常用晶体及光学玻璃折射率表

1、常用晶体及光学玻璃折射率表物质名称分子式或符号折射率熔凝石英SiO21.45843氯化钠NaCI1.54427氯化钾KCl1.49044萤?石CaF21.43381冕牌玻璃K61.51110K81.51590K91.51630重冕玻璃ZK61.61263ZK81.61400钡冕玻璃BaK21.53988火石玻璃F11.60328钡火石玻璃BaF81.62590重火石玻璃ZF11.64752ZF51.73977ZF61.75496液体折射率表物质名 称分子式密度温度C折射率丙醇CHC0C3H0.791201.3593甲CHOH0.794201.3290乙GH50H0.800201.3618苯GI

2、41.880201.5012二硫化 碳CS21.263201.6276四氯化 碳CC141.591201.4607三氯甲 烷CHC31.489201.4467乙醚GH5 0 CH50.715201.3538甘油GHO1.260201.4730松节油0.8720.71.4721橄榄油0.9201.4763水HO1.00201.3330DMF熔点-61 C，沸点 152.8 °C ,76 °C(5.2kPa),相对密度0.9445(25/4 C )，闪点 58 C，自燃点445 C。对多种有机化合物和无机 化合物均有良好的溶解能力和化 学稳定性。25 C的蒸气压为0.493kP

3、a。1.4269晶体的折射率no和ne表物质名 称分子式n。ne冰1.3131.309氟化镁MgF1.3781.390石英Sd1.5441.553氯化镁MgOHzO1.5591.580锆石ZrO2 - SiO21.9231.968硫化锌ZnS2.3562.378方解石CaO CO1.6581.486钙黄长 石2CaO Al 203 - SiO21.6691.658菱镁矿ZnO- CO1.7001.509刚石AI2O1.7681.760淡红银 矿3Ag?S ASS32.9792.711注：n。、ne分别是晶体双折射现象中的“寻常光”的折射率和“非 常光”的折射率。？?资料来源：华 东师大光学教程

4、折光率色散双折射率硬度比重真钻石2. 420 . 044无103. 52苏联钻”2. 150 . 060无8. 55. 66注：苏联钻”，立方氧化锆钻石一般情况下，基础玻璃的折射率为1.5 1.7,而斜锆石的 折射率为2.2,锆英石的 折射率 为1.94 ； SnO2可以降低釉熔体的表面张力，且具有较高地折射率(2.09)CR-39即折射率1.499单体有机高分子化学日开发出新型热固性树脂2004-7-28 9:04:29 来源：中国化工网日前，日本 Nitto Denko Corp 公司开发出一种折射系数为 1.7 的芳香族热固性树脂，高于折射率 1.56 的环氧树脂，且这种树脂的耐热性也比

5、环氧树脂高 30。该公司称，折射系数的提高是由于在其中添加了二氧化钛、二氧化锆及其它金属氧化物的纳米级 粒子。据介绍，这种树脂主要用途在电器领域，包括用于涂料中可提高白色发光二极管 (LEDs) 的发光 率和吸光率，液晶显示器 (LCDs) 和其它显示器的防反射膜，以及在电荷耦合器件 (CCDs) 中作为微透镜 使其能接受大量光等。金红石型和锐钛矿型 TiO 2颜料的平均折射率分别为2.71和2.57 ，用 2.71来计算，氧化锌颜料的相对密度为 5.45 5.65 ，吸油度量为 10 25 g/100 g ，折射率为 2.03 2.08。 商业上 98%颜料级硫化锌的相对密度为4.0 4.1

6、 ，折射率为 2.37三氧化锑颜料的折射率约为 2.0 ，名称？?折射率？?透光范围？?蒸发温度(C )蒸发源 应用 三氧化二铝 1.62/550n 2005000 2000-2200 电子枪 增透膜 多层膜 氟化铈 1.63/500nm 3005000 1429 钼，钽，电子枪 增透膜、多层膜 氧化铈 2.35/500nm 40016000 1950 电子枪增透膜冰晶石 1.33/500nm 25014000 1000 钼，钽，电子枪 增透膜 氧化铪 1.95/500nm 2307000 2500 电子枪 紫外 -近红外多层膜 透明导电膜料 2.0/500nm 400800 1450 电子枪

7、， Al2O3 透明导电膜 氟化钙 1.23-1.42/550nm15012000 12801400 钼，钽，钨 增透膜 氟化镁 1.38/550nm 1307000 13001600 钼，钽，钨 增透膜、多层膜 氧化镁 1.7/500nm 2008000 2000 电子枪 多层膜 锆钛混合物 2.1/500nm 4007000 2300 钨，电子枪 增透膜 氧化钪 1.89/500nm 2505000 2430 电子枪 紫外多层膜二氧化硅1.45/500nm2002000 16002200电子枪多层膜一氧化硅1.55/550nm6008000 12001600钼，钽，钨 增透膜、保护膜五氧化

8、二钽2.1/500nm4007000 1950 电子枪增透膜一氧化钛2.35/500nm40012000 17002000电子枪多层膜、分光二氧化钛2.35/500nm40012000 2200 电子枪增透膜、多层膜氧化钇 1.87/550nm 4008000 2500 电子枪增透膜、多层膜氧化锆 2.05/500nm 2507000 2500 电子枪增透膜、多层膜三氧化二钛 2.35/500nm 40012000 18002000 钽，钨电子枪 增透膜、多层膜 氟化镧 1.58/500nm 22014000 1450 钼，电子枪 增透膜 硅 3.4/3000nm 10009000 1500

9、电子枪 红外膜锗 4.4/2000nm 170023000 13001500 电子枪，钨 红外膜 硒化锌 2.58/550nm 60015000 600900 钼，钽， 电子枪 红外膜 硫化锌 2.4/1200nm 40014000 1100 钼，钽，电子枪 多层膜氟化钇 1.49/632.8nm 20015000 1100 钼 红外膜 (10.6mm) 、增透膜 氟化镨 1.51/632.8nm 22015000 14001600 钼，电子枪 红外膜 (10.6mm) 、增透膜氟化铝1.35/500nm2008000 8001000电子枪，钼，钽 紫外膜氟化铅1.76/470nm220900

10、0 7001000铂紫外膜氧化钆1.8/550nm32015000 2200增透膜五氧化三钛 2.35/500nm 40012000 17502000效率，在光信息存储方面有巨大的潜在应用前景；同时它也是重要的衬底基片材料晶体参数：晶体结构四方 Tetragona(4m):13 oC<T<132C a=3.99 ?,c=4.04,(at26°C)生长方法TSSG 仃op Seeded Solution Growth)顶部籽晶法熔点1612 oC折射率515 nm633 nm800 nmn。2.49122.41602.3681ne2.42472.36302.3235透过波长范围0.43 - 6.304m1白色颜料与合成纤维的折射率见