镀膜值班工程师培训资料

1、培训资料一、 浮法玻璃1、 平板玻璃的含义浮法玻璃是通过连续的在金属槽上熔铸和漂浮而生产出来的，平坦、透明、无色硅酸盐玻璃，它具有平行而光滑的平面。一般来说，浮法玻璃的厚度范围在319mm之间。不过技术上讲，可以生产小于1mm到25mm的产品。现在使用的浮法玻璃中大多数都是钠钙硅酸盐玻璃，主要原料有石英砂，石灰石，白云石(mgco3)以及一些碱，硫酸盐等。玻璃的组成成分和结构是影响玻璃性能的主要因素。浮法玻璃是在锡槽上形成的，这就使它具有两个不同的表面。成型期间，上表面一直与还原合成气体接触（95%的氮气和5%的氢气），而下表面一直保留在熔融的锡液中，所以，上表面被叫着空气面，下表面叫锡面。空

2、气面明显的光滑于锡面，但容易受腐蚀，所以一般使用时都将锡面用于外表面。两个面的差异很显然会对镀膜结果造成不同的影响。由于锡槽相连接，锡面上的钠含量会比空气面的低。正是由于这种接触，锡离子sn2+会扩散到锡面内部，这种扩散导致锡面的折射系数、抗刮削能力和抗化学腐蚀都强于空气面。但是，锡离子sn2+在锡面不均衡的分布和玻璃上的水发生反应，这就使得锡面的抗水性能不如空气面。两个面由于结构不同，体现的光学性能也不相同，所以相同的膜镀在两个面上体现的颜色结果也是不同的。2、 玻璃的光学性能 浮法玻璃的最主要的性能是它对阳光辐射的高透过性。由于玻璃本身是一种电绝缘物质，所以除了光波范围的近红外区域，它几乎

3、不吸收阳光辐射。理论上，折射率指数n和玻璃厚度可以决定浮法玻璃的光学特性。由于白玻几乎不吸收可见光线，所以在这个波长范围内，它的折射率很小，n=1.52。白玻在它的每个面的反射率大约都是4%，即在整个玻璃片上在反射大约是8%，由于吸收效应，着色玻璃的整体反射率一般都低于白玻。3、 玻璃的化学稳定性 因为浮法玻璃的化学稳定性关系到玻璃片的表面，甚至影响到镀膜工艺，所以玻璃的化学稳定性是非常重要的。一般来说，玻璃抗酸性能极好（除了氢氟酸和热磷酸），抗碱性能较好，抗水性能一般。4、 玻璃加工 玻璃加工是指改变玻璃性能并赋予新的或者不同的功能的技术。深加工就是提升浮法玻璃的附加值。随着新产品的开发和市

4、场的拓展，它的附加值越来越高。深加工工艺一般分为四大类：l 改变玻璃形式的工艺，如：切片、磨边、钻孔l 改变玻璃晶格结构工艺，如：热弯、钢化l 表面处理工艺，如：镀膜、彩釉l 利用连接技术加工加工的工艺，如：夹层现代越来越多的简单产品也采用多种深加工工艺，建筑玻璃一般都会用到一种或者几种加工工艺。例如，汽车玻璃的前档风玻璃就将4种加工方式完全利用，第一，玻璃要切割，磨边，第二，玻璃要弯曲，钢化，第三，玻璃要能防止紫外线辐射，往往需要镀膜等，第四，玻璃要夹层。二、 镀膜1、 膜层 用于建筑玻璃的镀膜玻璃一般都镀薄膜。我们把厚度低于1um的膜层叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜。镀膜工艺是用不同的材

5、料在基片表面形成新表面的方法。镀膜的方法很多，真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶法等。它要求膜层要有非常强的附着力，附着力不强的叫覆盖。通过镀膜可以改变的属性有：l 光学性能：包括影响透过率，反射率或者吸收的膜层l 电学性能：包括改变玻璃的电学性能以及热辐射率等相关功能的膜层l 机械性能：包括改变玻璃破裂的路径，赋予玻璃抵御灰尘和水能力的膜层l 化学性能：包括阻挡玻璃内部原子的扩散和阻挡玻璃片受到化学侵蚀的膜层l 装饰性能：包括改变并提高玻璃光洁度或者用于特殊目的的膜层膜层的性能取决于以下几个因素：l 被镀材料的性能（玻璃基片，特别是表面）l 镀膜材料l 镀膜工艺例如：根据镀膜技术的不同，

6、相同材料在真空中是蒸发还是溅射，表现出不同的性能。这是由于镀膜过程中不同膜层增长条件造成的。即使在同类设备，相同的镀膜工艺沉积相同厚度的相同材料的膜层也可能存在差异。总之，要在某一特定基片上生成具有特定功能的膜层，必须综合考虑和调整基片及其表面的性能、镀膜材料和镀膜技术性能，以及它们之间的相互作用。2、 材料由于用途不同，用于镀膜的材料也不同，一般来说，商业性的溅射镀膜工艺中所使用的材料包括：l 金属材料：ag、au、nicr、sst、al等，其中ag、au、al等导电性能好的材料具有较好的辐射率，是良好的辐射材料l 半导体材料：insnox等，主要用于镀导电膜，偶尔也在其中掺杂l 介质材料：

7、主要有snox、znox、tiox等介质材料，具有良好的吸收，反射率低使用这些材料进行组合，可以得到形形色色的各种膜系，根据实际需要，选择不同的材料，由于材料种类多，灵活性大，更具有商业运作价值。材料种类多，可代替性大，在商业运作中可以使用价格低而性能好的材料，可降低生产成本以达到使用目的。例如：在生产low-e玻璃时，ag、au都具有良好的辐射率，而ag的价格远远低于au的价格，商业运作中都使用ag，基本不使用au。生产ag镜时，客户需要的主要是高反射，镀ag和镀al都可以得到较高的反射率，目前都在使用al代替ag来降低生产成本。在实际生产运行过程中，选择材料要根据实际需要实现的功能，材料价

8、格，生产可行性等多方面去进行综合比较。3、 镀膜前的清洁在进行镀膜前都必须将基片进行清洁，对于在线镀膜来说，这是很小的事情，但对离线镀膜来说却相当重要，而且操作起来也比较困难，对于大面积的镀膜来说，将玻璃基片完全清洁干净是不可能的，因此，如何达到镀膜所必须要求的洁净程度就变得非常重要。要保持清洁程度足够高，如果清洁程度不够，膜层容易老化，甚至脱膜等现象。不同用途，不同加工工艺的膜层对清洁程度要求是不一样的，对于目前我司生产的玻璃来说，low-e玻璃要求的玻璃洁净度不如热反射玻璃高。目前要为镀膜准备大面积的镀膜玻璃基片，主要采用的是一种湿式清洁技术，这种技术包括三部分：l 松动玻璃表面的杂质l

9、去除已经松动的、分离的杂质l 干燥已经清洁的玻璃表面对于松动杂质来说，我们把这段叫预清洗，一般都使用刷洗的方法，刷洗的原理是用毛刷机械的分离玻璃表面的灰尘，再利用喷嘴把水或者其他清洁液喷到玻璃上来去除大颗粒灰尘。在预清洗过程中，基本都使用毛比较粗的盘刷进行清洗，多个小盘刷连接在一个轴承上组成一组，一个清洗机都有多组。在进行清洁时，盘刷本身转动，利用毛刷的弹力松动玻璃表面的杂质，同时连接轴承左右平动，保证清洁到玻璃的每个部位。在这个部分里，一般都使用自来水。如果玻璃基片存放时间过长，或者长时间放在潮湿的环境里，玻璃容易发霉，发霉玻璃的霉斑很难通过一般的刷洗清洁掉，往往进行抛光。抛光使用的盘刷的刷

10、子要粗，往往加入氧化铈或者柠檬酸在抛光水箱中。氧化铈是一种粘性物质，可以增加盘刷和玻璃之间的摩擦力，柠檬酸可以适当分解有机物质。使用氧化铈容易污染清洗机辊道，不容易清洁保养清洗机，一般情况下都不使用。在每组盘刷之间都安装多个喷嘴，以一定角度一定压力对玻璃表面进行喷射自来水，清洁松动的大颗粒杂质，由于使用的是自来水，不能将微小的杂质进行去除。去除分离的小颗粒杂质部分我们把它叫清洗部分，在预清洗和清洗部分之间往往有一段间隔，在这段内，只有喷水，没有毛刷，喷嘴的方向是向着预清洗部分的，目的是让预清洗的大颗粒或者很脏的物质不带入清洗部分，有利于清洗机的保养维护。在清洗部分，大部分使用辊刷，也使用1组或

11、者两组盘刷，辊刷只能清洁已经松动的杂质或者和玻璃表面结合不牢固的杂质，在这段中使用盘刷进一步松动结合牢固的杂质，然后利用辊刷清洁干净。同样的道理，清洗段也有喷嘴喷水，不同的是清洗段使用纯水，纯水的是从最后一排喷嘴喷射到玻璃表面，然后回收到水箱，再将回收的低纯水从倒数第二排喷射到玻璃表面，依次类推。用于实际的大规模生产镀膜玻璃的生产线一般都使用风刀进行干燥玻璃基片表面。它利用压缩空气经过狭缝喷嘴吹到湿玻璃表面上，从狭缝吹出来的风象刀刃一样，可以立即将玻璃基片表面的水膜分离开并使其雾化，最后随着空气一起排出去。压缩空气必须要非常清洁，也就是说它必须经过特殊的过滤器进行过滤。风刀干燥具有很多优点；即

12、可以快速去除水膜还能保持玻璃基片一直处于低温状态。这就降低了析出效应，而且清洁过的玻璃上析出材料形成的点或者条纹也会下降到最低。风刀的角度和风刀口的大小一般都是固定的，不能轻易更改，所以在保养维护时就不能轻易拆卸，而风刀内部始终会脏，导致玻璃在干燥时受到污染，保养维护时清洁风刀显得非常重要，并且具有一定的难度。4、 镀膜原理这里所说的镀膜主要指真空磁控溅射镀膜，其他的不作介绍。总体来说，溅射镀膜利用2个原理：辉光放电、连续撞击。溅射过程是建立在气体放电基础上的，这种放电是在低气压下开始的，它会与镀膜材料（靶）相互作用，在这个过程中，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片

13、（玻璃）上沉积下来，凝结成一层膜。当气体通入真空室后，气体在低气压高电压的情况下迅速电离，ar原子电离为ar+和e-，带正电的ar+离子在电场的作用下向阴极运动，最终撞击靶材，能量传递给靶材，当较多的ar+离子撞击靶材，靶材表面原子所受到的撞击力大于靶材内部应力时，靶表面原子就从靶表面析出。带负电的电子e-在电场作用下向带正电的阳极运动，而阴极上是装有磁体的，真空室内同时具有磁场，电子在电磁场的作用下作圆周运动，而真空室内步断的在补充气体，电子会撞击补充的气体分子，加速气体分子的电离，电子撞击气体分子后能量减小，运动半径减小，多次撞击后能量消失，故电子的运动轨迹是螺旋形。常见的溅射有两种：不反

14、应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体，一般使用ar，我们把ar叫工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上，一般都使用平面靶。反应溅射就是在反应气体环境中镀膜，由于溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应，所以它与不反应溅射之间存在差异。反应溅射一般沉积不导电的膜层，例如：snox，znox，siox，sinx等。在反应溅射系统中，一般都加入ar加速反应速度，即提高溅射速率，ar的电离速度明显大于氧气和氮气（2种常用的反应气体）。反应溅射过程种，靶表面逐渐形成一层氧化膜或者氮化膜，靶表面溅射速率会下降，最终趋于恒定。在反应溅射气

15、氛中，加入工作气体越多，溅射速率越高，当加入的工作气体过多时，反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉，膜层内就会含有金属，我们把这种状态叫翻转。在日常生产过程中，我们需要高的溅射速率，减小使用功率和靶材使用数量，但不能翻转。在反应溅射过程中，无论翻转与正常状态，靶的溅射速率都没有不反应溅射速率高。在不反应溅射中，导电性能越好的材料，溅射速率越高。为了比较不同设备上相同材料的溅射速率，或者相同设备不同材料的溅射速率，我们引入动态溅射工艺中的一个重要参数；动态沉积速率。动态沉积速率是指对于给定的阴极和溅射条件，当阴极和基片之间以1m/min的速度相对移动时所得到的膜层厚度。假定阴极表面为一个平面

16、，而且在阴极整体上的溅射是均匀的，那么动态沉积速率rdyn可以用下面的公式表示： rdyn=rd*b/vrd指静态沉积速率，给定的材料的静态沉积速率是一定的，b指阴极宽度，v是指基片和溅射源之间的相对位移速度。也就是说，在溅射气氛相同的情况下，靶材的溅射速率和阴极的尺寸有关系，和传动速度有关系，与其他因素没有关系。5、 镀膜设备目前的镀膜设备，就天津南玻的镀膜设备来说，生产线由以下几个部分组成：l 装载大板原片的装片台l 装载小规格基片的装片台l 前清洗机l 清洗后的观察台l 镀膜主体l 镀膜后的光学性能检测l 检验台l 大板玻璃卸片台l 小玻璃卸片台对于镀膜主体部分，大致上可以分为三部分：进

17、口部分，镀膜腔室，出口部分。进口同样分三部分：进口锁室，它的入口和出口都用狭缝阀紧密密封起来，当进口锁室在大气状态下时，狭缝阀打开，玻璃进入进口锁室，关闭狭缝阀，开始抽气，抽到大约10-2mbar时，进口锁室出口门打开，玻璃进入进口保持室，关闭进口锁室出口的阀门，进口缓保持室开始抽气，抽到大约10-4mbar的时候，进口保持室出口阀门开启，玻璃进入进口缓冲室。进口缓冲室和镀膜主腔室之间不再有阀门，这个室主要作用是利用同步电机改变玻璃传送速度，使玻璃能连续不断的在镀膜腔室内进行镀膜。出口部分是进口部分的反过程。镀膜主体内，主要是阴极。阴极分为平面阴极和旋转阴极,平面阴极又分平面双阴极和平面单阴极

18、,旋转阴极又分直流旋转阴极和交流旋转阴极.目前市面上使用最多的是平面单阴极和交流旋转阴极.平面阴极一般使用直流电源，阴极结构简单，常用于不反应溅射，靶材消耗高，一般利用率为30%，交流阴极使用交流电源，结构复杂，主要是在动密封上，用于反应溅射较多，靶材利用率高，大约为80%。由于每个阴极上都有磁场，为了得到均匀的膜层，必须保证磁场强度在阴极方向上尽可能的一致，所以就必须将磁场强度匹配起来，磁场强度应该控制在1%以内。平面阴极的磁场都是由小块磁铁来做的，利用积分的原理来细化磁铁组合，保证磁场稳定性。阴极在工作时必须进行冷却，靶材同传热性好的石墨纸连接，石墨纸再同冷却铜管连接，铜管内通入冷却水，确

19、保阴极温度。平面阴极靶材为砖头形，溅射时消耗靶材中部较大，在整个靶材表面形成椭圆形槽，靶材本身材质的均匀性对膜层均匀性影响较大。平面阴极一般使用直流方波电，靶材始终处于负电位，阳极处于0电位，在阳极和靶材之间形成电压差，使气体分子进行电离。交流旋转阴极是通过电路板对高压电进行变频，再加在阴极上的，旋转阴极电源频率大约为50hz。利用交流电的正铉波，当一个靶筒上带正电时，另一个靶筒带负电，在两个靶筒之间产生电压差，形成电场，使气体分子电离。旋转阴极的磁场处于靶材内部的不锈钢筒内，有独立的支撑，使磁钢和不锈钢筒分离开，磁钢上磁场可以进行调节。磁钢上磁场的调节是通过调整磁钢垫片来实现的，当加入磁钢垫

20、片，磁钢距离玻璃的距离减小，磁场强度增加，溅射率升高，同样溅射气氛下，膜厚增加，颜色发生变化。旋转阴极的冷却水同样通在靶材内部的不锈钢筒内，由于磁钢的支撑块的阻挡，冷却水在旋转阴极流动呈螺旋形，使冷却水流动速度减慢，冷却效果更好。旋转阴极的旋转速度越快，外部负荷越大，电机发热越大，电机更容易跳，但膜层均匀性越好。一般出厂的旋转速度在040转/min之间，常用在1520转/min。旋转靶使用功率要高于平面靶，一般都可以输出110kw左右，但不同的靶材所能承受的功率是不一样的，例如：sn靶的熔点低，在使用超过60kw时，靶材发热很大，靶材容易熔化，故sn靶的使用功率一般不超过60kw。所有的阴极都

21、是在真空状态下进行工作的，要使镀膜主体达到阴极工作要求就必须对镀膜线进行抽真空。抽真空的设备有：螺杆泵，萝茨泵，分子泵（扩散泵）。螺杆泵是抽气速率非常大的设备，在大气下可直接进行抽气，而萝茨泵利用叶片高速旋转对空气进行压缩，本身不能抽气，在大气下不能直接开启，和螺杆泵配套使用。分子泵只有在高真空状态下才能开启，分子泵最下端为斜形叶片，当分子撞击到叶片上，分子向分子泵出口运动，分子泵内部安装有高速旋转叶片，将分子带到出口抽出真空室。真空室内有各种仪表:pg表,测量粗真空,测量范围在大气压到1.0*10-4mbar,测量范围广,测量数据准确性不好,cg表测量精确真空度,测量范围在1.0*10-2m

22、bar1.0*10-3mbar,主要用于阴极工作时,ig表测量高真空度,测量范围在1.0*10-31.0*10-6mbar之间,主要用于测量本底真空度.三、 光学1、 光谱分布在整个电磁波谱中，能引起人眼视觉的只是一小部分（可见光），与玻璃光热性能相关的也只是其中的一小部分。根据前人实验研究，一般将此段光谱按如下方式划分 l (mm )0.05mm0.400.762.010500紫外可见近红外中红外远红外红外紫外光谱：20nm400nm可见光谱：380nm780nm太阳光谱：300nm1800nm（有的资料介绍：300nm2500nm）近红外光谱：750nm2500nm中远红外光谱：2.5um

23、500um太阳光中的热量主要集中在近红外光谱范围内，一般占太阳光能量的70%以上。而一般物体在吸收太阳光能以后，将以远红外线的形式将热量散发出来。2、 光源与标准照明体光源是指能发光的物理辐射体，其发出的光是由单色光组成的复色光，不同光源的光谱分布是不一样的。照明体是指特定的光谱分布，这不一定能用一个具体的光源来实现。国际照明委员会cie推荐的标准照明体有a、b、c、d、e几种，照明体d代表各时相日光的相对光谱功率分布，也叫典型日光或重组日光。cie优先推荐d55、d65、d75的相对光谱功率分布作为代表日光的标准照明体，并建议尽可能应用d65代表日光，d65光谱分布相当于相关色温6500k的

24、d标准照明体。3、 光的反射与透射、吸收光射到物体上，会发生反射、透射和吸收现象。透射分为漫透射和正透射，漫透射是光穿过物体时光线将会发散后透过物体，而正透射则是光穿过物体时不会发散。反射分漫反射和镜面反射，漫反射是物体反射一束光时光线将会发散，而镜面反射则严格遵守几何光学的定义。一般我们测量玻璃时，主要测量玻璃的正透射和镜面反射，玻璃的漫反射分量非常小，一般可以不计。low-e镀膜玻璃在日光照射下呈现出彩色的现象，是因为日光照射到low-e镀膜玻璃表面上，经low-e玻璃膜层上下表面分别反射的光波叠加而产生干涉的现象。光的干涉：光的干涉现象的产生，是因为两束或多束光波的叠加。两束光波产生相干

25、涉必须满足下列条件。a) 两束光波的频率必须相同；b) 在相遇点两束光波有固定不变的位相差；c) 在相遇点两束光波振动矢量不应相互垂直；d) 两束光波的振幅不要相差太大，否则光涉不明显。干涉产生原理：设有一频率为的单色光，在真空中波长为在折射率为的介质中，波长变为n=/；如果光波在介质中传播的几何路程为l，则相位的变化是：公式表明：光在介质中传播时,其相位的变化不仅与光波传播的几何路程和光波在真空中的波长有关外，还与介质的折射率有关光程：光程在数值上等于在相同时间内光在真空中所通过的路程。则在介质中的光程等于介质折射率n和光在介质中几何路程l的乘积nl。光程差：从同一点光源发出的两束相干光，各

26、自通过不同的介质和路径后，在空间某点相遇时,它们的光程之差。光程差与相位差的关系： 干涉加强、减弱条件：加强减弱 透镜不引起附加的光程差通过光轴的光线波程最短，但在透镜中的光程长；远离光轴的光线波程长，但在透镜中的光程短。总的来讲，各条光线的光程都是相同的薄膜干涉:单色光以入射角 i 从折射率为 n1媒质 进入折射率为 n2 的媒质。在薄膜的上下两表面产生的反射光 . 光、光，满足相干光的条件，能产生干涉，经透镜汇聚，在焦平面上产生干涉条纹。从焦点p到cd波面，两条光的光程差为0，则在未考虑半波损失时光、光的光程差为：由折射定律显然未考虑半波损失时有：实际情况下：当n1n2n2n3(简称薄膜处

27、在“中”环境)时，由于在两个介面上反射都有半波损失，半波损失对光程差就没有影响。当 n1n3和n1n20.008856)a*=500(x/xn)1/3-(y/yn)1/3 (x/xn0.008856)b*=200(y/yn)1/3-(z/zn)1/3 (z/zn0.008856)e*ab=(l*)2+(a*)2+(b*)21/2式中：xyz为样品的三刺激值；xn、yn、zn为在标准照明体照射下，完全漫反射体的三刺激值；我们常使用的是x10、y10、z10，即10度视场下完全漫反射体的三刺激值；l*为米制明度，大小在0100之间；a*b*为米制色品，a*轴为红绿轴，正为红，负为绿，b*轴为黄蓝轴

28、，正为黄，负为蓝；e*ab为在l*a*b*均匀色空间中两颜色之间的色差；在最优条件下人眼刚可察觉到的色差大约为0.2，一般情况下人眼的色差感觉值可见下表。 色差 色差的感觉值 00.5 痕 迹 0.51.5 轻 微 1.53 可觉察 3.06.0 可识别 6.012.0 大 12.0以上 非常大5、 颜色的测量测量几何条件：在颜色测量过程中，光源照明和探测器收集光能的几何条件不一致，将会赞成测量结果的差异。为此，cie规定了统一的几何条件。透射：测量样品透射时，采用对样品表面垂直方向照明，透射方向探测。照明光束的光轴与样品表面法线的夹角不超过10。exsitu、cqxe均是采用的这种方法测量玻

29、璃透过色。反射：测量样品反射时，cie推荐了四种测色的标准照明和观察条件。e) 垂直/45（缩写0/45）：样品被一束光照明，照明光束的光轴与样品表面法线的夹角不超过10。在与样品表面法线成455的方向观测。f) 45/垂直（缩写45/0）：样品被一束或多束光照明，照明光束的光轴与样品表面法线成455。观测方向与样品表面法线的夹角不超过10。g) 垂直/漫射（缩写0/d）：样品被一束光照明，照明光束的光轴和样品法线之间的夹角不超过10。用积分球收集样品的反射光通量。积分球内表面涂有反射率极高的baso4或spectralon材料，其开孔的总面积不应超过积分球内反射表面总面积的10%。h) 漫射

30、/垂直（缩写d /0）：用积分球漫射照明样品，样品的法线和观测光轴之间的夹角不应超过10。对积分球要求同c。分光光度计cqxe测量反射时所采用的d/8就是采用的这种方法，d/8表示漫射照明样品，在与样品法线方向夹角成8的方向观察。手提测色仪miniscan的照明观测几何条件也是采用的d/8方法。测量仪器：根据cie标准色度系统，我们可以通过对物体颜色三刺激值的测量来确定颜色。由于获得三刺激的方式不同，测色仪器可以分三类：分光测色仪器（分光光度计）、色度计和彩色密度计。我公司使用的ex_situ、cqxe属于分光光度计，miniscan属于色度计，两都的区别在于：分光光度计是测量物体的光谱反射或

31、光谱透射特性，然后选用cie推荐的标准照明体光谱和标准观察者光谱，通过积分计算求得物体的三刺激值；而色度计是通过模拟颜色匹配（参见光混合匹配实验）的方式来获得物体的三刺激值。分光光度计一般由照明光源、单色器、光度计量部分、输出装置等组成。光源：要求在仪器工作的整个光谱范围内发出连续的光辐射（连续光谱），并且有足够的强度，使探测元件有足够的信噪比。单色器：能输出不同波长单色光的装置叫单色器，是分光光度中最主要的部分，分光光度计的测量精度、准确度都与它有关。单色器一般有棱镜或光栅、滤光片、可调谐激光单色器，其中棱镜或光栅的单色性最好，价格高。6、 光热学名词解释：可见光透射比：在可见光谱38078

32、0nm波长范围内，透过玻璃光强度与入射玻璃光强度的百分比。可见光反射比：在可见光谱380780nm波长范围内，玻璃表面反射光强度与入射玻璃光强度的百分比。太阳能透射比：在太阳光谱3002500nm波长范围内，透过玻璃的紫外光、可见光和近红外光总能量的百分比。太阳能反射比：在太阳光谱3002500nm波长范围内，玻璃表面的紫外光、可见光和近红外光总能量的百分比。遮阳系数sc：指在相同条件下，太阳辐射能量通过玻璃的热量与通过3mm透明玻璃的热量之比，遮阳系数越小，阻挡光直接辐射的性能越好。传热系数u或k值：指物体两侧温度相差1时，在单位面积内通过物体所传递的热量。其值与测试条件有关，同一种玻璃在不同测试标准条件下，其传热系数的值是不同的。目前国际上有三种标准，分别为美国标准、欧洲标准、中国