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文档简介
1、1,第七章 特征操作,特征操作是对已创建特征模型进行局部修改,从而对模型进行细化,即在特征建模的基础上增加一些细节的表现,因此有时也叫细节特征。通过特征操作,可以用简单的特征创建比较复杂的特征实体。,2,常用特征操作,细节特征: 边缘倒圆、边缘倒角、面倒圆、软倒圆和拔锥等。 相关复制:WAVE几何链接器、抽取、合成曲线、特征引用阵列、镜像特征、镜像体、几何体引用阵列和提升体等。 组合体:布尔求和、求差与求交;缝合与补片体等。 修剪:修剪体、修剪片、修剪与延伸等。 偏置与比例:偏置面、比例体与壳(挖空)等。,3,边倒圆,边倒圆操作功能就是按照用户指定的半径值对预选的实体边进行倒圆操作,以产生平滑
2、过渡。 在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【细节特征】/【边倒圆】。UG NX 6共提供了3种边倒圆的方式。,4,边倒圆,5,思考练习,【练习7-1】边倒圆edge_blend_1.prt,Tangent Curves,Face Edges,6,思考练习,【练习7-2】编辑边倒圆blend_edit_dryer.prt,Edge Blend (24),Edge Blend (25),Edge Blend (26),7,边倒角,边倒角功能是在选定的两组面之间进行倒角操作,并可对面进行裁剪操作。 在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【细节特征】/【倒斜角】。,
3、对称,非对称,偏置和角度,8,思考练习,【练习7-3】建立倒角chamfer_1.prt,Offset and Angle Offset =1.75 Angle = 30,Asymmetric Distance 1 = .25 Distance 2 = .5,9,拔模,拔模是将指定特征模型的表面或边沿指定的方向倾斜一定的角度。 在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【细节特征】/【拔模】。,10,拔模,从平面拔锥,从边缘拔锥,11,拔模,相切到面,到分模边缘,12,思考练习,【练习7-4】拔模draft.prt,设计意图是: 当前部件底部(1)和凸垫顶部(2)的尺寸必须维持不变
4、。 在所有外部表面上作用一10度拔锥。 拔模方向必须关联到部件底部(1)和凸垫顶部(2)。 圆形凸台(3)的外顶端点须保持在当前位置不变。 作用一5度拔锥到内部孔。维持开口(4)的尺寸,Angle =10,13,思考练习,14,面倒圆,面倒圆操作功能就是在用户选取的表面之间创建一个相切于选取表面的倒圆特征。 在【特征操作】工具栏中单击或选择菜单命令【插入】/【细节特征】/【面倒圆】。,15,软倒圆,软倒圆与面倒圆的操作基本相同,不同之处在于面倒圆可指定圆角类型及半径方式,而软倒圆则需要根据两相切曲线以及圆角形状控制参数来决定倒圆面的形状。 在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/
5、【细节特征】/【软倒圆】。,16,实例特征,实例特征操作可以是对已有特征产生阵列(矩形阵列或环形阵列)、图样面等操作。实例操作产生的特征实际上是按照用户设置的特征分布位置实现对已有特征的复制,这些实例特征对象称为特征的成员,当修改其中任何一个成员特征的参数时,所有成员特征的参数均会得到更新。 注意: 1、有布尔操作的特征的引用阵列必须与父实体保持相交。 2、不能建立下列特征的引用:壳(控空)、倒圆、倒角、偏置片体、基准、修剪的片体、拔锥、修剪体等特征与自由形状特征。,17,实例特征,在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【关联复制】/【实例特征】。在其中通过选择不同的实例方式,
6、可以完成特征不同的实例操作。系统共提供了3种不同的实例操作方式。,18,矩形引用阵列,矩形引用阵列用于从一个或多个选择的特征建立一线性的引用阵列。 矩形引用阵列或是建立在XC和YC中的两维(几行特征)中 或是建立在XC或YC中的一维(一行特征)中, 这些引用阵列基于加入的数和偏置距离、平行于XC和/或YC轴生成。 1. XC和YC方向的引用数必须是大于零的整数。 2. 偏置值可以是正或负。,19,矩形引用阵列,20,思考练习,【练习7-5】矩形引用阵列instance_arrary_1.prt,Orient,Method = General Number Along XC = 2 XC Off
7、set = 1.25 Number Along YC= 3 YC Offset = 0.687,21,圆形引用阵列,1. 引用数必须是大于零的整数。 2. 角度值可以是正或负。,22,思考练习,【练习7-6】圆形引用阵列instance_array_2.prt,Extrude (5) Boss (6) Boss (7) Extrude (9) Simple Hole (12),Method = General Number = 3 Angle = 120,Edit Parameters: Number = 4 Angle = 90,Cross Section = Symmetric Dista
8、nce = 1.5 Chamfer All Instance = ON,23,镜像体,该功能用于以用户选取的基准平面来镜像所选的实体特征。 如果在原来体中的特征参数改变, 引起原来体改变, 这些改变也将反映在镜像体中。 如果编缉相关基准面参数,镜像体会相应改变。 如果删除原物体或基准面, 镜像体也被删除。 如果移动原来体, 镜像体也会移动。 可以添加特征到镜像体。 可以利用Unite操作来组合原物体和镜像体以建立一对称的模型。,24,镜像体,在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【关联复制】/【镜像体】。 如果勾选“固定于当前时间戳记”,那么在镜像体之后,对原来体做的任何修改都
9、不反映在镜像体中,该选项默认设置为勾选。,25,思考练习,【练习7-7】镜像体mirror_hair_dryer.prt,26,修剪体,利用一个表面、基准面或其它几何体去修剪一个或多个目标体,被修剪的体取得修剪几何体的形状。 所有参数化信息被保留。 必须选择至少一个的目标体,即使只有一个可能的目标体时。 可以选择单个面、同一实体的多个面或基准面去修剪目标体。 在【特征操作】工具栏中单击按钮或选择菜单命令【插入】/【修剪】/【修剪体】。,27,修剪体,28,思考练习,【练习7-8】修剪体trim_body.prt,29,壳,利用壳命令按照用户指定的厚度对一个实体进行挖空操作或围绕它建立一壳体。 在【特征操作】工具栏中单击图标或选择菜单命令【插入】/【偏置/缩放】/【抽壳】。,30,思考练习,【练习7-9】 建立一壳体shell_hair_dryer.prt,31,思考练习,【练习7-10】 建立壳与编辑方向shell_face_selection.prt,32,思考练习,【练习7-11】 具有不同壁厚的壳体shell_alternate_thickness.prt,Tangent Faces,Alternate Thickness,33,思考练习,【练习
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