2018年广西桂林电子科技大学半导体物理考研真题A卷_第1页
2018年广西桂林电子科技大学半导体物理考研真题A卷_第2页
2018年广西桂林电子科技大学半导体物理考研真题A卷_第3页
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文档简介

2018年广西桂林电子科技大学半导体物理考研真题A卷请注意:答案必须写在答题册上(写在试题上无效)。答题纸请注明页码与总页数。一、解释什么是扩散运动。(10分)二、解释什么是PN结内建电场?(10分)三、解释受主杂质的电离过程(10分)四、解释N型半导体的简并化条件(10分)五、解释基区宽度调变效应(10分)六、作出正向偏压下PN结能带图,并简要说明形成过程(15分)七、作出半导体、导体、金属的能带图并解释(15分)八、(20分)已知突变结两边的杂质浓度为NA=1E16cm-3,ND=1E20cm-3,1)求势垒高度和势垒宽度;2)画出电场E(x),V(x)图。

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