单面板工艺流程培训讲学

1、*单面板工艺流程开料磨边-钻孔-外层图形-（全板镀金）-蚀刻-检验-丝印阻焊-（热风整平）一丝印字符一外形加工一测试一检 验*双面板喷锡板工艺流程开料磨边-钻孔-沉铜加厚-外层图形-镀锡、蚀刻退锡 -二次钻孔-检验-丝印阻焊-镀金插头-热风整平-丝印字 符-外形加工 -测试-检验*双面板镀镍金工艺流程开料磨边-钻孔-沉铜加厚-外层图形-镀镍、金去膜蚀刻 -二次钻孔-检验-丝印阻焊-丝印字符-外形加工-测试 - 检验*多层板喷锡板工艺流程开料磨边-钻定位孔-内层图形-内层蚀刻-检验-黑化-层压-钻孔-沉铜加厚-外层图形-镀锡、蚀刻退锡-二次 钻孔-检验-丝印阻焊-镀金插头-热风整平-丝印字符-外

2、形加工-测试-检验*多层板镀镍金工艺流程开料磨边-钻定位孔-内层图形-内层蚀刻-检验-黑化-层压-钻孔-沉铜加厚-外层图形-镀金、去膜蚀刻 -二次 钻孔-检验-丝印阻焊-丝印字符-外形加工-测试-检验*多层板沉镍金板工艺流程开料磨边-钻定位孔-内层图形-内层蚀刻-检验-黑化-层压-钻孔-沉铜加厚-外层图形-镀锡、蚀刻退锡-二次 钻孔-检验-丝印阻焊-化学沉镍金-丝印字符-外形加工-测试-检验一、工艺简介沉金工艺之目的的是在印制线路表面上沉积颜色稳定，光亮度好，镀层平整，可焊性良好的镍金镀层。基本可分为四个 阶段：前处理(除油，微蚀，活化、后浸) ，沉镍，沉金，后处理(废金水洗， DI 水洗，烘

3、干)。二、前处理沉金前处理一般有以下几个步骤：除油( 30%AD-482 )，微蚀( 60g/InaPS,2%H2SO4 ),活化( 10%Act-354-2 )，后浸 (1%H2S04 )。以除去铜面氧化物，并在铜面沉钯，以作沉镍活化中心。其中某个环节处理不好，将会影响随后的沉镍 和沉金，并导致批量性的报废。生产过程中，各种药水必须定期分析和补加，控制在要求范围内。较重要的比如：微蚀速率应控制在“25U40U,活化药水铜含量大于800PPM时必须开新缸，药水缸的清洁保养对联PCB的品质影响也较 大，除油缸，微蚀缸，后浸缸应每周换缸，各水洗缸也应每周清洗。三、沉镍沉镍药水的主要成分为 Ni2+

4、(5.1-5.8g/1) 和还原剂次磷酸钠( 25-30g/1 )以及稳定剂，由于化学镍对药水成分范围要求比 较严格，在生产过程中必须每班分析化验两次，并依生产板的裸铜面积或经验补加Ni2还原剂，补加料时，应遵循少量，分散多次补料的原则，以防止局部镀液反应剧烈，导致镀液加速老化， PH 值，镀液温度对镍厚影响比较 大，镍药水温度抄袭控制在85 C -90 C。PH在5.3-5.7,镍缸 不生产时，应将镍缸温度降低至 70 C左右，以减缓镀液老 化，化学镍镀液对杂质比较敏感，很多化学成分对化学镍有害，可分为以下几类：抑制剂：包括Pb.Sn.Hg.Ti.Bi( 低熔点的重金属 )，有机杂质包括S2

5、,硝酸及阴离子润湿剂。所有这些物质都会降低活性，导致化学镀速度降低并漏镀，严惩时，会导致化 学镀镍工艺完全停止。有机杂质：包括：除以上所提到的有机的稳定剂以外，还有塑料剂以及来自于设备和焊锡的杂质。尽管可通过连续镀清 除一部分杂质，但不能完全清除。不稳定剂：包括 Pd 和少量的铜，这两种成分造在化学镍不稳定，使镀层粗糙，而且过多地镀在槽壁及加热器上。固体 杂质：包括硫酸钙或磷酸钙及其它不溶性物质沉入或带入溶液。过滤可清除固体颗粒。总之：在生产过程中要采取有效措施减少此类杂质混入镀液。四、沉金沉金过程是一种浸金工艺，沉金缸的主要成分； Au(1.5-3.5g/l), 结合剂为( Ec0.06-0

6、.16mol/L )，能在镍磷合金层上置换 出纯金镀怪，使得镀层平滑，结晶细致，镀液 PH 值一般在 4-5 之间，控制温度为 85C-90C。五、后处理沉金后处理也是一个重要环节，对印制线路板来说，一般包括：废金水洗， DI 水洗，烘干等步骤，有条件的话可以用水 平洗板积对沉金板进行进一步洗板，烘干。水平面洗板机可按药水洗(硫酸10%，双氧水 30g/L )，高压 DI 水洗(3050PSI )， DI 水洗，吹干，烘干顺序设置流程，以彻底除去印制线路板孔内及表面药水和水渍，而得到镀层均匀，光亮度好的沉金板。六、生产过程中的控制在沉镍金生产过程中经常出现的问题， 常常是镀液成分失衡， 添加剂

7、品质欠佳及镀液杂志含量超标， 防止和改善此问题， 对工艺控制起到很大的作用，现将生产过程中应注意的因素有以下几种：1）、化学镍金工艺流程中，因为有小孔，每一步之间的水洗是必需的，应特别注意。2）、微蚀剂与钯活化剂之间微蚀以后，铜容易褪色，严重时使钯镀层不均匀，从而导致镍层发生故障，如果线路板水洗不好，来自于微蚀的氧化剂 会阻止钯的沉积，结果影响沉金的效果，从而影响板的品质。3）、钯活化剂与化学镍之间钯在化学镍工艺中是最危险的杂质，极微量的钯都会使槽液自然分解。尽钯的浓度很低，但进入化学镀槽前也应好好水 洗，建议采用有空气搅拌的两道水洗。4）、化学镍与浸金之间在这两步之间，转移时间则容易使镍层钝

8、化，导致浸金不均匀及结合力差。这样容易造成甩金现锡。5）、浸金后 为保持可焊性及延展性，镀金后充分水洗（最后一道水洗最好用蒸馏水） ，并完全干燥，特别是完全干燥孔内。6）、沉镍缸 PH ，温度沉镍缸要升高PH,用小于50%氨水调节，降低PH，用10%V/V硫酸调节。所有添加都要慢慢注入，连续搅拌。 PH值 测量应在充分搅拌时进行，以确保均衡的镀液浓度。温度越高，镀速越快。当镀厚层时，低温用来减慢针出现。不操作 时，不要把温度保持在操作温度，这会导致还原剂和稳定剂成分分解见下表：故障 1 ：漏镀：在线路板边缘化学镍薄或没有镀上化学镍原因：1.1 重金属的污染 .1 .2稳定剂过量 1 .3搅拌太

9、激烈 1.4 铜活化不恰当改善方法： 1.1 减少杂质来源 1.2 检查维护方法 ,必要时进行改善 1.3 均匀搅拌 ,检查泵的出口 1.4 检查活化工艺故障 2：搭桥：在线之间也镀上化学镍原因：2.1 用钯活化剂活化时间太长 2.2活化剂里钯浓度太高 .2.3活化剂里盐酸浓度太低 2.4化学镍太活泼 2.5铜与线之 间没有完全被微蚀 2.6 水洗不充分改善方法： 2.1 缩短活化时间 2.2 稀释活化剂 ,调节盐酸浓度 2.3 调节盐酸浓度 2.4 调节操作条件 .2.5 改善微蚀 ,微蚀时间 稍长会更有利故障 3： 3、金太薄原因： 3.1 浸金的温度太低 .3.2 浸金的时间太短 .3.

10、3 金的 PH 值超过范围改善方法： 3.1 检查后加以改善 3.2 延长浸金时间 3.3 检查后加以改善故障 4：4、线路板变形原因： 4.1 化学镍或浸金的温度太高 .改善方法： 4.1 降低温度 .故障 5： 5、可焊性差原因：5.1 金的厚度不正确 5.2 化学镍或浸金工艺带来的杂质 5.3 工艺本身没有错误 5.4 线路板存放不恰当 5.5 最后一道 水洗的效果不好 .改善方法：5.1 金的最佳厚度是 :0.050.1UM5.2 参看 1.15.3 来自于设备和操作者的原因 5.4 线路板应存放在干燥凉爽的 地方 ,最好放于密闭的塑料袋里 5.5 更换水 ,增加水流速度故障 6： 6

11、、金层不均原因： 6.1转移时间太长 .6.2镀液老化或受污染 .6.3金浓度太低.6.4浸金工艺中 ,来自于设备的有机杂质改善方法：6.1 优化水洗并缩短转移时间 .6.2 化学镍重新开始 6.3 检查后加以改善 ,检查槽及过滤器 ,原材料是否合适 ,并应 在使用前滤洗 ,简单碳处理恢复浸金工艺 , 首先进行试验故障 7：7、铜上面镍的结合力差原因： 7.1微蚀不充分 7.2活化时间太长 .7.3活化时间太高 .7.4水洗不充分改善方法： 7.1延长微蚀时间或提高温度 .7.2减少活化时间.7.3降低温度 7.4优化水洗条件故障 8： 8、金层外观灰暗原因： 8.1 镍层灰暗 8.2 金太厚

12、改善方法： 8.1 缩短微蚀时间性或降低温度 8.2 降低浸金温度缩短浸金时间故障 9：9、镀层粗糙原因： 9.1 化学镍溶液不稳定 9.2 化学镍溶液中有固体颗粒 改善方法： 9.1 调节温度 9.2 减少杂质来源 ,改善过滤故障 10： 10、微蚀不均匀原因：10.1清洗不充分10.2清洗剂老化或含有杂质10.3微蚀液老化（大于30G/L）10.4过腐蚀改善方法： 10.1 增加在清洗剂里的时间或添加清洗剂 .10.2更换清洗剂.10.3更换,微蚀10.4缩短腐蚀时间七、问题与改善 现将一些较典型沉金问题成因及解决方法列入上表1，以供参考：八、注意事项：在沉金的过程中，员工操作时应注意安全

13、，穿戴好防护服，防护镜，而且必须采用通风设备，于泄露液，应用抹布，毛 巾或其它吸水性材料吸收泄露液，置于衬塑料的容器中，以回收金，将溶液存放于衬塑料的桶中以回收金。结论印制线路板沉金品质问题，应考虑整个沉金工艺的控制，包括沉前表面处理，沉镍，沉金，及沉金后处理。在沉金工序 中，应讨论沉金量，沉金液，添加剂配方，成分之素质等等，对生产工艺的要求越来越高，一些传统的工艺控制方法已 不能满足品质的要求，线路板公司应不断探索先进工艺，严格控制所有参数，加强管理才能不断改善产品品质。一 电镀工艺的分类：酸性光亮铜电镀、电镀镍 /金、电镀锡二 工艺流程：浸酸-全板电镀铜-图形转移-酸性除油-二级逆流漂洗-

14、微蚀-二级逆流漂洗-浸酸-镀锡-二级逆流漂洗一逆流 漂洗-浸酸-图形电镀铜-二级逆流漂洗-镀镍-二级水洗-浸柠檬酸-镀金-回收-2-3级纯水洗-烘干三 流程说明：（一）浸酸 作用与目的：除去板面氧化物，活化板面，一般浓度在 5%，有的保持在 10% 左右，主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定； 酸浸时间不宜太长，防止板面氧化；在使用一段时间后，酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换，防止污染电镀 铜缸和板件表面； 此处应使用 C.P 级硫酸；（二）全板电镀铜：又叫一次铜，板电， Panel-plating 作用与目的：保护刚刚沉积的薄薄的化学铜，防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉，通过电镀将其加后到

15、一定程度 全板电镀铜相关工艺参数：槽液主要成分有硫酸铜和硫酸，采用高酸低铜配方，保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力；硫酸含量多在 180 克/升，多者达到 240 克/升；硫酸铜含量一般在 75 克/ 升左右，另槽液中 添加有微量的氯离子，作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果；铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L ，铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果； 全板电镀的电流计算一般按 2 安/平方分米乘以板上可 电镀面积，对全板电来说，以即板长 dmK板宽dmK 2X2A/ DM2 ;铜缸温度维持在室温状态，一般温度不超过 32度，多 控制在 2

16、2 度，因此在夏季因温度太高，铜缸建议加装冷却温控系统； 工艺维护：每日根据千安小时来及时补充铜光剂，按 100-150ml/KAH 补充添加;检查过滤泵是否工作正常，有无漏气现象;每隔 2-3 小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜（1 次/周），硫酸（1 次/周），氯离子（2次/周）含量，并通过霍尔槽试验来调整光剂含量，并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆，槽体两端电接头，及时补充钛篮中的阳极铜球，用低电流 0。2?0。5ASD电解6?8小时；每月应检查阳极的钛篮袋有无破损，破损者应及 时更换;并检查阳极钛篮底部是否堆积有阳极泥，如有应及时清理干净;并用碳芯

17、连续过滤 6?8 小时，同时低电流电解 除杂；每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理（活性炭粉） ；每两周要更换过滤泵的滤芯； 大处理程序：A.取出阳极，将阳极倒出，清洗阳极表面阳极膜，然后放在包装铜阳极的桶内，用微蚀剂粗化铜角表面至均匀粉红色即可，水洗冲干后，装入钛篮内，方入酸槽内备用B.将阳极钛篮和阳极袋放入10%碱液浸泡6?8小时，水洗冲干，再用5%稀硫酸浸泡，水洗冲干后备用；C.将槽液转移到备用槽内，加入1-3ml/L的30%的双氧水，开始加 温，待温度加到 65 度左右打开空气搅拌，保温空气搅拌 2-4 小时； D. 关掉空气搅拌，按 3?5 克/升将活性碳粉缓慢溶解 到槽

18、液中，待溶解彻底后，打开空气搅拌，如此保温2?4小时；E.关掉空气搅拌，加温，让活性碳粉慢慢沉淀至槽底；F.待温度降至40度左右，用10um的PP滤芯加助滤粉过滤槽液至清洗干净的工作槽内，打开空气搅拌，放入阳极，挂 入电解板，按0。2-0。5ASD电流密度低电流电解6?8小时，G.经化验分析，调整槽中的硫酸，硫酸铜，氯离子含量至 正常操作范围内；根据霍尔槽试验结果补充光剂；H.待电解板板面颜色均匀后，即可停止电解，然后按 1-1。5ASD的电流密度进行电解生膜处理1-2小时，待阳极上生成一层均匀致密附着力良好的黑色磷膜即可；I.试镀OK.即可； 阳极铜球内含有 0。 3?0。 6%的磷，主要目

19、的是降低阳极溶解效率，减少铜粉的产生； 补充药品时，如添加量较大如硫酸铜，硫酸时；添加后应低电流电解一下；补加硫酸时应注意安全，补加量较大时（ 10 升以上）应分几次缓慢补加；否则会造成槽液温度过高，光剂分解加快，污染槽液； 氯离子的补加应特别注意，因为氯离子含量特别低（ 30-90ppm ） ,补加时一定要用量筒或量杯称量准确后方可添加； 1ml 盐酸含氯离子约 385ppm ， 药品添加计算公式：硫酸铜（单位：公斤）=（75-X）攜体积（升）/1000硫酸（单位：升）=（10%-X） g/L对槽体积（升）或（单位：升）=（180-X） g/L确体积（升）/1840盐酸（单位：ml） = （

20、60-X） ppmx槽体积（升）/385（三）酸性除油 目的与作用：除去线路铜面上的氧化物，油墨残膜余胶，保证一次铜与图形电镀铜或镍之间的结合力 记住此处使用酸性除油剂，为何不是用碱性除油剂且碱性除油剂除油效果较酸性除油剂更好？主要因为图形油墨不 耐碱，会损坏图形线路，故图形电镀前只能使用酸性除油剂。 生产时只需控制除油剂浓度和时间即可，除油剂浓度在 10% 左右，时间保证在 6 分钟，时间稍长不会有不良影响； 槽液使用更换也是按照15平米/升工作液，补充添加按照100平米0。5?0。8L;（四）微蚀： 目的与作用：清洁粗化线路铜面，确保图形电镀铜与一次铜之间的结合力 微蚀剂多采用过硫酸钠，粗

21、化速率稳定均匀，水洗性较好，过硫酸钠浓度一般控制在 60 克/升左右，时间控制在 20 秒左右，药品添加按 100 平米 3-4 公斤；铜含量控制在 20 克/升以下；其他维护换缸均同沉铜微蚀。（五）浸酸 作用与目的：除去板面氧化物，活化板面，一般浓度在 5% ，有的保持在 10%左右，主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定； 酸浸时间不宜太长，防止板面氧化；在使用一段时间后，酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换，防止污染电镀铜 缸和板件表面； 此处应使用 C.P 级硫酸；（六）图形电镀铜：又叫二次铜，线路镀铜 目的与作用 :为满足各线路额定的电流负载，各线路和孔铜铜后需要达到一定的厚度，线

22、路镀铜的目的及时将孔铜和 线路铜加厚到一定的厚度； 其它项目均同全板电镀（七）电镀锡 目的与作用 :图形电镀纯锡目的主要使用纯锡单纯作为金属抗蚀层，保护线路蚀刻； 槽液主要由硫酸亚锡，硫酸和添加剂组成；硫酸亚锡含量控制在 35 克/升左右，硫酸控制在 10%左右；镀锡添加剂 的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果；电镀锡的电流计算一般按 1。 5安/平方分米乘以板上 可电镀面积；锡缸温度维持在室温状态，一般温度不超过 30 度，多控制在 22 度，因此在夏季因温度太高，锡缸建议加 装冷却温控系统； 工艺维护：每日根据千安小时来及时补充镀锡添加剂剂；检查过滤泵是否工作正常，有无

23、漏气现象；每个2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净；每周要定期分析锡缸硫酸亚锡（1 次/周），硫酸（1 次/周），并通过霍尔槽试验来调整镀锡添加剂含量，并及时补充相关原料；每周要清洗阳极导电杆，槽体两端电接头；每周用低电流0。2?0 o5ASD 电解 6?8 小时；每月应检查阳极袋有无破损，破损者应及时更换；并检查阳极袋底部是否堆积有阳极泥，如有应及时清 理干净；每月用碳芯连续过滤 6?8 小时，同时低电流电解除杂；每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理 （活性炭粉）；每两周要更换过滤泵的滤芯； 大处理程序：A.取出阳极，取下阳极袋，用铜刷清洗阳极表面，水洗冲干后，装入阳极

24、袋内，放入酸槽内备用B.将阳极袋放入10%碱液浸泡6?8小时，水洗冲干，再用5%稀硫酸浸泡，水洗冲干后备用；C.将槽液转移到备用槽内，按 3?5克/升将活性碳粉缓慢溶解到槽液中，待溶解彻底后，吸附4-6小时候，用10um的PP滤芯加助滤粉过滤槽液至清洗干净的工作槽内，放入阳极，挂入电解板，按 0o 2-0o 5ASD电流密度低电流电解6?8小时，D.经化验分析，调整槽 中的硫酸，硫酸亚锡含量至正常操作范围内；根据霍尔槽试验结果补充镀锡添加剂；E.待电解板板面颜色均匀后，即停止电解;F.试镀OK.即可； 补充药品时，如添加量较大如硫酸亚锡，硫酸时；添加后应低电流电解一下；补加硫酸时应注意安全，补

25、加量较大时 （10升以上）应分几次缓慢补加；否则会造成槽液温度过高，亚锡氧化，加快槽液老化 ； 药品添加计算公式：硫酸亚锡（单位：公斤）=（40-X）对槽体积（升）/1000硫酸（单位：升）=（10%-X） g/L确体积（升）或（单位：升）=（180-X） g/L确体积（升）/1840（八）镀镍 目的与作用：镀镍层主要作为铜层和金层之间的阻隔层，防止金铜互相扩散，影响板子的可焊性和使用寿命；同时 又镍层打底也大大增加了金层的机械强度； 全板电镀铜相关工艺参数：镀镍添加剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果，添加量大约 200ml/KAH ；图形电镀镍的电流计算一般按 2 安

26、/平方分米乘以板上可电镀面积 ；镍缸温度维持在 40-55 度，一般温 度在 50 度左右，因此镍缸要加装加温，温控系统； 工艺维护：每日根据千安小时来及时补充镀镍添加剂 ；检查过滤泵是否工作正常，有无漏气现象；每个 2-3 小时应用干净的湿抹 布将阴极导电杆擦洗干净；每周要定期分析铜缸硫酸镍（氨基磺酸镍）（1 次/周），氯化镍（ 1 次/周），硼酸（1 次/周）含量，并通过霍尔槽试验来调整镀镍添加剂含量，并及时补充相关原料；每周要清洗阳极导电杆，槽体两端电接头，及 时补充钛篮中的阳极镍角，用低电流 0o 2?0o 5ASD电解6?8小时；每月应检查阳极的钛篮袋有无破损，破损者应及 时更换；并

27、检查阳极钛篮底部是否堆积有阳极泥，如有应及时清理干净；并用碳芯连续过滤 6?8 小时，同时低电流电解 除杂；每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理（活性炭粉） ；每两周药更换过滤泵的滤芯； 大处理程序：A.取出阳极，将阳极倒出，清洗阳极，然后放在包装镍角的桶内，用微蚀剂粗化镍角表面至均匀粉红色即可，水洗冲干后，装入钛篮内，方入酸槽内备用B.将阳极钛篮和阳极袋放入10%碱液浸泡6?8小时，水洗冲干，再用5%稀硫酸浸泡，水洗冲干后备用；C.将槽液转移到备用槽内，加入1-3ml/L的30%的双氧水，开始加温，待温度加 到65度左右打开空气搅拌，保温空气搅拌 2-4小时；D.关掉空气搅拌，按

28、3?5克/升将活性碳粉缓慢溶解到槽液中，待 溶解彻底后，打开空气搅拌，如此保温 2?4小时；E.关掉空气搅拌，加温，让活性碳粉慢慢沉淀至槽底；F.待温度降至40 度左右，用 10um 的 PP 滤芯加助滤粉过滤槽液至清洗干净的工作槽内，打开空气搅拌，放入阳极，挂入电解板，按0o 2-0o 5ASD电流密度低电流电解6?8小时，G经化验分析，调整槽中的硫酸镍或氨基磺酸镍，氯化镍，硼酸含量至 正常操作范围内；根据霍尔槽试验结果补充镀镍添加剂；H.待电解板板面颜色均匀后，即可停止电解，然后按1-1 o5ASD 的电流密度进行电解处理10-20分钟活化一下阳极；I.试镀OK.即可； 补充药品时，如添加

29、量较大如硫酸镍或氨基磺酸镍，氯化镍时，添加后应低电流电解一下；补加硼酸时应将补充量的 硼酸装入一干净阳极袋挂入镍缸内即可，不可直接加入槽内； 镀镍后建议加一回收水洗，用纯水开缸，可以用来补充镍缸因加温而挥发的液位，回收水洗后接二级逆流漂洗； 药品添加计算公式：硫酸镍（单位：公斤）=（280-X）确体积（升）/1000氯化镍（单位：公斤）=（45-X） X槽体积（升）/1000硼酸（单位：公斤）=（45-X） X槽体积（升）/1000（九）电镀金：分为电镀硬金（金合金）和水金（纯金）工艺，镀硬金与软金槽液组成基本一致，只不过硬金槽内多了一些微量金属镍 或钴或铁等元素； 目的与作用：金作为一种贵金

30、属，具有良好的可焊性，耐氧化性，抗蚀性，接触电阻小，合金耐磨性好等等优良特点；八、J 目前线路板电镀金主要为柠檬酸金槽浴，以其维护简单，操作简单方便而得到广泛应用； 水金金含量控制在 1 克/升左右， PH 值4。5左右，温度 35度，比重在 14波美度左右，电流密度 1ASD 左右； 主要添加药品有调节 PH 值的酸式调整盐和碱式调整盐，调节比重的导电盐和镀金补充添加剂以及金盐等； 为保护好金缸，金缸前应加一柠檬酸浸槽，可有效减少对金缸的污染和保持金缸稳定； 金板电镀后应用一纯水洗作为回收水洗，同时也可用来补充金缸蒸发变化的液位，回收水洗后接二级逆流纯水洗， 金板水洗后即放入 10 克/升的

31、碱液以防金板氧化； 金缸应采用镀铂钛网做阳极，一般不锈钢 316 容易溶解，导致镍铁铬等金属污染金缸，造成镀金发白，露镀，发黑 等缺陷； 金缸有机污染应用碳芯连续过滤，并补充适量镀金添加剂。一、沉锡工艺特点1. 在155 C下烘烤4小时（即相当于存放一年），或经8天的高温高湿试验（45C、相对湿度93%），或经三次回流焊 后仍具有优良的可焊性；2. 沉锡层光滑、平整、致密，比电镀锡难形成铜锡金属互化物，无锡须；3. 沉锡层厚度可达0.8-1.5 um,可耐多次无铅焊冲击；4. 溶液稳定，工艺简单，可通过分析补充而连续使用，无需换缸；5. 既适于垂直工艺也适用于水平工艺；6. 沉锡成本远低于沉镍

32、金，与热风整平相当；7. 对于喷锡易短路的高密度板有明显的技术优势，适用于细线高密度IC封装的硬板和柔性板；8. 适用于表面贴装（SMT）或压合（Press-fit）安装工艺；9. 无铅无氟，对环境无污染，免费回收废液。、沉锡工艺流程顺序:流程序号缸号流程时间范围最佳时间温度过滤11除油2-4min3min30-40 CV22、3两级水洗1-2min2min室温34微蚀60-90sec60sec室温V45、6两级水洗1-2min2min室温57浸酸60-90sec60sec室温68、9DI水洗60-90sec60sec室温710预浸1-3min2min室温V811沉锡10-12min12mi

33、n50-60 CV912热DI水洗1-3min2min50-55 C1013、14二级DI水洗1-3min2min室温1115、16热DI水洗1-3min2min50-55 C三、Final Surface Cleaner 表面除油:1. 开缸成分：M401酸性除油剂.100ml/L浓 H2SO4 50ml/LDI水其余作 用：除去电路板表面油污，氧化层和手指印。此除油剂与目前市面上常见的所有阻焊油墨都兼容。2. 操作参数：温 度：30-40 C最佳值：35 C分析频率：除油剂每天一次铜含量 每天一次控 制：除油剂 80-120ml/L最佳值：100ml/L铜含量 小于1.5g/L补 充：M4

34、01增加1 %含量需补充10ml/L过 滤：20 口滤芯连续过滤，换缸时换滤芯。寿命：铜含量超过1.5g/L或每升处理量达到500呎。四、Microetch 微蚀：1. 开缸成分：Na2S2O4 .120g/LH2SO4 40ml/LDI水其余程序：向缸中注入85%的DI水； 加入计算好的化学纯H2SO4，待冷却至室温; 加入计算好的Na2S2O4，搅拌至全溶解； 补DI水至标准位置。2. 操作参数:温度：室温即可分析频率：H2S04每班一次铜含量每天一次微蚀率每天一次控制：铜含量少于50g/L微蚀率 30-50口，最佳值：40 口补 充: Na2S2O4每补加10g/L，增加1%的含量H2S

35、O4每补加4ml/L， 增加1%的含量命：铜含量超过50g/L时稀释至15g/L，幷补充Na2S2O4和H2SO4五、Predip预浸:1. 开缸：10% M901预浸液； 其余：DI水用途：在沉锡前湿润微蚀出的铜面，此预浸液对任何阻焊油墨都没有攻击性；2. 操作参数：温度：室温分析频率：酸当量每天一次铜含量每周一次补 充：酸当量 每添加100ml/LM901，增加0.1当量液位：以DI水补充过滤：20 口滤芯连续过滤寿 命：与沉锡缸同时更换3. 废水处理：与后处理废液中和后过滤出固体物质。六、Chemical Tin 沉锡：1. 设备：预浸和化学锡缸均适用；缸体：PP或PVC缸均可；摆 动：

36、PCB架在缸内摆动，避免气体搅拌；过滤：10口滤芯连续过滤；通 风：建议15MPM通风量；加热器：钛氟龙或石英加热器；注意：不能有钢铁材料在缸内2. 开缸：100% Sn9O2沉锡液开缸，此沉锡液对任何阻焊油墨都没有攻击性;3.操作参数：锡浓度：20-24g/L最佳：22g/L硫脲浓度：90-110g/L最佳：100g/L磺酸含量：90-110ml/L最佳：100ml/L铜离子浓度:最高8g/L时，必须冷却过滤；温度：70-75 C时间：10-15分钟4. 沉锡液的维护：沉锡液维护简单，主要成分可通过分析补充，使其保持在最佳工艺范围内： 每加入12ml/L沉锡液可提高1g/L的锡浓度，使锡浓度保持在20-24g/L之间； 每加入10ml/L 10 %硫脲溶液可提高硫脲1g/L,使硫脲浓度保持在90-110g/L之间； 按分析值补充有机磺酸的含量，使其保持在90-110ml/L之间； 蒸发损失可用去离子水补充液位。5. 成份分析：1）锡的分析： 试剂：0.1N碘溶液、30 %硫酸溶液、淀粉溶液 分析步骤：a）准确吸取2ml溶液到250ml烧瓶中；b）加入15ml 30 %硫酸溶液；c）加入100ml去离子水；d）加入2ml淀粉溶液；e）用0.1N标准碘溶液滴定至兰紫色终点，记录毫升