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文档简介

甲方:XXX乙方:XXX20XXCOUNTRACTCOVER专业合同封面RESUME甲方:XXX乙方:XXX20XXCOUNTRACTCOVER专业合同封面RESUMEPERSONAL

2024年专业知识产权申报服务合作合同版B版本合同目录一览1.服务内容1.1知识产权申报1.1.1专利申报1.1.2商标申报1.1.3著作权申报1.1.4集成电路布图设计申报1.2知识产权咨询1.2.1专利咨询1.2.2商标咨询1.2.3著作权咨询1.2.4集成电路布图设计咨询1.3知识产权维权1.3.1专利维权1.3.2商标维权1.3.3著作权维权1.3.4集成电路布图设计维权2.合作期限2.1服务开始日期2.2服务结束日期3.费用与支付3.1服务费用3.1.1专利申报费用3.1.2商标申报费用3.1.3著作权申报费用3.1.4集成电路布图设计申报费用3.2咨询费用3.2.1专利咨询费用3.2.2商标咨询费用3.2.3著作权咨询费用3.2.4集成电路布图设计咨询费用3.3维权费用3.3.1专利维权费用3.3.2商标维权费用3.3.3著作权维权费用3.3.4集成电路布图设计维权费用3.4支付方式4.双方义务与责任4.1甲方义务4.1.1提供真实、完整的知识产权信息4.1.2配合乙方完成申报工作4.2乙方义务4.2.1按照约定时间完成申报工作4.2.2保密甲方提供的信息4.2.3协助甲方维权4.3甲方责任4.3.1因甲方提供信息不真实、不完整导致申报失败,由甲方承担责任4.3.2未按约定时间支付服务费用,甲方应支付违约金4.4乙方责任4.4.1未按约定时间完成申报工作,乙方应支付违约金4.4.2乙方泄露甲方提供的信息,乙方应承担相应法律责任5.争议解决5.1双方应友好协商解决合同履行过程中的争议5.2如协商不成,任何一方均有权向合同签订地人民法院提起诉讼6.合同的生效、变更与终止6.1本合同自双方签字(或盖章)之日起生效6.2合同的变更6.2.1双方同意,合同的变更需书面协议6.2.2变更协议经双方签字(或盖章)后生效6.3合同的终止6.3.1合同到期,双方未续约6.3.2双方协商一致提前终止合同6.3.3一方严重违反合同规定,另一方有权提前终止合同7.保密条款7.1双方在合同履行过程中所获悉的对方的商业秘密和机密信息,应予以严格保密7.2保密期限自合同生效之日起算,至合同终止之日起五年8.法律适用与争议解决8.1本合同的签订、履行、解释及争议解决均适用中华人民共和国法律8.2如发生合同纠纷,双方应友好协商解决;协商不成时,任何一方均有权向合同签订地人民法院提起诉讼9.其他条款9.1本合同一式两份,甲乙双方各执一份9.2本合同未尽事宜,双方可另行协商补充10.甲方(盖章):11.乙方(盖章):12.签订日期:13.签订地点:14.附件(如有):第一部分:合同如下:1.服务内容1.1知识产权申报1.2知识产权咨询1.2.1乙方负责为甲方提供专业的专利咨询服务,包括但不限于专利战略规划、专利布局、专利无效和侵权分析、专利预警以及专利培训等服务。1.2.2乙方负责为甲方提供专业的商标咨询服务,包括但不限于商标战略规划、商标布局、商标异议和答辩、商标维权以及商标培训等服务。1.2.3乙方负责为甲方提供专业的著作权咨询服务,包括但不限于著作权战略规划、著作权布局、著作权异议和答辩、著作权维权以及著作权培训等服务。1.2.4乙方负责为甲方提供专业的集成电路布图设计咨询服务,包括但不限于集成电路布图设计战略规划、布局、异议和答辩、维权以及培训等服务。1.3知识产权维权1.3.1乙方负责为甲方提供专业的专利维权服务,包括但不限于专利侵权分析、专利无效宣告请求、专利行政诉讼以及专利侵权诉讼等服务。1.3.2乙方负责为甲方提供专业的商标维权服务,包括但不限于商标侵权分析、商标异议申请、商标行政诉讼以及商标侵权诉讼等服务。1.3.3乙方负责为甲方提供专业的著作权维权服务,包括但不限于著作权侵权分析、著作权异议申请、著作权行政诉讼以及著作权侵权诉讼等服务。1.3.4乙方负责为甲方提供专业的集成电路布图设计维权服务,包括但不限于集成电路布图设计侵权分析、异议申请、行政诉讼以及侵权诉讼等服务。2.合作期限2.1服务开始日期:双方在本合同签订之日起的十五个工作日内,乙方开始为甲方提供服务。2.2服务结束日期:本合同约定的服务内容全部完成之日。3.费用与支付3.1服务费用3.2咨询费用3.2.1专利咨询费用:人民币【】元整(大写:【】元整),用于支付专利战略规划、专利布局、专利无效和侵权分析、专利预警以及专利培训等服务费用。3.2.2商标咨询费用:人民币【】元整(大写:【】元整),用于支付商标战略规划、商标布局、商标异议和答辩、商标维权以及商标培训等服务费用。3.2.3著作权咨询费用:人民币【】元整(大写:【】元整),用于支付著作权战略规划、著作权布局、著作权异议和答辩、著作权维权以及著作权培训等服务费用。3.2.4集成电路布图设计咨询费用:人民币【】元整(大写:【】元整),用于支付集成电路布图设计战略规划、布局、异议和答辩、维权以及培训等服务费用。3.3维权费用3.3.1专利维权费用:人民币【】元整(大写:【】元整),用于支付专利8.双方义务与责任8.1甲方义务8.1.1提供真实、完整的知识产权信息,包括但不限于知识产权的名称、性质、技术领域、创新点等。8.1.2配合乙方完成申报工作,包括但不限于提供必要的文件、资料、样品等,并确保所提供信息的准确性。8.2乙方义务8.2.1按照约定时间完成申报工作,并确保申报质量符合相关法律法规和标准要求。8.2.2对甲方提供的信息予以保密,不得泄露给任何第三方,除非取得甲方的书面同意。8.2.3在知识产权维权方面,乙方应协助甲方进行侵权分析、法律咨询、证据收集等,并在必要时代表甲方提起维权行动。8.3甲方责任8.3.1若因甲方提供信息不真实、不完整导致申报失败,或产生其他不良后果,由甲方承担相应责任。8.3.2若甲方未按约定时间支付服务费用,甲方应支付违约金,违约金的具体金额按照双方约定比例计算。8.4乙方责任8.4.1若乙方未按约定时间完成申报工作,乙方应支付违约金,违约金的具体金额按照双方约定比例计算。8.4.2若乙方泄露甲方提供的信息,乙方应承担相应法律责任,包括但不限于赔偿甲方因此遭受的损失。9.争议解决9.1双方应友好协商解决合同履行过程中的争议。9.2若协商不成,任何一方均有权向合同签订地人民法院提起诉讼。10.合同的生效、变更与终止10.1本合同自双方签字(或盖章)之日起生效。10.2合同的变更10.2.1双方同意,合同的变更需书面协议。10.2.2变更协议经双方签字(或盖章)后生效。10.3合同的终止10.3.1合同到期,双方未续约。10.3.2双方协商一致提前终止合同。10.3.3一方严重违反合同规定,另一方有权提前终止合同。11.保密条款11.1双方在合同履行过程中所获悉的对方的商业秘密和机密信息,应予以严格保密。11.2保密期限自合同生效之日起算,至合同终止之日起五年。12.法律适用与争议解决12.1本合同的签订、履行、解释及争议解决均适用中华人民共和国法律。12.2如发生合同纠纷,双方应友好协商解决;协商不成时,任何一方均有权向合同签订地人民法院提起诉讼。13.其他条款13.1本合同一式两份,甲乙双方各执一份。13.2本合同未尽事宜,双方可另行协商补充。14.附件(如有):第二部分:其他补充性说明和解释说明一:附件列表:1.附件一:知识产权信息清单详细列出甲方所有需要申报的知识产权信息,包括专利、商标、著作权等。清单应包含知识产权名称、申请号、类别、申请日期等详细信息。2.附件二:服务费用明细表详细列出各项服务的费用明细,包括申报费、咨询费、维权费等。明细表应包含费用项目、费用金额、费用支付时间等详细信息。3.附件三:时间安排表详细列出申报工作的时间安排,包括各阶段工作的开始和结束时间。时间安排表应包含申报项目、申报阶段、预计完成时间等详细信息。4.附件四:保密协议详细列出双方需要保密的信息范围,包括商业秘密、机密信息等。保密协议应明确保密期限、保密义务及违约责任等。5.附件五:知识产权权利证明文件提交已获得知识产权权利的证明文件,如专利证书、商标注册证、著作权登记证书等。证明文件应包含知识产权权利人信息、权利证书编号、权利取得日期等。6.附件六:乙方工作人员名单详细列出乙方参与项目的工作人员名单,包括姓名、职务、联系方式等。名单应确保甲方可以随时与乙方工作人员进行沟通和协调。7.附件七:知识产权维权案例分析提供乙方在过去一年内成功处理的知识产权维权案例分析报告。说明二:违约行为及责任认定:1.甲方违约行为及责任认定甲方未按约定时间支付服务费用,甲方应支付违约金,违约金比例双方另行约定。甲方提供虚假、不真实的知识产权信息,导致申报失败,甲方应承担由此产生的一切后果。甲方未配合乙方完成申报工作,导致申报失败,甲方应承担由此产生的一切后果。2.乙方违约行为及责任认定乙方未按约定时间完成申报工作,乙方应支付违约金,违约金比例双方另行约定。乙方泄露甲方提供的保密信息,乙方应承担相应的法律责任,包括但不限于赔偿甲方损失。乙方未履行保密义务,导致甲方知识产权信息泄露,乙方应承担相应的法律责任。3.示例说明若甲方在合同签订后一个月内未支付专利申报费用,则构成违约。甲方应支付违约金,违约金计算方式为未支付费用的5%。若乙方在合同约定的时间内未能完成专利申报工作,则构成违约。乙方应支付违约金,违约金计算方式为合同约定费用的10%。说明三:法律名词及解释:1.专利:指国家知识产权局根据专利法规定,授予发明人或者设计人对其发明创造享有的专有权利。2.商标:指用于区别商品或服务来源的标志,包括文字、图形、字母、数字、颜色组合等。3.著作权:指作者对其创作的文学、艺术和科学作品享有的法律权利。4.集成电路布图设计:指在半导体器件或集成电路中,为了实现特定的功能或效果而采取的图形设计。5.知识产权:

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