光刻版图设计中的一些注意事项

光刻版图设计中的注意事项目录原则光刻版的方向问题对版标记图形的选择第一层版的设计暗版的设计亮版的设计PCM工艺检测图形的设计背面对版标记的设计关于制版的原则在设计允许的前提下，工艺宽容度留得越大公艺就会越顺利大图形和小图形的尺寸的比例不要太悬殊，例如5um和100um有剥离工艺的光刻版尽量做成亮版，用AZ5200反转胶光刻第一版先用马路网格把cells分开注意版图的方向光刻版的方向下面是几个标定版图方向的方法对版标记的设计对版标记以每一个单元为单位设计如果每一个图形做一个自己的对版标记，不要重复使用对版标记不要用相同的对版标记做给不同的图形ABCDABCDABCDABCDABCDABCDabcdefgh对版标记图形对版标记以单元为单位管芯重复使用对版标记的选择T字形对版标记十字形对版标记品字形对版标记口字形对版标记100um40um15um第一层版的设计—有平行要求的如果是暗版，如果有要求图形与解理边平行的，要留一个找平用的框。另外，芯片上解理出一个边对准用显微镜下的版图感觉上的透光与不透光的转换透光部分第一层版的设计—针对小芯片如果一个芯片上只有一个图形，或者如果需要保证芯片有成品率的，第一版要给出每一个cell的边界，即分片间道，以保证金属电极能够成功地放入芯片。例子a是第一层版腐蚀版，亮版。b是第二层版金属电极版。a第一版芯片和芯片上的带胶图形版上的透光部分第二版b不合理的版图设计a暗版对版标记的设计如果暗版是套刻版，如金属版，要给出适当的透光的图形好能看到版下面的芯片上的对版标记。不易套刻的版，透光部分太小版图设计合理一些的版，增加了透光部分暗版的图形尺寸要求如果暗版是微细图形，图形尺寸在允许的范围内，最好大于3um，或5um。在允许的情况下，图形越大工艺就会越顺利。亮版图形尺寸的要求亮版是很受光刻工艺欢迎的版，因为大面积透光，使对版一目了然。亮版如果是剥离工艺，留胶图形至少大于5um，否则剥离困难。亮版如果是湿法腐蚀工艺，要求留胶图形大于2um，否则显影时图形容易吃掉。亮版对版标记的设计亮版的对版标记要有两种设计考虑，一种常规的设计，后一道的标记比前一道大；另一种反常规的设计，针对亮版的，后道的标记比前一道小。以防因为失误使设计的标记不能用。本道工艺的标记PCM工艺检测图形的设计对版标记版的序号总对版标记欧姆接触电阻测试图形曝光显影控制图形钝化膜检测光刻曝光显影控制图形精度为1um的光刻检测图形窗口光刻胶此设计是最高精度----1um光刻窗口的设计。尺度为：4，3，2，1um对于不同精度要求的光刻可以适当放宽尺度，如胶厚3um的图形，可以设计为：5，4，3，2或6，5，4，3um5um3um3um3um2um2um4um4um1um1um80um3um3um简化的显影检测图形曾经使用过的显影图形改进版的简化显影图形过显影的结果显影不足的结果缺点：不够精确，正常显影看起来就象欠的感觉欧姆接触测试图形的设计测试图形的基本尺寸：50x50um为了测试方便，可以放大到80x80um5um10um10um25um某层改版后可能出现的问题步进尺寸出现错误，阵列对不上。所以如果需要单独改某一层版，步进一定搞准背面对版标记的设计背面对准对芯片的要求：大于2x2cm2对版标记的设计：

2x2cm2,

标记间距大于1.2cm

小于2cm承片台两个背面对准显微镜相距最近的位置1.2cm2cm1.22.02寸和4寸片背面对版标记的距离2寸片，标记间距大于2cm,小