非晶硅薄膜PECVD沉积装置_第1页
非晶硅薄膜PECVD沉积装置_第2页
非晶硅薄膜PECVD沉积装置_第3页
非晶硅薄膜PECVD沉积装置_第4页
非晶硅薄膜PECVD沉积装置_第5页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

1、非晶硅薄膜PECVD沉积装置（专有技术）参示指标1、设备外形2、装片腔体结构3、应用：非晶硅太阳能电池生产线主要用于生产大型光电玻璃模板，以普通玻璃为基底经过常压CVD制备氧化锡,PECVD制备各类非晶硅膜层，磁控溅射制备铝膜电极，中间利用激光对膜系进行刻槽，再经过检测和封装，完成大面积电池组件的制造过程，整个工艺流程不超过十道。比晶体硅电池制作工艺更简单，硅材料利用率提高了几十倍，制造成本大约只有晶体硅电池的1/3。4、非晶硅电池生产流程：整条生产线主要包括：玻璃磨边、玻璃清洗、玻璃钻孔、预热炉、冷却炉、老化炉、PECVD设备、PVD设备、激光刻膜设备、封装层压设备、电池I-V检测设备等。5

2、、设备形式： PECVD设备采用集装箱式装夹方式，可一次装夹生产48片单片规格6、装片规格： 1245mm×635mm7、设备极限真空度:可达到5×10-4Pa8、温度控制：设备采用PID温控，具有外部隔热保护9、等离子体：射频方式10、控制方式：采用计算机系统控制 11、 工艺气体：硅烷、磷烷、硼烷气、氢气、氩气、氮气 12、13、 设备详细参数：设备组成：真空室，真空系统，电极盒， 电极盒承载输送专用车，工件承载输送专用车，电极维修专用车，预热炉，冷却炉； 主要技术规格：被加工玻璃尺寸1245 x 635 mm 单次处理组件数量48；电极盒结构：两个磁极之间是

3、真空室。里面装有两个半圆形空盒状的金属电极，通称为“D形电极”。D形电极接在高频电源的输出端上，2个D形电极之间的空隙（加速间隙）有高频电场产生。粒子源安装在真空室中心的加速间隙中。D形电极内部没有高频电场，粒子进入D形电极之内就不再被加速，在恒定的主导磁场作用下做圆周运动。只要粒子回旋半圆的时间等于加速电压半周期的奇整数倍，就能够得到谐振加速。用一个表达式可以表示成： Tc=KTrt 式中Tc是粒子的回旋周期，Trt是加速电压的周期，K应该是奇整数；电极盒材料：100高强度航空铝材；电极盒制造：高精度大型加工中心；电极材料防变形工艺： 1）辉光放电(Glow Discharge)， 

4、;属于低气压放电(low pressure discharge)，工作压力一般都低于10mbar，其构造是在封闭的容器內放置两个平行的电极板，利用电子将中性原子和分子激发，当粒子由激发态(excited state)降回至基态(ground state)时会以光的形式释放出能量。电源可以为直流电源也可以是交流电源。2）电晕放电(Corona Discharge)：辉光放电只能在低气压下工作，而电晕放电可以在大气压下工作，但需要足够高的电压以增加电晕部位的电场；高温高真空获取泵：涡轮分子泵，本底真空：103 pa,工艺真空获取泵：英制工艺无油泵，工艺压力控制：美制碟阀与压力传感器，工件加温制式：防污染红外线外加热，温度控制：美制测温元件与日温控器，温度工件温度250

人人文库> 全部分类> 教育资料 > 辅导培训

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论