用地。目前,建有4.万平米厂房。其中,本项目前期投入已建设了00平米厂房,拟增加面积200平米净化面积。其中,黄光净化区10平米、检测面积500平米

52、。 图8 项目已建设场地、建设工期和进度安排:项目完成期限:自项目下达之日起年内完成。进度安排:第一年,完成4套工程样机制造,二台为紫外高速图形直写光刻设备，另二台为532nm绿光，大功率微纳直接加工设备。以这些样机作为实验平台,用于设备应用开发的性能测试与验证、产品市场展示与应用,以及各个功能模块的研发。建立高水平专业销售团队,储备人才队伍。公司现有微纳光刻设备产品,本年度实现销售20万元。第二年,持续开拓新市场，开发面向-4个行业的微纳光刻设备。建立完整的设备销售、量产和服务团队，实现设备在周密柔性电路、大尺寸液晶面板背光源等行业应用,实现销售大于400万元。第三年,开拓TFT掩模版、ME

53、MS等行业,实现高端光刻设备的规模化量产，实现销售收入大约600万元。项目建设完成后，形成年销售规模大于1亿元的高端微纳光刻直写装备制造和销售能力,同时带动下游相关应用行业,产生10亿左右的经济效益。、建设期治理：公司已通过ISO 9001质量治理体系认证和IO141环境治理体系认证。产品涉及大尺寸触控屏、光掩模版、高端装备、国家公共安全证卡和包装印刷。公司地处中国-新加坡合作的苏州工业园区科教创新区，因此,公司对产品品质与原材料环保极其关注，有严格的质量保障和检测体系,购置了先进的检测仪器,建有净化车间和检测分析实验室，在原料、生产制程与过程管控等各个环节均建立了环保操纵程序。项目实施将严格

54、按照质量治理体系建立标准化工艺流程。建立项目责任人以及项目进展报告制度。关于项目工程建设严格执行“四制”,即法人责任制、工程监理制、项目招投标制、项目合同制。本项目的建设将按照公司现有质量及环保体系严格治理。五、项目投资项目总投资规模，资金来源及筹措方案、投资使用方案、贷款偿还打算。(一）项目总投资规模、资金来源、投资使用方案本项目总投资1000万元，前期已投入00万元企业自筹资金（包括基建和装配车间，部分样机设备紫外激光直写光刻设备、激光签注设备、扫描光刻设备等)。类不投资额（万元)设备10基础建设(厂房、配电、污水、道路、装修)727原材料2试制费940合计20新增投资800万元,为企业自

55、筹资金投入。申请专项经费补助00万元。类不金额(万元)建筑工程费(净化)110设备购置及试制费70其他工程和费用200铺底流淌资金5000合计800附:要紧设备购置清单万元序号设备名称设备型号拟引进国不单价台数总价1共焦显微镜lext4000 日本 751402激光干涉仪xl80 英国1002203激光功率计VA 以色列 204自动图形检测仪laser x0 日本 10110005扫描电镜zeis EiGMA 日本 3001300合计1160(二)资金筹措方案项目总投资10万元,前期企业自筹已投入2000万元。新增投资0万元,来源于公司自筹资金。申请专项经费补助2000万元。公司自筹资金来源于

56、公司自有资金和利润积存的再投入，公司股东会议一致通过该项出资方案。六、项目财务分析、经济分析及要紧指标内部收益率、投资利润率、投资回收期、贷款偿还期等指标的计算和评估，项目风险分析,经济效益和社会效益分析。（一)财务分析生产和销售预测: 单位：(万元)年度第一年第二年第三年第四年第五年合计年销售量（套)505085306销售单价(未税）50.00812515161014销售收入(未税）25006001,0015,007,50000生产成本1,52.02,92.4,07056882117.2主营业务税金及附加265341633期间费用1，0.012001000002007700其中：营业100102000治理15012001,00.00100010050财务0营业利润-457.0581.60,54.0,268204，363.008，25.0项目三年财务现金流量表: 万元项目第一年第二年第三年第四