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文档简介
1、工程科技微电子学前沿问题,1,DSM/VDSM与纳米尺度IC设计,SOC是DSM/VDSM与纳米尺度IC 精确的模型 统一的物理设计方法 纳米(90nm)尺度IC设计方法 超越传统金属/介质系统的互连线新概念,工程科技微电子学前沿问题,2,SOC 是DSM/VDSM与纳米尺度IC,SOC的特点 一定是采用深亚微米/超深亚微米(DSM/VDSM)工艺制造的。通常DSM指0.5m,而VDSM指0.18m,而纳米尺度指0.1m(100nm) SOC要求面积小、密度高;速度快、性能高;电压/功耗低、可靠性高。其中性能是核心 精确的模型 器件模型 逻辑元件模型 互连线模型 统一的物理设计方法 纳米(90
2、nm)尺度IC设计方法,工程科技微电子学前沿问题,3,精确的模型,用于SPICE模拟的精确器件模型 DSM/VDSM下的问题 器件中原来的次要(二级)效应成为一级效应 短、窄沟效应、DIBL等 强场效应:热载流子;速度饱和等 衬底杂质非均匀分布、器件结构变化 源漏寄生电阻 亚0.1微米效应:栅耗尽;速度过冲;量子效应等 一维模型成为二、三维模型 实验发现,不同几何尺寸(W, L)器件的电学特性也不相同 射频(RF)模拟电路要求非常精确的模型 工业标准电路模拟器STAR-HSPICE所用的模型,工程科技微电子学前沿问题,4,BSIM 短沟绝缘栅场效应晶体管(Berkeley Short-chan
3、nel IGFET)模型 基于准二维分析,考虑了DSM、VDSM尺寸器件的各种效应,是新发展起来的基于物理机理的模型 版本进化 BSIM3V3.2:6/16/1998 BSIM3V3.2.4:1/1/2002 BSIM3V3.3:7/29/2005 BSIM4.3.0:5/9/2003。适于亚0.1微米MOS器件。以及BSIMSOI3.1.1:2/28/2003 BSIM4.5.0: 7/29/2005 实例:TSMC 0.18m CMOS器件的BSIM3-SPICE模型 PMOS、NMOS各12个Level-49模型 W范围4个:10110.1、10.11.3、1.30.6,0.60.22m
4、 L范围3个:211.2、1.20.5、0.50.18m 工艺偏差各分三种:Typical,Fast,Slow 每个模型163个参数 共72个模型,总计11,736个参数,北京邮电大学自动化学院,工程科技微电子学前沿问题,5,BSIM模型的演化 CMC(Compact Model Coucil)组织 1995年3月由TI、IBM、Hitachi、Infineon、AMD、Motorola等公司发起,现有23个大公司成员 旨在促进电路模拟用器件紧缩模型的发展与标准化,工程科技微电子学前沿问题,6,器件模型新进展:0.1微米;射频;低压低功耗 BSIM4: UC Berkeley by Chenm
5、ing Hu, Mansun Chan, Xuemei (Jane) Xi, Kanyu M. Cao, Hui Wan, Wendong Liu, Xiaodong Jin, Jeff Ou MOS9, 11: Philips Reserch Laboratories by D.B.M. Klaassen, R. van Langevelde, A.J. Scholten EKV: Swiss Federal Institute of Technology by Christian Enz, Francois Krummenacher, Eric Vittoz HiSIM: Hiroshim
6、a(广岛) University, STARC by M.Miura-Mattausch, H.Ueno,工程科技微电子学前沿问题,7,射频(RF)下的器件模型 RF-MOSFET的性能 fT:增益带宽 Ga:增益 NF:噪声系数,工程科技微电子学前沿问题,8,准静态(QS)模型到非准静态(NQS)模型 QS忽略了沟道电荷建立需要时间 NQS采用沟道电荷弛豫时间方法,工程科技微电子学前沿问题,9,工程科技微电子学前沿问题,10,QS与NQS模拟比较,工程科技微电子学前沿问题,11,射频下MOSFET等效电路,工程科技微电子学前沿问题,12,射频无源元件 片上电感:CMOS衬底射频损耗导致低Q值
7、。两种 压焊线(bondwire)电感: 0.1-4nH;Q值50(2GHz);容差+/-20% 平面螺旋电感(planar spiral): 100nH; Q值10;自谐振问题严重;占用面积大 缺乏电感普适性模型:当前只有经验性模型,满足高准确度的要求 片上电容 构成方法 栅电容:单位面积电容值最大,必须工作于强反型区,线性范围有限 金属绝缘体金属(MIM)电容,它具有很好的线性范围 多晶硅氧化层多晶硅(POP)结构的平行板电容 集成变容管:二极管型调节范围典型值为10;反型模式可调节范围仍受限于源漏寄生电容;积累模式可调节范围可以达到30;栅控模式可调节范围可达53,工程科技微电子学前沿问
8、题,13,用于逻辑模拟的精确元件模型 常规的延时模型: Td_total = Td_intrinsic + kCload 采用线性的负载电容关系 DSM/VDSM下的问题 逻辑元件延时与负载电容呈非线性关系 与输入信号变化斜率(ISM)有关:Ttotal=f(ISM, Cload) 解决办法 新的延时模型采用4x4矩阵表 + 线性内/外插方法 实例:全加器模型,共48个4x4矩阵、768个参数 输入a、b、c,输出本位和s、进位co 延时关系 对a与s间的延时关系有8种情况 a、b、c排列组合3种 每种4x4矩阵表 对s、c两个独立输出的延时 共48个4x4矩阵、768个参数,工程科技微电子学
9、前沿问题,14,用于布线后仿真的精确互连线模型 DSM/VDSM下的问题 一维模型 二、三维模型 集总电容模型 RCL传输线的RC树型分布网模型 接触电阻和源漏电阻:注入、扩散区成为高阻区 金属线覆盖电容和边缘电容:平行板电容模型精度差 解决方法 采取逐线提取(net-by-net extraction)、全3D场方程解法 对于初始提取得到的复杂RC网络约简提高提取速度 用与直接制造、测试数据比较的方法进行校准,以保持5%的精度 在互连线延时占优势的情况下,不仅SOC设计、验证,而且功耗、时序、信号完整性与可靠性分析都需要互连线信息的精确、快速提取,工程科技微电子学前沿问题,15,统一的物理设
10、计方法,DSM、VDSM工艺下互连线延时占优势的基本事实震撼了传统的设计方法 问题 传统设计过程划分为前端网表设计和后端物理设计 互连延时只有在后端物理设计的布局、布线完成后才能精确知道,则在前端网表设计时缺少主要的延时信息 当后端物理设计不能满足时序要求时很难预料前端设计的改进方向 前后端设计脱节产生的盲目性导致了设计迭代次数增加,甚至造成迭代过程不收敛(convergency, closure)的致命问题 布局、布线稳定性的概念 网表变化时,版图变化不剧烈 设计迭代可收敛 在设计初期就能对互连拓扑关系尽量精确地模型化,以布局规划(Floor-planning)为代表的物理综合成为SOC设计
11、关键 将对互连有关键影响的物理特性融入到前端设计中,保持时序在整个设计流程中的精确性与一致性,工程科技微电子学前沿问题,16,物理综合方法 初始输入 高层次网表(RTL模块为空)、硬IP的时序和物理模型、高层次设计约束、I/O布局 黑盒子规划 初始布局:空RTL模块(其时序与面积由用户根据快速特性模型预估)、硬IP模块 电源总线规划:为更精确地预见整体设计 设计规划总体布线器快速粗布顶层布线网,并预估模块间互连延时。发现时序与布线拥挤问题时及时调整模块划分,重复迭代 寄生参数提取对顶层线网生成精确延时模型,传给设计预算器 预算器产生每个模块的物理可知的综合约束 输出:初始布图、初始顶层电源规划
12、、各模块初始综合约束、初始顶层布线 RTL规划 写出RTL模块,由RTL预估器根据综合约束生成预估门级网表 基于这一更精确的RTL描述布局布线、调整迭代、产生延时模型 输出:各模块的“全定制”线负载模型、细化调整的整体布局和物理设计、调整后的各模块设计预算,工程科技微电子学前沿问题,17,门级规划 由各模块“全定制”线负载模型和调整后的各模块设计预算对每个RTL模块再综合(并行)生成最后网表 对每个RTL模块详细布局布线(并行)、产生RTL模块和整个芯片的时钟树 发现时序问题:调整单元、管脚;改权重、布图拓扑结构;对问题大的模块重新综合 发现布线拥挤问题:除上述方法外,顶层重新布线 输出:最后
13、的整体布局、管脚分布和顶层布线;各模块门级网表和详细布局;时钟树综合结果、缓冲器分配 布线与物理设计 在门级规划基础上,完成各RTL模块最后布线。只需细微优化(调整门的大小、插入缓冲器等),即可解决布线后发现的时序问题,工程科技微电子学前沿问题,18,纳米(90nm)尺度IC设计方法问题,设计实现纳米尺度IC,开始于互连、也结束于互连 互连占优势 Al-SiO2 :0.25m Cu-low:0.13m 90nm时,互连延时会占总延时的75 互连延时性质变化 信号完整性(SI) 电源线网压降(IR drop) 90nm设计的时序分析若不包括SI、IR drop将是没有意义的,工程科技微电子学前沿
14、问题,19,SI与IRdrop问题 交叉耦合(cross coupling) 寄生电容:从与地线耦合 (与线长成比例)扩展到与 邻线耦合(不再与线长成 比例) 邻近线间电容交叉耦合导 致延时不规律地变化 右图为0.18 m工艺下, 线距为1x和2x的变化例子。 1x时: 1mm线长:+/-30% 3mm线长: +80/-60% 电源线网的压降(IR drop) 电源/地(PG)线网的电阻产生IR drop,随特征尺寸减少而迅速增加 电源电压因IR压降从1.7V降到1.6V会引起50以上的延时变化 有研究表明, 0.18 m的设计仅因这一额外的IR drop问题导致20%设计在首次投片失败,工程
15、科技微电子学前沿问题,20,持续收敛方法 传统的线性设计流程不再有效,需要新的设计策略 布局规划是不够的 物理综合是不够的 纳米设计方法持续收敛技术 每日虚拟出带(virtual tape-out every day)方法 初始全芯片设计表示:硅虚拟原型(Silicon Virtual Prototype, SVP) SVP并发地处理设计和可制造性的所有问题 每天通过虚拟出带看到朝着最终目标可预测、可测量的系统进展,工程科技微电子学前沿问题,21,硅虚拟原型(SVP):是持续收敛方法的关键 它必须是一个足够接近于出带质量的全芯片实现 其迭代速度足够快,以便尝试不同方式的实现 是一个集成了所有E
16、DA工具的通用设计平台,工程科技微电子学前沿问题,22,对层次化与高容量flat能力支持的需求 层次化:面对1billion器件的SOC设计必须层次化 高容量flaten能力:模块规模10M器件,希望不采用嵌套(开销、优化限制)方法 纳米布线需要:在初始、最终阶段都重要 考虑物理的布线(Physical-aware Routing) 考虑制造的布线(Manufacturing-aware Routing) 复杂设计规则:铜制程、多通孔、变宽度/间距布线、天线效应。 光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction, OPC)与相移掩模(Phase Shift Mask
17、, PSM) 大量布线能力与性能:10M门/日;并发寻址寄生参数提取、静态时序分析(STA)和信号完整性分析(SI,工程科技微电子学前沿问题,23,纳米IC设计物理分析需要 所见非所得(What you see is not what you get):需要纳米级的精确分析工具 寄生参数提取:单元模型应当是instance-specific 延时计算:考虑动态延时 信号电迁移:Cu制程也有电迁移,包括AC(300MHz)、DC引起的电迁移 电源网格分析:PG网占总连线约三分之二,要考虑IR和EM 电感:与SI密切相关,工程科技微电子学前沿问题,24,小结:纳米尺度IC设计技术问题,多数与互连线
18、相关 设计尺寸与复杂性:是层次化设计,则与互连线相关 需解决:设计能力;提早的精确分析;层次化管理 基于SI和IR的定时:与互连线相关 精确定时需要:实际的连线;先进的互连线模型;复杂的物理分析 IR drop(电源/地网设计) :与互连线相关 需解决:性能与抗噪;PG网抗电迁移的稳健性;降低功耗、漏电等问题 串扰与电感:与互连线相关 需解决:串扰引入的噪声 (SI);电感引入的效应(互连线串扰、PG网振铃) 电迁移(EM):与互连线相关 需解决:电子风引起的金属空洞与堆积;互连线自热效应 数字-模拟集成: 50%的SOC含A/MS。与互连线有些相关(somewhat) 功耗:与互连线有些相关
19、(somewhat) 系统信号传输:考虑封装。与互连线相关 制造规则:铜互连、CMP、EUV光刻、天线效应等导致复杂设计规则。与互连线相关 成品率优化:设计中值技术取代工艺角方法。与互连线相关,工程科技微电子学前沿问题,25,超越传统金属/介质系统的互连线新概念,新概念 设计选择:通过设计修改全局互连。方法、工具、异步(取消全局互连) 封装中间互连:将部分性能要求高的互连移到封装“sea of leads”。成本、可靠性问题 3D互连:认为是获得高密度封装与互连最有效方法,多层叠放、3D集成repeater达到减少全局互连延时。散热问题 RF/微波互连:片上局域网(LAN on a Chip)
20、。成本、面积、功耗、新系统架构问题 光互联:认为是解决全局互连的主要选择。光信号、设计工具问题 其他方法:纳米管、自旋耦合、分子互连等,工程科技微电子学前沿问题,26,说明 全局互连线 用插入重复器(repeater)减少延时 确定全局互连线长、宽 确定插入重复器(反相驱动器)的数目 确定驱动器的晶体管尺寸 存在反相器链晶体管尺寸的优化问题,工程科技微电子学前沿问题,27,3D-IC互连:文献报道的三种方法,a) Saraswat,b) Neudeck,c) Antoniadis,工程科技微电子学前沿问题,28,RF/微波互连 共平面波导:CPW (coplanar waveguide) 微带
21、传输线:MTL (microstrip transmission line) 芯片间通信是通过在MCM内的微型无线局域网(M-WLAN,工程科技微电子学前沿问题,29,用于互连的硅微光学(Silicon Micro-photonics) 硅微光学可能是解决进入纳米尺度SOC互连的主要途径 光学元件 光产生:例如,硅铒激光二极管(Si-Erbium LED) 光传播:例如, Si/SiO2光纤 光探测:例如,Si/Ge探测器,工程科技微电子学前沿问题,30,优点 将互连线LRC引起的延时最小化 提供精确的时钟分布与系统同步 大大减少因互连线引起的功耗 大大改善因互连线引起的串扰、电压隔离、阻抗匹
22、配、管脚电感等问题,工程科技微电子学前沿问题,31,SOC设计、验证与IP复用,工程科技微电子学前沿问题,32,软硬件协同设计方法,软硬件协同设计(HW/SW Co-design)的主要内容 系统的划分(Partitioning)理论与技术 硬件系统和软件系统的评估函数;划分算法 两个层次:软件与硬件的功能划分;各自内部功能的划分 软硬件协同分析、验证(理论和技术)和测试方法 软硬件的生成与优化(综合的理论与技术) 主要设计步骤 系统建模 数据流图(DFG):适于DSP系统 有限状态机(FSM):适于控制为主系统 通信顺序处理(CSP) 程序状态机(PSM):适于控制/数据为主系统,软件应用
23、VHDL/Verilog:硬件与某些软件应用,工程科技微电子学前沿问题,33,系统方案评估 性能 硬件:速度或数据率、芯片尺寸、可测试性、功耗等 软件:执行时间、程序/数据/存储器的尺寸、流水作业性等 成本:经费成本、设计人力成本等 迅速产生对系统的一系列软硬件划分方案以供选择 优化的划分方案 准备工作:定义目标粒度;选择设计标准;选择评估模型;定义衡量划分质量的单一成本值 寻找大量可能划分的一个优化的子集 协同综合 软件综合:用传统的编译器把复杂描述转换为传统软件程序 硬件综合: 高层综合:算法级综合、行为级综合、系统级综合 RTL综合:包括顺序综合、逻辑综合、工艺映射 协同模拟:RTL(硬
24、)+指令集(软,工程科技微电子学前沿问题,34,SystemC与OSCI 1999年9月27日成立开放SystemC促进会(OSCI,Open SystemC Initiative),主要的发起单位有Synopsys、CoWare、Frontier、VSIA等50多个EDA、系统和IC公司 SystemC 是近年来发展的一种基于C/C+风格的、有利于系统级IP建模与交换的系统描述语言 旨在建立推动SOC设计产业的、具有互操作性的工具平台 它并不用特殊的语言结构扩展C/C+,而是采用建立C+类型库的方法,仍然使用ANSI-C+编译器。包括一个C+类型库和一个小巧的模拟器内核 OSC Kit和授权
25、 目的:互操作性 源码修改: 成员共享 商用授权通过代理,统一的SystemC语言,工程科技微电子学前沿问题,35,SystemC架构 Core仅提供一小组constructs,建立与硬件结构化描述、并发、通信、同步等有关的描述模型,工程科技微电子学前沿问题,36,SystemC克服C/C+不具并发性、无时间概念、缺少硬件类型的通信、重启动和多数据种类 模块:SC_MODULE,是结构化、层次性实体,内部可含其他module或进程(process)。模块的constructor是SC_CTOR 进程:PROCESS,非层次性,由敏感信号引发,有三种 方法:SC_METHOD,无自己的执行线程
26、线程:SC_THREAD,有自己的执行线程 时钟线程:SC_CTHREAD,必须同时指定时钟,敏感信号即时钟 端口:PORT,单、双向 信号:SIGNAL 分辨(resolved)信号:sc_signal_rv,具有多个驱动源,须接分辨端口 非分辨(unresolved)信号 时钟:SC_CLOCK,按时序正确模拟硬件的并发事件 多种数据类型:sc_bit; sc_logic; sc_int; sc_uint; sc_bigint; sc_biguint; sc_bv; sc_lv; sc_fixed; sc_ufixed; sc_fix; sc_ufix; 等 基于周期(cycle-base
27、d)的模拟内核:可以实现快速模拟 支持多种抽象级别:系统级、算法级、RTL等 通信协议:提供多种通信语义义以在不同抽象级别描述SoC和系统I/O协议,工程科技微电子学前沿问题,37,描述D触发器的例子 最新版本:SystemC 2.0.1,2001年,作者 Synopsys, Inc.:Stan Y. Liao, etc. CoWare, Inc.:Harish Sarin, etc,VHDL Library ieee; Use ieee.std_logic_1164.all; Entity dff is Port(clock: in std_logic; Din: in std_logic;
28、 Dout: out std_logic); End dff; Architecture rtl of dff is Begin Process Begin Wait until clockevent and clock=1; Dout=din; End process; End rtl,Verilog Module dff(din, clock, dout); Input din; Input clock; Output dout; Reg dout; Always (posedge clock) Dout=din; End module,SystemC / dff.h #include “
29、systemc.h” SC_MODULE(dff) Sc_in din; Sc_in clock; Sc_iout dout; Void doit() Dout=din; SC_CTOR(dff) SC_METHOD(doit); Sensitive_pos clock;,工程科技微电子学前沿问题,38,SOC的设计任务与流程 要求系统级厂商与半导体厂商更加密切的结合,工程科技微电子学前沿问题,39,需要统一的语言:统一的C/C+语言风格,使工业界能够实现 系统级IP的模型建立与交换 可互操作的工具构架的建立,工程科技微电子学前沿问题,40,采用统一的SystemC设计方法,工程科技微电子学前
30、沿问题,41,系统级HW/SW协同设计、功能块产生、系统集成,工程科技微电子学前沿问题,42,SOC的高复杂性使验证成为设计的主要任务 传统模拟验证方法的问题 需要合理而充分地选取输入激励图案 不完备(incompleteness) ,不能完全保证正确性 模拟时间太长,占据50%以上工作量 模拟结果需要手工比较 解决方法:快速与完备性验证 静态验证(STV or STA, Static Timing Verification or Analysis; FV, Formal Verification) 快速模拟(CBC, Cycle Based Simulation; NCC, Native C
31、ompiled Code Simulator) 硬件仿真(Hardware Prototype)、并行与分布式处理,SOC验证问题,工程科技微电子学前沿问题,43,静态时序分析(STA) 方法:将整个设计分成路径集合,计算每个路径的延时,检验是否违反时序要求 优点:覆盖所有路径,不需要输入激励图案,速度比传统的动态时序模拟方法快若干数量级倍,因而具有几百万门规模的分析能力,它还可以给出充分的时序违反报告 缺点:仍然是不完备的验证,需要采用形式验证方法进行功能等价性检验 形式验证(Formal Verification)方法 优点 从数学上完备地验证电路实现对设计规范的符合性或正确性 用数学方法
32、直接比较验证,不需要输入激励图案 可以进行从系统级到门级验证,速度快,工程科技微电子学前沿问题,44,形式验证种类 等价性验证:两个方案的等价性。用于低层次验证,已有商品化工具 性质验证:验证方案是否满足用户给定的某些规则或性质,用于高层次验证,尚不成熟 模型判别(Model Checking):把要验证的时序电路抽象为有限状态机(FSM)模型,用计算树逻辑(CTL)时态语言描述规则或性质,采用状态机分析或态空间搜索验证符合性 语言包含(Language Containment):验证两个自动机方法间的语言包含关系 符号轨迹求值(Symbolic Trajectory Evaluation):
33、用符号变量代替传统模拟方法中的确定布尔值,一个周期就可得到所有可能的输出结果。只适于组合电路,工程科技微电子学前沿问题,45,采用符号模型验证(SMV)方法,通过电路态空间穷尽搜索确认系统规范 用二叉决策图(BDD)建立FSM模型表示电路:BDD是一个有向无环图,电路可以用有序节点+逻辑值边的集合有序BDD表示 用CTL时态语言描述规则或性质:包括A(All)、E(Exist) 两种路径量词, G(Global)、X(Next)、F(Final)、U(Until) 四种时态操作符,组合得到八种CTL时态操作符:Ex f,E f U g,EG f,AX f,EF f,AF f,AG f,A f
34、U g 符号模型判别(Temporal Logic Model Check):计算FSM模型的合法状态空间S;计算满足待验证的CTL性质的状态集合T;然后比较是否有T S。若态s S但s T,则说明电路有些态不满足待验证性质,工程科技微电子学前沿问题,46,智权(IP)模块与设计复用,SOC设计是基于IP的嵌入式设计,uP DSP Memory I/O Specialty Control Analog RF,工程科技微电子学前沿问题,47,IP模块的属性 芯片系统组成 MCU核;DSP核;Memory核;总线与接口模块 模拟电路、RF处理器;数字模拟混合信号电路 嵌入式软、硬件 IP模块 由相
35、应模块的专家完成,通过授权的技术转移被用到芯片系统中 IP模块必须具有可复用特征 有软件、固件、硬件三种形式 硬核(Hardcore):经投片验证的版图。代价最高,可重复使用性最低。IP商提供的在特定工艺下的版图级模块,系统商不能进行任何改动。相当于库单元。则IP商的知识产权可完全得到保护 软核(Softcore):可综合RTL模型。可重复使用的灵活性最高 固核(Firmcore):带有布局规划信息的逻辑门级网表。 IP商提供的与工艺无关的RTL代码或门级网表。系统商可根据需要改动,灵活性大。但IP商的知识产权不易得到保护,工程科技微电子学前沿问题,48,工程科技微电子学前沿问题,49,IP设
36、计方法及在SOC设计中的应用 SOC设计是基于IP的嵌入式设计:关键技术是设计再利用 设计的可重复使用性、可重复综合性、可重复集成性 在各个层次上使用IP模块 IP设计方法及在SOC设计中的应用 IP模块的设计:包括IP模块的确定和定义、Soft/ Firm/Hard Core的标准化模块设计和生成、 IP模块的参数化和可复用性研究 IP模块的利用:包括IP模块间的通信和接口综合技术,SOC中IP模块的验证、测试和容错技术 SOC设计的“IP化”(即基于IP的SOC设计技术):包括面向可复用IP模块的系统芯片集成、可靠性设计以及性能优化技术 关键IP模块研究与开发 主要应用市场为3C领域,合占整个市场需求的90% 针对多媒体、数字移动电话、Internet硬件、 VCD/DVD、 CD/DVD-ROM硬驱、数码相机、数字摄象机等应用 Star-IP:
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