YW-220氨性蚀铜助剂

1、YW220碱性蚀铜添加剂使用说明*、背景：传统意义上，市场上碱性蚀铜盐一般都添加含硫物质，含有含硫物质的碱性蚀铜盐所配制的蚀刻液对抗蚀膜（如镀金、镍层等）要求高，蚀刻条件要求苛刻，使用量较大，蚀速慢，容易造成镀金层变色，后处理要求严格等缺点。*、突破：盈旺公司是一家销售专用试剂,金属清洗剂的专业化公司，经过多年探索、试验，研究出碱性蚀刻的换代产品YW220碱性添加剂（以下简称YW220），YW220具有以下优点：a) 蚀刻速度快、稳定，正常使用蚀刻速率可达2.55.0mil/min。b) 适用性广，可用在多类型阻挡层，如金、镍、锡、铅锡合金及油墨，液体成像阻挡层干膜成像等。c) 蚀铜多，母液比

2、重可达2629波美度，含铜达140180g/L。d) 侧蚀小，含多种有效成份，最大限度减少侧蚀。e) 后处理冲洗简单，减少因清洗不净而导致线路通路，绿油起泡等现象。f) 单液（子液），稳定性好，不易结晶，不易沉淀。g) 母液易回收，可配合电解回收机使用,实现蚀刻废液的循环再用。h) 低（无）硫配方，减少镀金板子的变色。*、性状：YW220为白色结晶 *、包装：10kg/包装(可根据客户要求定包装)*、用量：5.0吨子液/包装(可根据客户要求定包装)*、蚀刻子液配制方法1(以配制1000L蚀刻液计)：1. 氯化铵（NH4CL）： 225kg-275kg2. 碳酸氢铵： 20kg-25kg3. 氨

3、 水（20）： 400425kg4. 水 ： 约300kg5. CH220： 2kg(或根据包装说明) 操作：1. 把计算量的水预先预热至7090，并加入搅拌缸。2. 加入计算量氯化铵及碳铵。3. 搅拌约20分钟（如水温较高，可减少搅拌时间）。4. 按次序分别加入计算量的CH220,氨水。YW-220氨性蚀铜助剂第1页共9页5. 搅拌至所有盐溶解。6. 取样分析,根据分析结果用水或氨水加至标准液位。7. 过滤溶液，抽入储存缸。方法2(以配制1000L药液计) 氯化铵: 225275kg 碳酸氢铵: 20-25 kg 氨水(11.70%): 825L-850L CH220: 2.0kg(或与供应

4、商协定)操作:1. 把氨水(20%)用水稀释成11.7%(11.7%氨水比重为0.9560)2. 往搅拌缸中加入氯化铵及碳酸氢铵及CH2203. 往搅拌缸中加入计算量11.70%的氨水。4. 搅拌至所有盐溶解 。 5. 过滤,泵入储存缸 。 备注:搅拌缸底部设计成漏斗形,并装有放水阀。*、分析特征：1. 比 重： 1.05.0波美度。2. 碱含量： 6.06.5N/L。3. 氯离子： 160g/L180g/L。4. 碱（N/L）/盐离子（氯化铵+碳铵*2）=（1.051.1）/1 单位：换算为N/L。*、CH220配制的蚀铜液操作状况：1. 温 度： 4555。 YW-220氨性蚀铜助剂第2页

5、共9页2. PH值： 8.09.0。3. 比 重： 2428波美度。4. 铜含量 130160 g/L。5. 氯含量： 160200 g/L。*、控制程序：人工控制：分析母液含铜量（或比重），如达150 g/L，则放去1020工作液，补充子液至最高液位，或比重达28波美度，放掉约1/4母液，加子液至最高液位。自动控制：将比重调至2428波美度。*、子液分析 见YW220溶液的分析部分。*、YW220储存：存放于阴凉通风处，禁太阳暴晒，严禁与酸性及氧化性杂质存放一起，正常储存可保证12个月有效期。*、附注：YW220高速蚀刻盐（液）的YW220溶液的分析。YW220母液的回收。蚀刻常见异常及处理

6、。YW220高速蚀刻盐（液）的分析：所需试剂：1. 氨水溶液2. 5铬酸钠 3. 2醋酸4. 0.1N硝酸银标准溶液5. MX指示剂6. 0.1MEDTA标准溶液氯含量分析:1. 取10mL YW220蚀刻液，置於250mL容量瓶中。2. 往容量瓶中加23mL氨水，用蒸馏水稀释至刻度。3. 从250mL容量瓶中吸取5mL溶液，放入250mL锥形瓶中。4. 加30mL蒸馏水。5. 加1mL5铬酸钠指示剂。6. 另加15 mL2醋酸，溶液变亮黄色。7. 用标准0.1N硝酸银溶液滴定至橙色。计算：氯含量（g /L）=17.75*(0.1N硝酸银溶液毫升数 铜含量分析：1. 取上述稀释YW220蚀铜液

7、10mL，放入250 mL锥形瓶中。2. 加50 mL蒸馏水。 YW-220氨性蚀铜助剂第3页共9页3. 加氨水数滴至清亮深蓝色。4. 加MX指示剂0.1克。5. 用标准0.1MEDTA溶液滴定至紫红色。a) 计算：铜含量（g /L）=（15.885）*(0.1MEDTA溶液毫升量)碱当量。药剂：HCL标准液，精密PH计（使用前经校验） 1. 取5 mL药液于250mL烧杯中，加约50mL蒸馏水2. 以精密PH计探头放入烧杯中。3. 缓慢滴入HCL标准液，同时不断摇动烧杯（同一旋转方向）至PH=5.65.7时止。4 纪录HCL读数F。5 计算：碱当量=盐酸的当量浓度*F。YW220型母液的回收

8、：原料：YW220型母液，简称为碱性母液。HCL或NH4CLHCL型蚀刻母液或HCLH2O型蚀刻母液，简称为酸性母液（要求不含钠离子）。原理：OH-+H+H2O。OH-来自碱性母液。H-来自酸性母液。操作：1. 分别分析碱性母液的OH-及酸性母液的H+含量。2. 以约1:1当量比例分别往缸中加入酸性母液及碱性母液。3. 搅拌均匀 （视情况加适量水） 4. 取样分析其酸碱度（精密PH计分析）*中和点PH值为5.65.7。5. 根据分析结果，以酸性（碱性）母液作微调。6. 重复35操作至中和PH值在5.65.7间。7. 静置，沉淀约56小时以上（离心分离效果更好）。8. 上层清液抽入储存缸。9.

9、把下层沉浆送过滤。 YW-220氨性蚀铜助剂第4页共9页10. 滤渣打包装（袋）待出售，滤液送往储存缸。11. 储存缸中液体经分析其氯离子含量，计算含氯化铵量：氯化铵量（g /L）=1.5*氯离子含量（g /L）氯化铵量（kg）=1.5*氯离子含量（g /L）*回收液用量（L）1000备注：蚀刻液成本核算氯化铵： 2501.0=250碳 铵： 251.0=25氨 水： 4250.6=255添加剂： 100 合 计： 625/t每kg蚀刻液可蚀刻约1m2，约0.60.7/ m2，回收铜泥滤渣的价格蚀刻液的成本，故回收母液中铜的话，该蚀刻工艺可做到成本为零。蚀刻常见异常状况及处理YW220配制的蚀

10、刻液较市场上常见的蚀刻盐配制的蚀刻盐稳定，但由于机器操作、工人经验等方面的原因，在适应厂家的用法上难免会出现一段磨合过程,难免会出现一样异常现象,但仍有规律可寻，主要我们对以下几个方面加以注意，可减少异常现象：1. 加强为待蚀刻板子的检验，对油墨附着力是否硬化，有无渗油，丝印质量板材是否变形等有害蚀刻的因素检验仔细清楚。2. 加强为蚀刻机的日常维护，开机前检查喷嘴是否正常，喷压是否正常，输送及摇摆是否正常等。3. 蚀刻过程对工艺参数进行监控，如温度、压力、母液比重等。4. 加强对后处理段的监控，对循环水，擦棍等进行维护与检修。5. 使用专用脱墨剂脱除油墨常见异常现象及处理，6. a .压力下降

11、，蚀速下降： 原 因：过滤网或泵堵塞。 处 理：清洗过滤网或泵。 b.压力不变，比重不变，蚀速下降：原因1：喷嘴脱落。处 理：停机把喷嘴维修后再开机原因2：冷却（保温）系统失灵。处 理：维修保温系统。c.残铜：原因1：蚀速过快。处 理：放慢蚀速。原因2：温度过低。处 理：升高温度。原因3：含铜量（比重）低。处 理：降低蚀速，少加子液，至比重至标准值后调节蚀速。原因4：含铜量（比重）高。 处 理：多加子液，同时注意调节蚀速，至比重为标准值时调节控制器及蚀速。d.过蚀： YW-220氨性蚀铜助剂第5页共9页原因1：蚀速过慢。处 理：调快蚀刻速度，或降低蚀刻温度。原因2：母液比重过低。处 理：少添加

12、子液，找含铜废料浸泡，至达标准比重后蚀刻。e.药液出现沉淀：原因1：意外进水。处 理：更换原合格母液。原因2：控制器失灵至母液比重过高。处 理：排掉部分母液，加子液适量，空转至沉淀少至3cm时止，同时调校好比重控制器。f.蚀刻出现掉油墨现象：原因1：油墨附着力差或未干。处 理：待油墨干透（硬化）后蚀刻，如油墨附着力太差则考虑更换油墨。原因2：比重过低导至PH过高。处 理：调节母液比重至正常值。原因3：压力过高。处 理：降低蚀刻喷压。添加剂使用量为蚀刻400-500平方米/1.0公斤添加剂（1安士单面板计）.电解法回收: 使用隔膜电解法,并适量补充氯化铵为佳,电解后蚀刻液含铜在70100g/L为

13、佳,定期分析母液的铜离子,氯离子,碳酸离子及碱含量,并适量补充氯化铵,氨水,碳铵及添加剂。 YW220碱性添加剂溶解：加5倍氨水搅拌溶解l 添加原则：小量勤加l 计算 YW220碱性添加剂用量（公斤）=40公斤/1000公斤电解铜l 最佳添加量（每次）：30-50公斤电解铜 ， 按比例计算YW220用量l 本添加剂可用于氨水-铵盐蚀刻铜-电积铜系统本添加剂可用于氨水-铵盐蚀刻铜-萃铜-电积铜系统氨性蚀铜盐的配制原料：氯化铵，碳酸氢铵，CH-220氨性蚀铜助剂。配比（每包成品25公斤或28公斤）： YW-220氨性蚀铜助剂第6页共9页氯化铵（工业级或农用级） 22.5-25KG碳酸氢铵（工业级或

14、农用级） 2.25-2.5KG氯化铵/碳酸氢铵10/1（质量比）CH-220氨性蚀铜助剂操作：1.称取计算量的碳酸氢铵及CH-220氨性蚀铜助剂，混合均匀。2.称取计算量的氯化铵加入混合缸中，混合均匀。3.出料，包装氨性蚀刻盐的成分及其作用氯化铵，铜离子的络合剂，与氨水按一定量配比后形成缓冲溶液及铜离子稳定剂，可使铜离子稳定存在于水溶液中，是蚀刻液的主要成份。蚀刻液中的氯离子应维持在一定范围（约5.055mol/L）。碳酸氢铵：PH值稳定剂，与氨水组成缓冲溶液，在一定范围内维持溶液PH值，从而保证蚀刻质量。CH-220氨性蚀刻助剂：能加快蚀刻速度，保证蚀刻质量。在普通氨性蚀铜液中加入适量的CH

15、-220，可使蚀刻速度增加50%-300%，并使蚀铜量增加10-50%。说明：CH-220的添加量需在合理范围，含量低效果不明显，含量达到某一数值后再增加用量效果增速下降。氨性蚀铜助剂在铜氨液再生系统中的应用。氨性含铜液回收铜并再生蚀刻液的方法有3种：1.酸氨中和调节法2.萃取电积法 YW-220氨性蚀铜助剂第7页共9页3.隔膜电解法酸碱（氨）中和法使用酸性含铜液和氨性含铜液中和到一定PH(5.655.75)值，使铜变为铜泥（碱式或酸式氯化铜沉淀），从而得到含氯化铵溶液作为原料的一种方法。详见前页介绍。萃取电积法使用铜萃取剂从铜氨液萃取铜，经洗涤后，再用含酸较重的稀硫酸铜从萃取剂中反萃铜，形成

16、高铜硫酸液，含铜较高的硫酸液去电积槽电积提铜。萃取电积法历史悠久，工艺稳定，是提铜的较好方法。但对于氨铜液来说，萃取剂会残留于铜氨液中，用强氧化剂方式也许会去除部分萃取剂（萃取剂的存在明显减低蚀刻速度）。强氧化剂（双氧水）的残留会导致氨性蚀铜助剂变质，因而此方法添加助剂只能使用在线补充的方法。隔膜电解（积）法使含铜较高的氨铜液在含离子隔膜的电解槽中电积提取铜，从原理（理论）上说，此方法最好，能耗较低，能一次性得到价值较高的金属铜。但此方法阴极电积铜板不能厚，需经常换阴极。优点：1.可直接得到金属铜. 2.有效成份损耗小。缺点：1.电提取铜设备造价较高（此萃取法低）2.电积时阴极板不能电较厚铜。 YW-220氨性蚀铜助剂第8页共9页 展望：世界的发展，社会的进步，环保，循环经济为潮流，隔膜电解（积）法为最有竞争力的处理工艺，当高效的电积槽，专用添加剂出现后，隔膜电积法综合成本及效能较好。专业于退锡（镀）工艺及添加剂，浸取-电解法回收金属工艺及添加剂。*内文章可见QQ1353269619或2559326069的日志或百度文库。