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文档简介
1、PN结及其特性详细介绍1. PN结的形成在一块本征半导体在两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程:鞭差日,多子浦顷成留巾有X十L艇多子扩散扩散到对方的载流子在 P区和N区的交界处附近被相互中和掉,使 P区一侧因失去空穴而留下不能 移动的负离子,N区一侧因失去电子而留下不能移动的正离子。这样在两种半导体交界处逐渐形成由正、 负离子组成的空间电荷区(耗尽层)。由于P区一侧带负电,N区一侧带正电,所以出现了方向由N区指向P区的内电场® © © © © © G
2、9;" ©* ©*PN结的形成当扩散和漂移运动达到平衡后,空间电荷区的宽度和内电场电位就相对稳定下来。此时,有多少个多子扩散到对方,就有多少个少子从对方飘移过来,二者产生的电流大小相等,方向相反。因此,在相对平衡时,流过PN结的电流为0。空穴I空间电荷区 耗尽层 I 电子00&G)© 0 0 0 © ® © © © © © ® 1 ©' <2)(S) © © © ©°|内电场对于P型半导体和N型
3、半导体结合面,离子薄层形成的 空间电荷区称为PN结。在空间电荷区,由于 缺少多子,所以也称耗尽层。由于 耗尽层的存在,PN结的电阻很大。PN结的形成过程中的两种运动:多数载流子扩散少数载 流子飘移PN结的形成过程(动画)2. PN结的单向导电性PN结具有单向导电性,若外加电压使电流从 P区流到N区,PN结呈低阻性,所以电流大;反之是 高阻性,电流小。如果外加电压使P区的电位高于PN结中:N区的电位,称为加正向电压,N区的电位,称为加反向电压,简称正偏;简称反偏。P区的电位低于 (1) PN结加正向电压时的导电情况PN结加正向电压时的导电情况如图所示。外加的正向电压有一部分降落在 PN结区,方向
4、与PN结内电 场方向相反,削弱了内电场。于是 ,内电场对多子扩散 运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂 移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性。N结加正向电压时的导电情况PN结加反向电压时的导电情况外加的反向电压有一部分降落在 PN结区,方向与PN结内电场方向相同, 加强了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场的作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性。在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓 度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的, 基本 上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为 反向饱和电流。P
5、N结加反向电压时的导电情况(动画)(3) PN结的伏安特性PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。3. PN结方程根据理论分析,PN结两端的电压V与流过PN结的电流I之间的关系为:V其中:IS为PN结的反向饱和电流;VT称为温度电压当量,在温度为 300K(27°C)时,VT约为26mV ;/ = /$(碎如 一1)所以上式常写为:PN结正偏时,如果 V> VT几倍以上,上式可改写为:I M / 好而即I随V按指数规律变化PN结反偏时,如果 V > VT几倍以上
6、,上式可改写为: 其中负号表示为反向 4. PN结的击穿特性PN结产生电击穿如图所示,当加在 PN结上的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然急剧增大,PN结的反向击穿电压 VBR。这就是PN结的击穿特性。发生击穿时的反偏电压称为PN结的电击穿是可逆击穿,及时把偏压调低,PN结即恢复原来特性。电击穿特点可加以利用(如稳压管)。热击穿就是烧毁,是不可逆击穿。使用时尽量避免PN结被击穿后,PN结上的压降高,电流大,功 率大。当PN结上的功耗使PN结发热,并超过它的耗 散功率时,PN结将发生热击穿。这时PN结的电流和 温度之间出现恶性循环,最终将导致PN结烧毁。R £ *.一n5 . PN
7、结的电容效应PN结除了具有单向导电性外,还有一定的电容效应。按产生电容的原因可分为:势垒电容CB势垒电容是由空间电荷区的离子薄层形成的。当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电。势垒电容的示意图如下图。0 0 9 9 P I w I J I II I I I - &:o:A;G3:3-3*:£G:&G!势垒电容示意图扩散电容CD扩散电容是由多子扩散后,在 PN结的另一侧面积累而形成的。因 PN结正偏时,由N区扩散到P区 的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流。刚扩散过来的电子就堆积在P区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布曲线。反之,由 P区扩散到N区的空穴,在N区内也形成类似的浓度梯 度分布曲线。扩散电容的示意图如图所示。
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